【事例集】レーザー干渉式リニア変位センサによるQA＆QC

PRナノメートル精度で変位・変形・振動を計測。超高真空・高磁場対応。最大５…

attocube(アトキューブ)社のレーザー干渉式変位センサは、物体のリニア運動の変動量を測定する装置です。 さまざまな材料や形状をもつ対象物の変位を、数ミリメートルから数メートルまでの広い範囲で測定できます。 小型モジュール式で、3軸まで構成可能です。 位置信号はクローズドループ位置決めシステムのフィードバックシグナルとして利用できます。 回転の振れ測定、振動測定、工作機械の校正など、高度な...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日本レーザー

【初展示製品多数】医薬品・化粧品の開発に関わるご担当者様必見！

PRインターフェックスWeek東京に出展します。ニッチだけど新しい、費用対…

ジャパンマシナリーは、「インターフェックスWeek東京」に出展いたします。 一つのカテゴリーに収まりきらない製品群を持つ当社のブースでは、 商品開発、プロセス開発、生産技術、製造、保全までのすべての ご担当者様必見です。 わずか1μL/秒の極小領域対応のシングルユース対応シングルユースマイクロ ドージングポンプ「QB2-SD」や、ゲームチェンジャーとなる世界最小クラスの 顕微ラマン分光センサー...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンマシナリー株式会社

【エッチング装置/アッシング装置部品の保護膜に】Y5O4 F7膜

Y5O4 F7膜は表面フッ素量変化が小さいのでエッチング装置のエージン…

半導体製造工程の一つであるドライエッチングプロセスにおいてウェハ処理を行うと、プロセスガス自体からの生成物やエッチング時の副生成物がチャンバ内壁やチャンバ内のパーツ表面に付着するといった現象が発生すします。これら堆積物の付着によってプロセスの初期と処理後のチャンバ内表面状態が変化することにより、プロセス条件の変動が発生します。このようなプロセス条件の変動を緩和するため、従来技術では製品処理前に類似...

メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー

真空センサ『730シリーズ』

コンパクトサイズでローコスト。半導体製造ラインなどで活躍。静電容量型

『730シリーズ』は、コンパクトサイズ・ローコスト・高精度を実現した セトラシステムズ社の真空センサです。静電容量の変化を検知して、 リニアな直流電圧信号に変換し出力します。 温度補償範囲が広く耐圧性能に優れるため、様々な用途に使用でき、 太陽光パネル、半導体、石油化学など幅広い分野のプロセス制御で 重要な真空圧力範囲の測定に活躍します。 【特長】 ■極めて低いノイズ影響 ...

メーカー・取り扱い企業： エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社　ST事業部

【高耐食性Y2O3/YOF膜事例】エッチング装置部品の保護膜に

溶射やエアロゾルデポジションによる保護膜より遥かに耐食性・耐プラズマ性…

エッチング装置内部材の保護膜に、イオンアシスト蒸着法による耐プラズマ性の高耐食性Y2O3膜（酸化イットリウム膜）, YOF膜（酸フッ化イットリウム膜）を使用した事例をご紹介します。 半導体の微細化は急速に進んでいます。半導体製造競争は歩留まりと装置の稼働時間が大きなカギを握っています。エッチング装置部品の保護膜は、溶射やエアロゾルデポジションによる酸化イットリウム膜が使われていましたが、エッチン...

メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー

ドライエッチング装置

RIEモードとDPモードの切り替えが可能！特殊表面処理によるメタルコン…

【仕様（抜粋）】 ■基板サイズ：最大φ12インチ ■プラズマソース：CCP型 ■真空排気 　・低真空プロセス：MBP+DP 　・高真空プロセス：TMP+DP ■圧力制御：APC制御 ■プロセスガス：F系、Cl2、Ar、O2、他 ■制御操作 　・制御：PLC 　・操作：タッチパネルまたはPC...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

