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60W ACアダプター PSEマーク DC12V5A 在庫販売中
PR【短納期・少数~大口まで・PSE】60W ACアダプター PSEマーク…
60WのACアダプターです。PSEマーク付き。出力DC12V5Aで在庫販売中しています。 型番:6A-601DB12 【特長】 ■ 安全規格を多数取得(PSE、UL、CE、CCC他) ■ 日本、北米、欧州、中国等へ輸出可能 ■ 安全規格にかかる経費が削減できます ■ 電源ケーブル付属 ■ 長期安定供給 ■ 保証1年 ■ 不良率低い(解析対応可) ■ 在庫1個より短納期で即日販売...
メーカー・取り扱い企業: トキトレーディング株式会社 本社
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PR頑丈で高品質!制御盤の扉を開けた状態での作業に生じる危険を回避します!
当社は、海外の電気規格、安全規格に適合した電気機器、制御機器、 通信機器、安全機器等を取り扱っています。 MENCOM社の「パネルインターフェースコネクター(PIC)」は 扉を開けた状態での作業に生じる危険を回避することが可能。 電源供給用のコンセント(世界各国対応)と、他に配置する インターフェースを任意に選択することができます。 【特長】 ■PLCやPC収納パネルの外...
メーカー・取り扱い企業: 日本テクノコントロールス株式会社
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高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…
時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション:上下・回転、ヒータ、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ源3源+3系統(MFC制御)、RF/DC PSUの増設(最大2電源まで)連続多層膜・2源同時成膜(RF/DC、又はDC/DCのみ)、など多目的にお使い頂くことができます。 ・絶縁膜 ・導電性膜 ・化合物、他 【主な特徴】 ◉ 対応基板:2"(1〜3源...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃! 還元雰囲…
/モリブデン(メタル炉), 又はタングステン/モリブデン多層シールド(メタル炉) ・温度制御:デジタルプログラム調節計、C熱電対 ・到達真空度:1x10-2Pascal(*但し空炉の場合) ・電源仕様:AC200V 50/60HZ 三相 6KVA ・冷却水:3L/min, 0.4Mpa 25〜30℃ ◆コントロールボックス仕様◆ ・プログラム温度調節計 ・DC電源装置、又は外付ト...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…
連続多層膜、同時成膜(2〜6元同時成膜:RF, DCをHMIより自在に配置切替) 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 高温基板加熱ステージ(二重ジャケット水冷式)オプシ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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<30W ローパワー・エッチング制御精度10mW ダメージレス・繊細…
、又はフッ化ガス系増設 ◉ PCソフトウエア付属:自動エッチングレシピ作成・保存・保存、データロギング 【寸法・ユーティリティ】 寸法:750(W) x 500(D) x 400(H)mm 電源:200V 単相 15A プロセスガス:0.17Mpa 99.99%推奨 ベントガス:34-41kpa 冷却水:1L/min, 400kpa, 18-20℃ 圧縮空気:413-550Kpa...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…
ル真空計 ・MFC最大3系統自動調整(又はフロートメーター手動流量調整) ・温度制御:デジタルプログラム調節計、C熱電対 ・到達真空度:1x10-2Pascal(*但し空炉の場合) ・一次側電源仕様:AC200V 50/60HZ 三相 50A NFB ・冷却水:8L/min, 0.4Mpa 25〜30℃ ◆オプション◆ ・真空排気系:ロータリーポンプ, 高真空ポンプ, バルブ類...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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コンパクト・省スペース・省エネルギー! 高性能 R&D用超高温実験炉
などのさまざまな焼成実験を行うことができます。 ◆主な特徴◆ ・省スペース ・ロータリーポンプ、コンプレッサー付属 ・インターロック:断水警報、過昇温、ガス圧力低下 ◆基本仕様◆ ・電源仕様:AC200V 75A NFB 50/60HZ(C-500) ・Max2900℃(カーボン炉)、2400℃(メタル炉)、 ・プログラム温度調節計、C熱電対 ◆オプション◆ ・記録計 ・...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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スパッタ・蒸着源複合型 薄膜装置 【nanoPVD-ST15A】
真空蒸着(金属・有機蒸着源)、スパッタリングカソードの混在設置が可能な…
フトウエア◆ ・IntelliLink Windows PCリモート監視ソフトウエア ◆オプション◆ ・基板加熱ヒーター Max500℃ ・ドライスクロールポンプ ◆ユーティリティ◆ ・電源:AC200V 単相 50/60HZ 15A ・プロセスガス:0.2Mpa ・ベントガス:0.04Mpa ・圧縮空気:0.6Mpa ・冷却水:2L/min 0.2Mpa ◆主なアプリケーシ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
nchカソード x 4基搭載 同時成膜:3元同時成膜(RF500W or DC850W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF300W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチャンバー...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…
時成膜、APC自動制御も可能 ・膜厚モニタ:水晶振動子センサヘッドx2 ・膜厚制御:Inficon社 SQM-160(又はSQC-310) 2ch/4ch薄膜コントローラ ・ユーティリティ:電源200V 3相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa ・その他オプション:基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, プラズマエッチング, ドライポンプ , ロードロック機構...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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真空蒸着装置『MiniLab-090』(グローブボックス用)
グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…
