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17件 - メーカー・取り扱い企業
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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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PRプロセス装置に連続で薬液を供給
本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である 【仕様】 ○外形寸法:W1720*D810*H2010 ○重量:約800kg 本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である。最大、2種類2系統の薬液を供給することが出来ます。希釈濃度や供給量など動作に関する詳細はご希望内容に対応させていただきます。...●その他機能や詳細については、カタログダウ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクノメイト
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大気圧Plasma装置の開発・製造・販売累計1200台以上の実績(20…
イー・スクエアは、1999年08月 IC製造等で排出されるPFC(パーフロロカーボン)を除去するプラズマ除去の応用で地球環境への社会貢献を目的として設立されました。 2001年10月、大気圧プラズマ装置を利用した表面改質処理装置の開発に着手。 大気圧プラズマ装置によるレジストの剥離実験が、LCD製造工程に多用される表面改質装置へと繋がり、2002年08月 表面処理装置が完成、さらに、コーティング・...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イー・スクエア
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従来比50%の性能UP!低N2消費(約45%削減)の大気圧プラズマ装置
大気圧プラズマ装置 「Preciseシリーズ」は、窒素ガスをベースとし、誘電体バリア放電を利用しワーク自体を電磁界エリアから隔離し、リアクター内で励起されたラジカル等のみを使用した装置です。 これによりワークへのダメ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イー・スクエア
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大気圧プラズマ装置による分子結合接着「ダウンストリーム型大気圧プラズマ…
大気圧プラズマ装置を用いたミリ波に対応するFCCL製造関連に適した伝送ロスを排除した接着技術であり、分子結合を利用した接着剤レス接着であるため信頼性が高く、ワーク表面のフラットな状態をキープしながら、フッ素樹脂やその...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イー・スクエア
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"大気圧プラズマ装置の処理形態"や"当社独自の装置特長"などについて解…
ここではコロナ処理や、アーク等を用いた装置ではなく、 完全なるバルクプラズマを発生させた大気圧プラズマ装置を主体に置き、説明しております。 特殊電極構造を用い、窒素ガス・希ガス等をベースに高周波電力を電極に印可し、 高密度プラズマを発生さ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イー・スクエア
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防爆型リチウムイオン電池の製造工程で、時間のかかる電解液の注入含浸時間…
弊社の大気圧プラズマ装置『Precise』は、 プラズマ処理により正・負電極部やセパレータへの表面を活性化することで、 リチウムイオン電池への電解液の注入含浸時間の短縮が可能。 また、同処理はプラズマ発生部から隔離され、...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イー・スクエア
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【大気圧プラズマ装置 課題解決例】テフロン表面への超親水化処理
大気圧プラズマ装置によるテフロン(PTFE・PFA)への超親水化、5度…
大気圧プラズマ装置による課題解決事例をご紹介いたします。 この度、フッ素樹脂(PTFE、PFA)への表面改質を 5 度近傍(純水での接触角)に成功しました。 従来 50 度近傍が最大値でしたが、 今回レシピ等の...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イー・スクエア
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大気圧プラズマ装置による効率的な表面処理を実現!バグフィルターにて捕獲…
大気圧プラズマ装置での粒子の分散性、粒子への親水化、 金属粒子への表面還元を高効率に処理ができる方法を開発しました。 ダウンストリーム型で幅広、長尺ワークへの有利な処理方法を生かした構造を 利用し、ラジカルをキャビ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イー・スクエア
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大気圧プラズマ装置を用いたダイレクト接着接合時のラミ前ドライ処理
ダウンストリーム型大気圧プラズマ装置による分子結合接着・接合(ダイレク…
弊社ダウンストリーム型プラズマ装置は処理時に生ずる種々のダメージ等を排除し、 クリーン処理、かつ、スムース表面での接着が可能で、5G,6G向けFCCL製造関連等や、 2次電池市場でのカーボンフィルム等、電極製造関連の異種材接着、...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イー・スクエア
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大気圧プラズマにおけるダメージを与えない表面機能性付与の新提案
大気圧、ダウンストリーム型プラズマを用いることにより表面ダメージ等を排…
株式会社イー・スクエアは2001年に大気圧プラズマ装置をリリース以降、1200台以上(2021年時点 国内外表示デバイス市場・その他)の販売実績を誇る大気圧プラズマ装置専門メーカーです。 今回「ワーク表面」や「電子デバイス」にダメージを与えない表面...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イー・スクエア
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伝送ロスを低減するダイレクト接着技術・無電解メッキ前処理に!
