「小型工作機械」総合カタログ【試作・研究開発・小ロット生産用】

PR【最新版カタログ進呈中】試作・研究開発・小ロット生産用の小型旋盤・フラ…

長年の工作機械製造技術を結集した独自の品質管理システムのもとに、丁寧に仕上げられる高品質の小型旋盤・フライス盤のカタログです。 操作が容易な上、コストパフォーマンスが高いことから、各企業、大学、研究機関などに多数の販売実績があります。 【掲載内容】 ■小型旋盤　　■小型フライス盤　　■小型ラジアルボール盤　　■万能工作機械　　 ■小型帯鋸盤　　■折曲機　　　■ミニハンドプレス　　　■切断機　　...

メーカー・取り扱い企業： 寿貿易株式会社_株式会社メカニクス

【納入事例】X線計測実験真空容器用高真空排気システム

PRドライ真空ポンプは排気流路に油を用いず、オイルフリーでクリーンな排気を…

関西光量子科学研究所(木津)に、「X線計測実験真空容器用高真空排気 システム」を納入した事例をご紹介いたします。 本排気ユニットは、真空容器に直接取り付けられる300L/sクラスの磁気軸受形 ターボ分子ポンプTG390Mと、ピラニ型と冷陰極電離真空計の複合型真空計、 そしてそれらのコントローラと補助ポンプ等を載せたカートから成ります。 真空容器に取り付けるターボ分子ポンプは磁気軸...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社大阪真空機器製作所

ウエハー露光装置（マスクアライナー） 研究開発用

研究開発用手動タイプ

概要 研究開発，小ロット生産まで多用途に対応が可能 ハードコンタクト，ソフトコンタクト，プロキシティーを選択し使用用途に合わせて提案...仕様 ウエハ：12inch　6～8inch　4～6inch　2～4inch　　 角型等　各種サイズに対応可能 ワーク搬送 ：マニュアル　　　　　　 アライメント：マニュアルアライメント、オートアライメント　選択 G...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社清和光学製作所

フィルム貼付装置｜マニュアルマウンター FM-224シリーズ

研究開発を始め、セミプロダクション用途まで目的に合わせ幅広く装置の選択…

ウェハーマウンター／テープマウンターとは、『ウェハー』『ダイシングフレーム』『各種フィルム/テープ』を気泡なしで瞬時に貼り付けるテープ貼り付け装置です。 ダイシングの工程で重要とされる”ウェハーへの均一なテープ貼り付け”を、容易に行うことができます。 テクノビジョンのウェハーマウンターは、研究開発を始めセミプロダクション用途まで、目的に合わせ幅広く装置の選択ができます。 マニュアルタ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノビジョン 本社

レーザー直接描画装置『DWL 66＋』

研究開発向け高性能レーザーリソグラフィ装置

『DWL 66＋』は、研究開発用途および小ロット生産やマスク作成やマスクレス露光に適した、高解像度のレーザー直接描画装置です。 マイクロストラクチャの製作と分析に必要な機能を、標準システムとして 装備。 処理能力...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

各種熱処理装置

半導体や太陽電池の生産・研究開発設備！独自の高温処理技術による高温熱処…

大村技研では、独自の高温処理技術による高温熱処理炉を生産設備および 研究開発向けに提供します。 主要製作装置としては、拡散炉、エピタキシャル装置、CVD装置、 エッチング装置、半導体製造設置用コントローラーなどがあります。 また、小口径基板に適した縦型電気炉や、太陽電池製造用横型拡散炉、 横型CVD装置・LC6400シリーズなどもラインアップされています。 【特長】 ■生...

メーカー・取り扱い企業： 大村技研株式会社

試作開発用マニュアル露光装置

研究開発に便利な手動アライナー！！！

<特徴> 研究開発に高精度又使いやすい設計の手動アライナーを提供します。 ...2-6インチに対応し（角基板も対応）アライメントは手動、Z軸制御は自動にし、Gap精度を上げ、使いやすい装置にしています。 片面、両面アライメントに対応します。 テーブルトップから、除振台付属等、豊富なラインナップを持っています。 両面アライメントは、両側光学系、IR光学系選択可能です...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社清和光学製作所

多目的処理装置（スピンプロセッサー）

洗浄、現像、エッチング等カスタマイズ可能な、低価格多目的処理装置

研究・開発に最適なコンパクトサイズの卓上型多目的処理装置です。 【特長】 ・エッチング、洗浄、現像、剥離、乾燥など用途に合わせてカスタマイズ可能。 ・ＰＶＣボディー素材で酸、溶剤に対応。 ・卓上型なので場所を取らず、低価格にてご提供可能。 【仕様】 ワークサイズ：Φ8インチ、もしくは200×200まで クリーンユニット：ＨＥＰＡフィルター 洗浄方式：スピン洗浄＋ブラシ又...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社トービ