膜・同時成膜、APC自動制御 ・膜厚モニタ:水晶振動子センサヘッドx4 ・膜厚制御:Inficon社 SQM-160(又はSQC-310) 2ch/4ch薄膜コントローラ ・ユーティリティ:電源200V 3相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa ・その他オプション:基板回転/昇降, プラズマエッチング, ドライポンプ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab】
2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置(スパッタ、…
蒸着 x 2 ・有機蒸着限 x 2 2. MiniLab-S060A(スパッタリング装置) ・基板サイズ:Φ8inch ・Φ2"マグネトロンカソード x 4源同時スパッタ ・DC, RF両電源対応 3. Load Lockチャンバー ・プラズマエッチングステージ ロードロック室では「RF/DC基板バイアスステージ」による基板表面のプラズマクリーニング、又、同社独自の『ソフトエッチン...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】
Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不…
・原料:CH4, C2H4, solids (PMMA), etc.. ・プロセスガス:H2, Ar, N2, etc.. ・基板サイズ:Φ4inch ・150W, 13.56MHz RF電源 ・500℃~Max1100℃基板加熱 ・高精度プロセスガス圧力APC制御 ・マスフローコントローラー最大4ch ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…
±3% ● 多彩なオプション:基板回転・昇降、基板加熱(Max500℃)、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ3源+3系統(MFC制御)、RF/DC PSUの増設(最大2電源まで)連続多層膜・2源同時成膜(RF/DC、又はDC/DCのみ)、など多目的にお使い頂くことができます。 ・絶縁膜 ・導電性膜 ・化合物、他 【主な特徴】 ◉ 対応基板:〜Φ4inch...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…
連続多層膜、同時成膜(2〜6元同時成膜:RF, DCをHMIより自在に配置切替) 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 高温基板加熱ステージ(二重ジャケット水冷式)オプシ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…
ル真空計 ・MFC最大3系統自動調整(又はフロートメーター手動流量調整) ・温度制御:デジタルプログラム調節計、C熱電対 ・到達真空度:1x10-2Pascal(*但し空炉の場合) ・一次側電源仕様:AC200V 50/60HZ 三相 50A NFB ・冷却水:8L/min, 0.4Mpa 25〜30℃ ◆オプション◆ ・真空排気系:ロータリーポンプ, 高真空ポンプ, バルブ類...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…
・多元同時成膜、APC自動制御 ・膜厚モニタ:水晶振動子センサヘッドx4 ・膜厚制御:Inficon社 SQM-160(又はSQC-310) 多チャンネル成膜コントローラ ・ユーティリティ:電源200V 3相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa ・その他オプション:基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, ドライエッチング, ドライスクロールポンプ , ロードロック機構...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A
コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
nchカソード x 4基搭載 同時成膜:3元同時成膜(RF500W or DC850W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング プラズマエッチングステージRF300W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチャンバ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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□■□【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置□■□
蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…
・多元同時成膜、APC自動制御 ・膜厚モニタ:水晶振動子センサヘッドx4 ・膜厚制御:Inficon社 SQM-160(又はSQC-310) 多チャンネル成膜コントローラ ・ユーティリティ:電源200V 3相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa ・その他オプション:基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, ドライエッチング, ドライスクロールポンプ , ロードロック機構...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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□■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□
蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…
膜・同時成膜、APC自動制御 ・膜厚モニタ:水晶振動子センサヘッドx2 ・膜厚制御:Inficon社 SQM-160(又はSQC-310) 2ch/4ch薄膜コントローラ ・ユーティリティ:電源200V 3相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa ・その他オプション:基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, プラズマエッチング, ドライポンプ , ロードロック機構...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□
グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…
層膜・同時成膜、APC自動制御 ・膜厚モニタ:水晶振動子センサヘッドx4 ・膜厚制御:Inficon社 SQM-160(又はSQC-310) 多チャンネル薄膜コントローラ ・ユーティリティ:電源200V 3相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa ・その他オプション:基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, ドライエッチング, ドライポンプ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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