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PR難加工材用の切削工具、半導体向けの極細切削工具などの高硬度化・長寿命化…
水素フリーDLC(ta-C)『TETRAスリック』は、 高硬度で優れた耐摩耗性を実現するコーティングです。 薄膜仕様のため、厳しい精度が求められる加工物に適しています。 高い密着性で長寿命化が実現できるほか、耐熱特性に優れているのも特長です。 【用途例】 ■アルミニウムやチタン等の難加工材用切削工具・極細ドリルなど ■精密金型(半導体封止モールド用金型・レンズ成形・曲げ型・樹脂...
メーカー・取り扱い企業: 日本コーティングセンター(JCC)株式会社
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『紫外線洗浄・改質ガイド』※仕組、評価方法、アプリケーション例も
PR電子部品製造等における洗浄工程の改善ヒントに!初心者にもわかりやすく解…
「紫外線による洗浄・改質技術」は、電子部品、半導体、光学製品などの 製造プロセスで幅広く活用され、ガラス、樹脂、金属などの各種素材に 密着度や親水性の向上、濡れ性改善などの様々な効果を生み出す技術です。 【紫外線洗浄改質の特徴】 ・大気中での処理が可能なドライプロセス ・製品表面へのダメージが極めて少ない(材料・条件による) ・様々な形状や大きさの製品に対応可能 『紫外線洗浄...
メーカー・取り扱い企業: 千代田交易株式会社
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複合化、表面改質、コーティング、カプセル化など。様々な粒子設計のパート…
『COMPOSI』は、新しい粒子を創造する粒子設計装置です。 単純な混合・分散から複合化、表面改質、コーティングなどの高度な 粒子設計まで様々な処理が可能。強力なせん断作用により核となる 母粒子表面に子粒子を強固に固定することで安定した複合粒子が得られます。 また、非常にシンプルな構...
メーカー・取り扱い企業: 日本コークス工業株式会社
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細胞と接する面を細胞にやさしく表面改質!親水・疎水基の密度コントロール
『真空プラズマ照射装置』は、細胞と接する面を細胞にやさしく 表面改質する装置です。樹脂表面を親水化にも撥水化にも、自由自在に改質でき 最適な条件で処理が可能です。 様々な材料に対し、目的に最適なプラズマ照射条件を見出します。 また、受託処理も承っておりま...
メーカー・取り扱い企業: エステック株式会社
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ウェット処理との組合わせ自動処理でプロセスの高品質化
■エッチング前処理、レジスト除去前処理、剥離後洗浄、接着前処理等に有効 ◎エッチング前処理…親水化、均一性向上 ◎レジスト除去前処理…レジスト最表面硬化層改質除去 ◎剥離後洗浄…微量レジスト残差の除去 ◎接着前処理…有機物除去で接着強度Up ■高い光子エネルギーで分子結合を分解 ■基板やデバイスパターンへの放電やダメージが無い ■瞬時点灯/消灯が可能 ■水銀不使用で環境にや...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ソフエンジニアリング
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アジア大手電子機器メーカーに実績多数!様々な分野での表面処理を提案しま…
ニング用途:プリント基板メッキ工程前の親水性向上に ■真空プラズマクリーナ ・レジスト剥離後の残渣除去、ICボンディング前処理に ■大気圧プラズマ ・フィルム、ガラス基板などの有機物除去・表面改質・表面粗化 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社日立ハイテク
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アジア有力企業において多数の実績あり。
極小箇所をピンポイント処理します。 ■処理対象 対象ワーク表面の改質/粗化(接合強度の向上、密着性の向上) 対象ワーク表面の有機物除去 【特徴】 ■処理幅の狭い面積に最適: 10/20/35mm ■ロボット機構との組み合わせにより立体物への処理が可能 ■各種反応ガスの使用が可能: CDA(Clean Dry Air), N2, Ar,O2,等 詳しくはカタログ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社日立ハイテク
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高周波時代の絶縁試験機に好適!高電圧・高速のSiCインパルス発生器をご…
当社が取り扱う『SiCインパルス発生器』をご紹介します。 インバータモータ巻線などの絶縁試験、ナノプラズマ高繰り返し 放電を用いた表面改質、ソリューションプラズマ(液中プラズマ)を 用いた有害物質の分解などに好適。 10kV出力までをラインアップ予定です。 ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。 【仕様】 ■...
メーカー・取り扱い企業: ネクスファイ・テクノロジー株式会社
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アジア有力企業において多数の実績あり。
ることが出来ます。 ■処理対象 対象ワーク表面の改質/粗化(接合強度の向上、密着性の向上) 対象ワーク表面の有機物除去 【特徴】 ■幅広対応: ~2,250mm ■優れた表面改質性能 ■物理的、化学的に処理が可能 ■メンテナンスフリー ■各種反応ガスの使用が可能: CDA(Clean Dry Air), N2, Ar, O2等 詳しくはカタログをダウンロード...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社日立ハイテク
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アジア有力企業において多数の実績あり。
プラズマ発生部と処理部を完全に乖離します。 処理はラジカル成分のみで実施します。 ■処理対象 対象ワーク表面の改質(接合強度の向上、密着性の向上) 対象ワーク表面の有機物除去 【特徴】 ■電子・イオンのアタックがなくラジカルのみでの化学的な処理のため処理膜へのダメージを低減 ■電極形成後の導電フィルム・ガラスの処理に最適 ■各種反応ガスの使用が可能: CDA(Clean...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社日立ハイテク
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