フッ素系溶剤で精密洗浄とランニングコスト削減を実現する洗浄装置

PRパーティクル除去性能と溶剤の低消耗の2つの機能を兼ね備えたフッ素系真空…

真空超音波洗浄装置「SAUBER/ザウバー」は、パーティクル除去に特化し、 精密洗浄に有効な多くの機能を搭載しながら溶剤の低消耗を実現する1槽式真空密閉型洗浄装置です。 従来から純水洗浄で行われているパーティクル除去・除塵洗浄をフッ素系溶剤洗浄で行うことが可能です。 純水と比べるとフッ素溶剤は排水が出ないクローズドシステムですので、工場側排水設備への負荷がありません。 また、液の再生利用も容易...

メーカー・取り扱い企業： 富士ハイテック株式会社

アンモニアを含む排水処理に！『アンモニア除去・回収装置』

PR【多数導入実績あり】必要に応じた濃度のアンモニアの回収が可能な装置のご…

アンモニア除去・回収装置は、廃水中のアンモニアを放散回収する過程で使用される装置です。 これにはスチームで放散する方法と空気で放散する方法があります。 アンモニアは、用途に応じた濃度のアンモニア水、もしくはアンモニアガスとして回収することが出来ます。 硫安として回収することも可能です。 触媒を組み合わせることで放散させたアンモニアを分解させ、無害化することも可能です。 【特長】 ■必要濃度でア...

メーカー・取り扱い企業： 第一エンジニアリング株式会社

【メタルマスク向け水系洗浄剤】VIGON SC 200

クリーム半田やSMTボンドを確実に洗浄。印刷機の裏拭き用としても使用可…

波式洗浄機に適しており、試し刷り基板の洗浄もできます。 フラックスのタイプによっては、片面が既にはんだ付けされている印刷ミス基板にも使用できます。 【特長】 ■フラックスを洗浄液中から分離除去できるため、洗浄液の長寿命化及びコスト低減 ■洗浄液の交換が不要のため、メンテナンスの省力化 ■低臭気、低VOC、環境対応成分の使用により作業性の改善と地球環境保全を実現 ■引火点なしのため安...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【パワー半導体・PCBフラックス洗浄剤】VIGON PE 180

パワーエレクトロニクス・プリント基板向け！銅表面の酸化膜除去にも優れま…

『VIGON PE 180』は、スプレー装置用にてパワーエレクトロニクスや プリント基板のフラックス除去用として開発された中性の水系洗浄剤です。 フラックスを確実に除去し、材料適合性に優れた製品。 リードフレーム、ディスクリート部品、パワーモジュール、 パワーLED、プリント基板などのフラッ...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【メタルマスク向け水系洗浄剤】VIGON TC 150

導電性ペースト用水系洗浄剤、メタルマスクやスクリーン版からの銀シンター…

当社で取り扱う、導電性ペースト用水系洗浄剤『VIGON TC 150』 をご紹介します。 メタルマスクやスクリーン版から、シリコン系やシリコンフリー、 銀・アルミニウムの導電性ペーストを除去するために 専用設計された製品。 銀シンターペーストの除去にもお使いいただけます。 【特長】 ■導電性ペーストに対し洗浄性が優れる ■メタルマスクやスクリーン版からの銀シンターペー...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【ディスペンサーノズル洗浄剤】ZESTRON HC

SMTボンド除去用、着脱可能なディスペンサーノズルであれば、簡単に洗浄…

『ZESTRON HC』は、ディスペンサーノズルなどの治具からSMT ボンド 除去用として開発された改良アルコール系洗浄剤です。 マウンターノズルのはんだ粒子やダスト除去にも使用可能。 手拭き洗浄にて手軽にご使用いただけるようエアゾール缶で ご提供しております。 ...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【浸漬洗浄向け 水系アルカリ性フラックス洗浄剤】VIGON US

超音波・噴流装置向け水系フラックス洗浄剤。優れた洗浄性・環境対応型！

VIGON US は、特に超音波や噴流、遠心分離洗浄装置向けの水系洗浄剤です。 電子基板やフリップチップ、CMOSからのすべてのタイプのフラックス残渣を除去します。 【特長】 ■超音波・噴流で優れたフラックス洗浄性能 ■水系のため低VOCで環境対応 ■フリップチップ・BGA洗浄に実績あり ■フラックス分離除去性能のため洗浄液の長寿命化 ...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

