• 新光電子株式会社 創業50周年記念サイトオープン 製品画像

    新光電子株式会社 創業50周年記念サイトオープン

    PR50周年事業としてリ・ブランディングを行いました。次なる50年で「全て…

    弊社は、2024年4月1日に創業50周年を迎える事となりました。 創業当初より「オプト世紀を追及する」というキャッチコピーを掲げさせていただき、 半世紀を送りました。 次の50年を胸を張って迎えることが出来るのも、ひとえにこれまで関わっていただきました お取引先様、従業員やご家族、関係各位のご助力があってのことと、改めまして、 深く感謝の意を胸に刻む次第です。 この場を借りて厚く御礼申し上げ...

    メーカー・取り扱い企業: 新光電子株式会社

  • 無料プレゼント!『ノイズ対策 ハンドブック』 製品画像

    無料プレゼント!『ノイズ対策 ハンドブック』

    PRプリント基板設計での“ノイズ対策”のポイントが満載!ハンドブック無料進…

    アート電子では、プリント基板を扱う電子回路の設計・開発者のための 『ノイズ対策 ハンドブック』を無料プレゼント中! そもそも「ノイズとは?」といった基本から、ノイズ対策の方法、 プリント基板の回路設計におけるポイントなど、 実践的な内容がたっぷり詰まった大充実の1冊です。 【掲載内容】 ■ノイズについて ■ノイズ対策の方法 ■プリント基板設計から行なうノイズ対策 ■プリン...

    メーカー・取り扱い企業: アート電子株式会社 本社

  • 【資料】先端電子部品の洗浄技術 メカニズムと残存汚れの評価法 製品画像

    【資料】先端電子部品の洗浄技術 メカニズムと残存汚れの評価法

    コンタミネーション洗浄に着目!先端電子部品の性能を担保しうる「洗浄」の…

    当資料は、先端電子部品の洗浄や洗浄後の分析方法について解説しております。 フラックス洗浄工程を筆頭とする接合後のコンタミネーション洗浄に 着目し、様々な技術の集合体である先端電子部品の性能を担保しうる 「洗...

    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

  • 【共同研究】微細接合向けはんだペースト洗浄性検証 製品画像

    【共同研究】微細接合向けはんだペースト洗浄性検証

    洗浄方法・洗浄剤には抜本的な変革が求められています!洗浄ノウハウをご紹…

    スマートフォンをはじめとする5G対応通信機器やEV向けの制御ユニット等に みられる先進電子デバイスは小型化・薄層化が進んでおり、それに伴い 微細接合向けはんだペーストの開発がより活況を見せています。 このような電子デバイスは長期的な高信頼性が求められ、フラックス洗浄が 必要となる場合も...

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    • 微細接合向けはんだペースト洗浄性検証3.JPG

    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

  • 【共同研究】ギ酸リフローデバイスの洗浄効果検証 製品画像

    【共同研究】ギ酸リフローデバイスの洗浄効果検証

    ギ酸リフローについて詳しく解説!洗浄ノウハウをご紹介します

    バイスの分野では、ボイドの発生を抑えられ、低温域で接合できる 利点が大きいギ酸リフロー方式によるはんだ付けが広まりつつあります。 ※詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。 ※PDF資料は先端電子部品の洗浄技術について解説した技術資料です。...

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    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

  • はんだ接合後のフラックス残渣における形態変化と洗浄性への影響 製品画像

    はんだ接合後のフラックス残渣における形態変化と洗浄性への影響

    【共同研究】形態変化と洗浄性への影響を共同研究!詳しい解説と画像でご紹…

    出力パワーデバイスなどの分野では発生する熱量が大きく、環境的負荷が 増すことで、安定化しているフラックス残渣であっても、長期にわたる 経年変化を注視する必要があります。 昨今の市場トレンドで高機能電子デバイスは小型化により部品間の距離が 狭まり、短時間での高速演算や容量アップに伴い大電流・高電圧と なった事で、以前は問題とならなかった僅かなフラックス残渣であっても、 様々な問題を引き起こすリスク...

    • はんだ接合後のフラックス残渣における形態変化と洗浄性への影響2.JPG
    • はんだ接合後のフラックス残渣における形態変化と洗浄性への影響3.JPG
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    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

  • 溶剤系洗浄剤によるフラックス洗浄の落とし穴 製品画像

    溶剤系洗浄剤によるフラックス洗浄の落とし穴

    イオン残渣見逃していませんか。フラックス洗浄の落とし穴について解説

    いて 不可欠な存在であり、使用を完全に止めることは難しいのが現状です。 近年では各業界における技術躍進と企業努力により、有機溶剤の使用量・ 大気排出量は大きく削減されてきていますが、日本の電子デバイスの フラックス洗浄において、有機溶剤を主体とした洗浄剤が広く使われています。 しかし、フラックス洗浄は実質的に「複合物質残渣洗浄」へと変化しており、 溶剤系洗浄剤は、ロジンなどの有...

    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

  • 【共同研究】イオン残留量の検証~フラックス種による相違~ 製品画像

    【共同研究】イオン残留量の検証~フラックス種による相違~

    困難さが増しているイオン残留課題について!洗浄ノウハウをご紹介

    あるシンターも本格的に量産稼働の動きが 見えてくるなど、パワー半導体デバイスの勢いは衰えません。 今回のテーマであるイオンはドーピング工程やはんだペースト中の 活性剤などとして広く使用されており、電子デバイスにとっては不可欠な 存在となります。 また、最近の研究ではドーピング剤としてナトリウム・カリウムを イオン性物質として使用する新型半導体の研究も進められており、 より活性力を高めた新たな活...

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    • イオン残留量の検証~フラックス種による相違~3.JPG
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  • 【共同研究】実装部品とイオン残渣の関係性 製品画像

    【共同研究】実装部品とイオン残渣の関係性

    洗浄用はんだペースト・フラックスを選択することでより確実な洗浄性の確保…

    今回のテーマであるイオンは電子デバイスに不可欠ではありますが、 意図しないイオンがデバイス表面や電極間・低スタンドオフに 残留することで「イオン残渣」となります。 また、原料要因だけでなく環境要因も含め多岐に渡る混入経路から ...

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