大気圧プラズマ装置を利用した5G・6G向けプリント基板やFCCL製造プロセスに寄与します。 弊社の『Precise』はプラズマ発生部を処理部と分離されているため(ダウンストリーム型)、 処理方面にダメージを与えずに...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イー・スクエア
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【異種接合・接着剤レス直接接合】密着性・親水性などが向上!炭素繊維を高…
乾燥工程(ドライプロセス)が不要 ■目的とする接触角をコントロールできる ■活性ガス(OHラジカル)の侵入部分全て処理ができる ■種々のガスを添加することで、撥水・還元処理やエッチング、CVD装置プラズマソースとして簡便に使用できる ■装置がコンパクト(省スペース) ■親水処理では排ガス等の後処理も不要 ■処理表面への物理的ダメージがない(ダウンストリーム型) ■処理後の帯電がない(...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イー・スクエア
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大気圧プラズマ装置「AP Plasma Precise II」
ダメージフリー・パーティクルフリーの大気圧プラズマ装置
大気圧プラズマ装置「AP Plasma Precise II」は、窒素ガスをベースとし、誘電体バリア放電を利用しワーク自体を電磁界エリアから隔離し、リアクター内で励起されたラジカル等のみを使用した装置です。 これによ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イー・スクエア
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大気圧プラズマ装置によるCFRP・長尺繊維束向けの高効率表面改質
CFRP、グラスファイバー、長尺繊維への表面処理
大気圧プラズマ装置Preciseシリーズは、窒素ガスをベースとし、誘電体バリア放電を利用しワーク自体を電磁界エリアから隔離し、リアクター内で励起されたラジカル等のみを使用した装置です。 これによりワークへのダメージを...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イー・スクエア
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大気圧プラズマ装置を用いた効率的な繊維束状用表面改質方法
繊維束状用表面改質装置は、繊維束状物をターゲットにカーボンファイバー、ブラスファイバー、ポリマー系ファイバー等繊維束状物を束の中まで効率よく親水化処理が可能。 処理スピードに合わせたプラズマ処理幅を自由に設計することがで...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イー・スクエア
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大気圧プラズマ装置Cu/フッ素樹脂等へのダイレクト接着と超親水化
フッ素樹脂(PTFE・PFA)に粗面化不要のダイレクト接着が可能な大気…
5G・6Gを支える基板の材料として注目されているフッ素樹脂(PTFE・PFA)やLCPフィルムへの Cuメッキや直接接着が出来ます。 弊社の大気圧プラズマ表面処理装置『Precise』は、 プラズマ発生部を処理部と分離されているため(ダウンストリーム型)、 処理方面にダメージを与えることなく、分子結合を主体に 表面に官能基・水酸基を付与することで、液晶ポリマー(...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イー・スクエア
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大気圧プラズマ表面処理装置 FCCL市場向けダイレクト 接着技術
5G、6GFCCL市場でのダイレクト接着を可能にする、大気圧プラズマ装…
ミリ波機器向FCCL市場に需要が急増している基板材料表面を粗面化せずに、 ダイレクト接着する技術が求められています。 弊社、ダウンストリーム型大気圧プラズマ装置における接着・接合は分子結合を主体としいるため、 表面へのダメージや、プラズマによるUV光等からの科学的ダメージは全く無い処理が出来ます。 弊社の『Precise』はプラズマ発生部を処理部と分離さ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イー・スクエア
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大気圧プラズマ表面処理装置 5G向けプリント基板(FCCL)にも
液晶ポリマー、フッ素樹脂、PP等のフィルムまたは異種材とのダイレクト接…
弊社の大気圧プラズマ表面処理装置『Precise』は、 プラズマ発生部を処理部と分離されているため(ダウンストリーム型)、 処理方面にダメージを与えることなく、分子結合を主体に表面に 官能基・水酸基を付与することで、液晶ポリマー(...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イー・スクエア
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