パワー半導体・プリント基板向け洗浄剤／VIGON PE 194A

弱アルカリ性フラックス洗浄剤、リンス性に優れ泡立ちせず、スプレーや浸漬…

VIGON PE 194A』は、スプレー・浸漬装置用に専用設計された 水系弱アルカリ性洗浄剤です。 感作性が高い金属、特にダイとの材料適合性に非常に優れており、 さらに短時間での銅の酸化膜除去が可能。 MPCテクノロジーを基にパワー半導体やリードフレーム、 ディスクリート部品、パワーLED、プリント基板から フラックス残渣を確実に除去します。 【特長】 ■パワー半導体や...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【メタルマスク・印刷ミス基板洗浄剤】VIGON SC 202

クリーム半田やSMTボンドを除去！水系洗浄剤のため引火点がなく、高い安…

VIGON SC 202は、メタルマスク洗浄においてクリーム半田やSMTボンドを確実に除去する水系洗浄剤です。 また、印刷ミス基板の洗浄にも優れています。 スプレー洗浄機及び超音波洗浄機での使用を推奨します。 【特長】 ■樹脂・接着剤・インキ・はんだペースト・フラックス汚れを...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【パワーエレクトロニクス向け洗浄剤】VIGON PE 305N

有機物や酸化膜を除去することが可能！複雑なパワーモジュール製造での使用…

『VIGON PE 305N』は、パワーエレクトロニクス向けに開発された 中性の水系洗浄剤(MPC)です。 高信頼性、高耐熱性のはんだペーストからフラックス残渣を 除去することができ、銅の酸化膜除去にも優れる製品。 はんだ付け後(ダイアタッチやヒートシンクはんだ付けなど)の パワーモジュール洗浄に適しています。 【特長】 ■フラックス除去に優れた効...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【パレット・フラックス回収装置洗浄剤】ATRON SP 200

引火点がなく安全、低VOCで環境に良い！液寿命が長く、洗浄性が安定した…

ATRON SP 200は水系のアルカリ界面活性剤系洗浄剤で、パレットやフラックス回収装置向けに焼き付いたフラックス除去用として開発されたものです。 メタルマスクからクリーム半田を除去することも可能です。 スプレー、超音波、エアーバブリング装置などの使用に適しています。 【特長】 ■パレット・リフロー炉部...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【パワー半導体向けフラックス洗浄剤】VIGON PE 215N

効果的なリンスにより、銅基板の再酸化を防ぐ！活性化された銅基板を長期間…

『VIGON PE 215N』は、スプレー洗浄装置用として専用設計された 中性の水系洗浄剤です。 MPCテクノロジーにより、パワーエレクトロニクス部品から フラックス残渣を確実に除去することができ、特にダイアタッチ後や ヒートシンクはんだ付け後のパワーモジュールの洗浄に好適。 また、材料適合性と銅酸化膜除去に優れており、次工程の ワイヤボンディング/接着ボンディングやモールデ...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【水系フラックス洗浄剤】ATRON AC 205

粘着性フラックスを除去することで、ボイドのないアンダーフィルに！画像解…

『ATRON AC 205』は、基板からフラックス残渣を除去するため 設計されたFASTテクノロジー系の洗浄剤です。 当製品はより短い処理時間かつ長寿命。 特に短い処理時間が要求される高圧インライン洗浄装置に好適。 また、パワーLEDやフリッ...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【フラックス洗浄とは？】フラックス洗浄はなぜ必要か？

フラックス洗浄を検討する上でのポイントについてご紹介します！

フラックス洗浄とはそもそも「洗浄」とは、ワーク(洗う物)表面に 存在している物質のうち、除去したい物質を選択的に取り除く事を 目的とした行為のことです。 つまりフラックス洗浄とは、プリント基板やパワーモジュール、 半導体パッケージ、リードフレームなどを保護しながら フラックス残...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【水系フラックス洗浄剤】VIGON N 640

浸漬洗浄での使用も適した製品！リンス回数を減らすことができます

『VIGON N 640』は、プリント基板のフラックス除去のために専用設計 された中性洗浄剤です。 バッチ式スプレー洗浄機での使用に好適。一般に除去するのが難しい 先進のクリーム半田やフラックスに対して優れた洗浄性があります。 また、銅やニ...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【半導体向けフラックス洗浄剤】HYDRON SE 230A

表面張力が低いことが特長！狭い場所にも良好な洗浄結果をもたらします

タイプ水系洗浄剤です。 リードフレームやディスクリート部品、パワーモジュール、 パワーLED、フリップチップやCMOSといった各種半導体から ダイアタッチ時に発生するフラックス残渣を確実に除去。 また、ワイヤボンディングやモールディングなど後工程での 銅基板の酸化膜除去にも優れています。 【特長】 ■銅基板をシミなく活性化、活性化された表面を一定期間保持させる ■感作性...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【リフロー炉内洗浄剤】VIGON RC 303