アッシング装置

エッチング、アッシング及びイオンクリーニングを可能とする汎用性に優れた…

【仕様】 ■基板サイズ：最大φ12インチ ■プラズマソース：CCP型 ■真空排気 ・低真空プロセス：MBP+DP ・高真空プロセス：TMP+DP ■圧力制御：APC制御 ■プロセスガス：F系、Cl2、Ar、O2、他 ※PDF資料も合わせてご覧ください。 ※お気軽にお問い合わせ下...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

ICPエッチング装置　RIE-800iPC/RIE-400iPC

真空カセット室を備え、プロセス再現性や安定性に優れた本格生産用装置をご…

『RIE-800iPC/RIE-400iPC』は、SiCトレンチ形状の25枚連続加工の安定性を 誇るICPエッチング装置です。 高RFパワー(2 kW以上)を効率よく安定して印加可能で、良好な均一性を実現。 また、反応室に直結した排気システムを採用することで、小流量・ 低圧力域から大流量・高圧力域の幅広いプロセスウィンドウを実現しています。 【特長】 <RIE-800iPC...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

量産用プラズマクリーニング装置（大型プラズマクリーナー）

自動化量産ラインに対応。インラインタイプ、枚葉タイプ、柔軟なハード構成…

先端薄膜デバイスで実績豊富なチャンバ構成をクリーニング用途に展開。 高いクリーニング効果を各種基板で実現。 基板と生産量に合わせて柔軟なハード構成と高いプロセス能力 クリーニング・ディスカム・アッシング・親水処理、撥水膜処理、各種用途に対応。 基板実装から素材表面処理まで実績豊富な大型プラズマ装置...平行平板型高周波真空プラズマによる各種基板のクリーニング・親水化に実績 プリント基板、...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

Aera FC-R7700シリーズ　マスフローコントローラ

経済性に優れた高精度ラバーシール

半導体、FPD、データ記憶装置、産業用真空機器、工業用コーティング等の市場では、CVD、PVD、エッチング、イオン注入、スパッタリング、熱酸化膜、光学ガラスコーティング、光ファイバー、表面処理、その他のコーティングプロセスを含め、非腐食性ガスを使用したアプリケーションが展開されています。 FC-R7700シリーズは、高い信頼性と優れた性能でプロセスおよび装置エンジニアの業務の円滑化に対応いたしま...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社

樹脂製多目的スピンプロセッサ『POLOS』＊デモ機貸有り

１台あればコーティング・洗浄・エッチングなど様々なプロセスに対応ができ…

コーティング、洗浄、エッチング、それぞれの工程を別機で処理していて工数がかかっていて短縮したい…そんなお悩みをお持ちの方いらっしゃいませんか。 協同インターナショナルの樹脂製多目的スピンプロセッサ『POLOS』が解決します。 １台でコーティング、洗浄、エッチングなど、さまざまなプロセスに対応可能です！ またデスクトップタイプ、ミニウェットステーションとタイプも選べます。 【特　長】 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社協同インターナショナル

真空蒸着装置『MiniLab-080』

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…

80ℓ容積 400(W)x400(D)x570(H)mm D型ボックスチャンバーで構成されるML-080は、060と同等の構成で更にチャンバーを高くすることによりTS距離調整範囲が長く、大口径基板での蒸着時の膜均一性が向上、真空蒸着に最適なモデルです。ロードロック機構も追加できるML-060の上位機種。060同様に、コンパクトながら抵抗加熱蒸着（金属/絶縁物/有機材料）,EB蒸着, RF/DC/P...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

80ℓ大容積MiniLab-080チャンバーをグローブボックスベンチ内に収納可能な構造にしたMiniLab-080のグローブボックスモデル。作業ベンチを最大限活用できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面開閉ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。 ・最...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

コンパクト/省スペース、ハイスペック薄膜実験装置 下記蒸着源から組合せが可能 ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ・有機蒸着源 x 最大4 ・電子ビーム蒸着 ・2inchマグネトロンスパッタリングカソード x 4 ・プラズマエッチング：メインチャンバー、ロードロックチャンバーのいずれでも設置可能 【スモールフットプリント・省スペース】 ・デュアルラックタイプ（MiniLab-060）...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社