大型機・自立型スピンコーター

大型基板にも対応！研究、実験用にも適したアクティブの自立型スピンコータ…

アクティブのスピンコーターは大型基板にも対応可能です。 対応基板サイズ（カップ径）が大きくなると装置サイズも大きく重くなります。卓上にのせると作業高さが使いにくくなるのもあり、自立型として製作しております。自立型はアジャスターを縮めることでキャスターが接地するので移動も楽です。 対応基板サイズ（カップ径）の小さい卓上型スピンコーター同様、インターロックセンサー付き安全カバー、基板吸着圧...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アクティブ

マイクロマニピュレータ AMS-1000

小部品を、数グラムで把持・μｍの位置決めが可能です。

数グラムで把持・μmの位置決めが可能。 ●精密対象動作を保証（特許出願中） ★詳しくは、資料・カタログを上記ボタンよりご請求ください。 ＝＝＝＝＝　特　長　＝＝＝＝＝ ◆研究及び小ロット精密組立作業用に最適。 　各種モジュールの取り付けが可能。 ◆独自開発の小型XYZステージにより顕微鏡周辺での作業性が格段にアップします。占有容積が、従来の１／８以下を実現。（ガイドレー...

メーカー・取り扱い企業： アクテス京三株式会社 技術センター

スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』

高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

高機能 ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa（*1x10-4Paまで最速30分！） ● スパッタ源 x 3：連続多層膜膜制御, 同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション：上下・回転、ヒータ、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ源3源+3系統（MFC制御）、RF/DC PSUの増設（最大2電源まで）...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

サーマルALD装置『Savannah G2』

研究開発用、小規模バッチ用！簡易除害ユニットALD Shield Va…

『Savannah G2』は、シンプルで使いやすく研究開発から 少規模の量産まで対応可能な柔軟性のあるサーマル式のALD装置です。 高い成膜性能をシンプルなシステムで実現しており、 用途と予算に合わせた構成選択可能。 ご要望の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■高い成膜性能をシンプルなシステムで実現 ■超高アスペクト比(＜2000：1)対応モード ■用途と...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

卓上型ワイヤボンダ・ボンディングツール　総合カタログ

高精度・低価格・多機能…卓上型ワイヤボンダとボンディングツールの総合カ…

高精度のボンディングと優れた操作性で研究開発に最適なＴＰＴ社の卓上型ワイヤボンダを種類豊富に取り揃えた総合カタログです。この１台で、ウェッジボンディングとボールボンディングが可能です。また、キャピラリやウェッジツールなど各種ボンディングツールも取り扱っています。サンプルの依頼やツールの選定などお気軽にご相談ください。 【掲載製品】（一部紹介） ○卓上型ワイヤボンダ →セミオート/マニュア...

メーカー・取り扱い企業： TPTジャパン株式会社

シングルチャンバー型「ウェハ用多目的スピン・スクラブ洗浄装置」

1チャンバーで異物・金属汚染を取り除く省スペースな洗浄装置！洗浄方法の…

各種ウェハの界面活性剤・純水スクラブ洗浄、薬液スプレー、メガソニックスポットシャワー、スピン乾燥までの工程を１つのチャンバーで行う枚葉装置 ◇　シングルチャンバーで完結する省スペース型 ◇　Si（シリコン）、LT（リチウムタンタレート）やSiC（炭化ケイ素）他、 　　各種ウェハに対応 ◇　異物（有機物・無機物）の除去、金属イオンの除去 ◇　洗浄項目・装置構成の変更に柔軟に対応 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

株式会社メイコー　事業紹介

「創造力」「開発力」「技術力」と「スピード」で新技術・新製品の価値を創…

株式会社メイコーは、「創造力」「開発力」「技術力」と「スピード」で新技術・新製品の価値を創造し、地域社会に貢献するもの作りナンバーワン企業です。 弊社は各種リソースのバランスを図り、主力ビジネスであるFPD（液晶、プラズマディスプレイ、有機EL）関連事業、半導体関連事業、計測機器事業 、自動化・省力化機器関連事業、クリーンエネルギー（太陽電池、燃料電池、etc.）関連事業、超大型・精密機械加工...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社メイコー

株式会社アドバンテック　事業紹介

確かな技術力と強固なグローバルネットワークを武器に世界へと挑みます。

拠点を活用することによる量産時のコストダウンが可能 ○配管製作は勿論、製缶、組立まで実施 ○３次元測定器などによる徹底した品質管理 ［テストウエハー事業］ ○半導体最先端プロセスに関わる研究開発用途の各種テストウエハーを提供 ○ニーズに合った最適な製品を高品質、少量多品種にて柔軟に対応 ［環境事業］ ○環境ネットワークを形成しながら、グローバルな環境事業を推進 →カーボン・オフセ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アドバンテック 愛媛本社

瞬間真空高温ヒータープレス

ハイテク・ナノテク・新素材の研究試験機として高精度・手頃な価格で

■研究・実験・開発用向け瞬時高温真空プレス コンパクトサイズで場所をとらない為研究室などに容易に設置できます。 ■最大400℃ 常用温度350℃（最大400℃） ■瞬時真空 1kPaを10〜30秒の短時間で真空引きできます。 ■省スペース 省電力、軽量、小型で操作がしやすく、工場内をキャスターにて移動することができます。 ■保守点検 空気圧作動のため保守点検が簡単です。 ■特注...