リフロー炉内・チェーン・コンベア爪洗浄に好適の水系フラックス洗浄剤。作…

VIGON RC 303 はリフロー炉・はんだ槽から、あらゆる種類の焼き付いたフラックス残渣を除去ことができます。 堆積固着したフラックスや基板からの発散物をしっかりと除去します。 【特長】 ■優れた洗浄性 ■残渣なしの成分組成 ■安全性の高い水系洗浄剤 ■リフロー炉内・チェーン...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【メタルマスク向け洗浄剤】ZESTRON SD 301

高いコンタミ保持能力のため、長寿命で洗浄コストを削減！

『ZESTRON SD 301』は、メタルマスクやスクリーンから防爆仕様の スプレー洗浄機によるクリーム半田・SMT 接着剤・厚膜ペースト除去用 の溶剤系洗浄剤です。 速乾性があり、洗浄工程の短縮ができます。また、印刷ミス基板の 洗浄にも効果的です。 高引火点のため手拭き洗浄や印刷機での裏拭きにも使用可能です。 【特...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【パレット・リフロー炉部材洗浄剤】ATRON SP 300

焼き付いたフラックスを確実に除去！水系のアルカリ性界面活性剤。

ATRON SP 300 は水系のアルカリ性界面活性剤で、特にリフロー炉部材、パレットなどから焼きついたフラックスを除去するために開発されたものです。 外部洗浄ユニットとエアバブリングによるバッチ洗浄システムにご使用いただけます。 【特長】 ■パレット・リフロー炉部品などの固着したフラックス洗浄に好適 ■...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【中性水系フラックス洗浄剤】VIGON N 600

プリント基板（パワーモジュール・パワーLED・フリップチップ等）の洗浄…

VIGON N 600 は中性水系フラックス洗浄剤です。 インライン・バッチ式スプレー、浸漬方式用として開発されました。 中性でなおかつ優れた洗浄性と基板から幅広い種類のフラックス残渣を除去する能力は今までにない洗浄剤です。 また中性であるため、本洗浄剤は感作性の高い金属やポリマーに対して高い材料適合性を持ち合わせています。 【特長】 ■pH中性のため、優れた材料適合性 ■...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【パワー半導体・プリント基板洗浄剤】VIGON PE 190A

引火点を持たないため防爆設備を必要としない！様々なタイプのスプレー装置…

た水系アルカリ性洗浄剤です。 MPCテクノロジーを基にリードフレームやディスクリート部品、 パワーモジュール、パワーLED、プリント基板、特に低スタンド部品 下部からフラックス残渣を確実に除去。 また、ひどく酸化したり汚れの強い銅表面に対し優れた効果を発揮し、 ワイヤボンディング、接着ボンディングやモールディングなどの 後工程において材料適合性が優れています。 【特長】 ...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【水系フラックス洗浄剤】ATRON AC 207

インラインまたはバッチ式洗浄装置にて高中水圧で使用可能！

ミ、真鍮、ニッケル等 のような感作性が高い金属に対し優れた材料適合性を示します。 【特長】 ■低濃度・低温でも優れた洗浄性を発揮 ■幅広い種類における先進鉛フリー・共晶フラックスの素早い除去が可能 ■マイルドな組成によりはんだ付け部及びパッドの光沢を保つ ■粘着性フラックスを除去し、ボイドのないアンダーフィルを保つ ■パワーモジュールのワイヤボンディング品質が向上 ■長寿命かつ...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【半導体向け中性フラックス洗浄剤】HYDRON SE 220

中性のため、材料適合性にも優れる！ダイアタッチ時などに発生するフラック…

浄剤です。 リードフレーム、ディスクリート部品、パワーモジュール、パワーLED、 フリップチップやCMOS といった各種の半導体パッケージから ダイアタッチ時などに発生するフラックス残渣を除去。 一相構造のため、非常に優れた工程管理性と良好なリンス性を示し、 ワイヤボンディングやモールディングなどの後工程を好適な表面状態 に仕上げることができます。 【特長】 ■浸漬工程...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【水系フラックス洗浄剤】VIGON A 201

高いコンタミ許容量！長い液寿命、低いメンテナンスコスト、洗浄部品あたり…

ンドオフ部品下部など微細空間において スプレー洗浄で優れた性能を発揮するフラックス洗浄剤です。 低濃度で使用し、MPCベース洗浄剤である当製品は共晶・鉛フリー 無洗浄はんだのフラックス残渣除去に特に好適。 洗浄後に添加物なしで光沢のあるはんだ接合面を保ちます。 また、フリップチップおよびCMOSから粘着性フラックスを 除去するのに適しています。 【特長】 ■低スタンドオ...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【基板上のフラックス残渣可視化テストキット】Flux Test

残渣を変色させ一目でフラックス残渣が分かる！簡単・安価なフラックス残渣…

しているかを可視化することができ、部品信頼性評価の改善を保証いたします。 但し、ハロゲン活性剤ベースの残渣はZESTRON Flux Test では検知できません。 ※フラックス残渣の完全な除去については、洗浄剤・装置・工程のご提案、また洗浄試験の実施を無償で対応しております。 　是非一度ゼストロンジャパンにご相談下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【基板洗浄を検討する上でのステップを解説】基板洗浄とは？

高信頼性を確保するためには、洗浄は必須！検討ポイントなどを解説

当コラムでは、基板洗浄を検討する上でのステップをご案内いたします。 基板洗浄とは、基板からフラックス残渣や樹脂、その他生産工程中に 発生する残渣を除去することです。 日本では、無洗浄ペーストを採用しているケースが多いですが、 高信頼性を確保するためには、洗浄は必須となってきています。 続きは関連リンクからご覧ください。 ※コラ...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【メタルマスク向け水系洗浄剤】VIGON SC 210

VOC値が20％を大幅に下回る！引火点がないため防爆設備なしでご利用可…

0』は、メタルマスクやSMT ボンドの洗浄用途として 専用設計された水系洗浄剤です。 MPCテクノロジーに基づき、18℃という低温度であっても クリーム半田・SMT ボンドを一工程で確実に除去することが可能。 フラックスの種類によっては、印刷ミス基板の洗浄にも使用できます。 さらに、治具(特にディスペンサーノズル)からも接着剤を取り除く ことができ、スプレー洗浄及び超音波洗浄用...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【メタルマスク向け水系洗浄剤】HYDRON SC 300

引火点を持たない水系洗浄剤のため、洗浄装置に防爆仕様が不要！

『HYDRON SC 300』は、メタルマスク洗浄用として開発された水系洗浄剤です。 クリーム半田やSMT ボンドを常温にて確実に除去し、 メタルマスク表面上に残渣を残しません。 また、洗浄およびリンス工程にて使用可能で、洗浄剤残渣なく乾燥し、 印刷機の裏拭きにも使用できます。 【特長】 ■クリーム半田や接着剤洗...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【メタルマスク向け洗浄剤】ZESTRON SD 100

低臭気で、室温下で使用可能！メタルマスク、スクリーン向け クリーム半田…

『ZESTRON SD 100』は、防爆仕様スプレー式洗浄機にてメタルマスクから クリーム半田除去用に専用設計された溶剤系洗浄剤です。 フラックスの種類によって、印刷ミス基板にも使用することが可能。 さらに、印刷機での裏拭きや手拭き洗浄にも使用できます。 また、当製品はメタルマスク...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【準水系工程向け 溶剤系フラックス洗浄剤】ZESTRON FA+

プリント基板・パワーモジュール・リードフレーム向け洗浄剤。幅広い用途に…

ンフリー・生分解性 ■パワーモジュール、リードフレームベースのディスクリート、パワーLED のワイヤボンディング/モールディングの品質を向上 ■フリップチップ・CMOS から粘着性フラックスをすべて除去することにより、ボイドのないアンダーフィルをもたらし、画像解像度を向上 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【印刷機内メタルマスク裏拭洗浄剤】VIGON UC 160

脱IPA、安全で環境に優しい！不織布に対する優れた濡れ性により、クリー…

VIGON UC 160は、メタルマスクのクリーム半田を除去するため専用設計された印刷機内用水系洗浄剤です。 不織布に対する優れた濡れ性を持っており、洗浄性が向上し、クリーム半田の裏周りを大幅に軽減させます。 その結果、基板上の半田ブリッジを抑制すること...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

溶剤系洗浄剤によるフラックス洗浄の落とし穴

イオン残渣見逃していませんか。フラックス洗浄の落とし穴について解説

質残渣洗浄」へと変化しており、 溶剤系洗浄剤は、ロジンなどの有機成分に対しての有効性は非常に高いですが、 イオン性物質や難溶性金属塩をほとんど溶かすことはできないため、 「溶解」させる手法での除去は困難です。 ※詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。 　詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社