メーカー・取り扱い企業： ミカド機器販売株式会社

両面同時露光マスクアライナー『BS425』『BS620』

ウェハ表裏同時露光！セミオート動作で中ロット生産に対応

両面同時露光マスクアライナー『BS425』『BS620』は、研究開発から小中ロット製造用として多くの出荷実績がある両面同時露光式マスクアライナーです。 一次露光は両面同時、二次露光以降は片面づつ露光する方法を採用するため、シンプルで応用が利き、ニーズに合わせたカスタマイズも承ります。 二次露光以降は片面露光となるので別途「試料台」が必要です。 お気軽にお問い合わせください。 【...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ナノテック

シングルチャンバー型「ウェハ用多目的スピン・スクラブ洗浄装置」

1チャンバーで異物・金属汚染を取り除く省スペースな洗浄装置！洗浄方法の…

各種ウェハの界面活性剤・純水スクラブ洗浄、薬液スプレー、メガソニックスポットシャワー、スピン乾燥までの工程を１つのチャンバーで行う枚葉装置 ◇　シングルチャンバーで完結する省スペース型 ◇　Si（シリコン）、LT（リチウムタンタレート）やSiC（炭化ケイ素）他、 　　各種ウェハに対応 ◇　異物（有機物・無機物）の除去、金属イオンの除去 ◇　洗浄項目・装置構成の変更に柔軟に対応 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクニカルフィット

マスクレスアライナー『MLA300』

プロダクション向け高性能マスクレスアライナー

MLA300は、研究開発アプリケーション、ラピッドプロトタイピング、および少量から中量生産の領域では既に標準となっているマスクレスアライナーの工業生産バージョンです。MLA300は、生産工場で期待される高スループットと高可用性を維持しながら、2 µmのラインアンドスペースの高解像度を実現します。 ワークフローを簡素化するための自動化に対応するために、ウェーハロボットとロードポート、および生産環境用...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

プラズマ/サーマルALD装置『Fiji G2』

500℃ウエハステージ！プラズマダメージの無いリモートICPソース採用

『Fiji G2』は、サーマル式とプラズマ式の研究開発用ALD装置です。 プラズマ源にICPリモートプラズマを採用し、基板搬送に 真空ロードロックを搭載し、高品質の酸化膜、窒化膜、メタル膜の ALD膜が成膜できる設計。 また、簡易除害...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

立体レジスト塗布装置「スプレーコーター　DC110/DC210」

スピンナークラスの薄膜から超厚膜まで対応。膜厚は１μｍ～６００μｍまで…

MEMSデバイス、及び各種半導体研究用に開発されたスプレーコーター ...【特徴】 ○微細粒子化が可能なスプレーノズルにより 　サブストレート上の傾斜面、台形や直角頂点部といった 　従来のスピンナーで塗布が困難であった部分にも均一な膜を形成できる ○スピンナーでは実現が難しいキャビティ、ビアホール 　トレンチ構造へのレジスト埋め込み塗布も可能 ○塗布膜厚は、スピンナークラスの薄...

メーカー・取り扱い企業： 三明電子産業株式会社

洗浄装置・UV/O3洗浄装置・ドライ洗浄装置・クリーナー(クリーニング装置)・ストリッパー(ストリッピング装置)

洗浄装置・UV/O3洗浄装置・ドライ洗浄装置・クリーナー(クリーニング…

フォトレジストアッシング、シリコンウエハークリーニング、クロムマスククリーニングなど各種半導体プロセスの完全ドライ処理を高濃度オゾンと紫外線照射の相互作用で効率よく行うことを目的として開発された研究開発用の洗浄装置です。...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

ナノインプリント装置

繰り返し精度＝20nm!!!

精度繰り返し位置決め精度にて ステップ＆リピートし、リソグラフィーの代替パターニングとして （テラバイト光ディスク、ＬＥＤ、マイクロレンズ、拡散フィルム、高密度パッケージ等）に最適です。 研究開発用、量産に対応いたします。 超高精度　　繰り返し精度＝20nm ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社清和光学製作所

ウエハ洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置（研究開発用）」

ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　 ：φ2”～φ8”　厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクニカルフィット

ウエハ洗浄装置「両面スクラブ洗浄装置（研究開発用）」

ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　 ：φ2”～φ8”　厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクニカルフィット

半自動真空ホットプレートチャンバー「PH-224S-200型」

最高温度400℃！小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。

半自動真空ホットプレートチャンバー「PH-224S-200型」は、加熱源にセラミックヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応いたします。 温度コントローラーは、専用タイプによりプロセスの確認に必要なデータを取得（アナログ出力）できます。 【特徴】 ○空冷にて、最高温度400℃対応 ○小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適 ○観察窓により、ワークの状態が視認できる...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー