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バックアップ電源 瞬低保護装置「ボルテージサグプロテクター」
PR瞬時停電された1秒以内に様々な電源の問題を完全に解決!半導体、LCD、…
ボルテージサグプロテクターは、半導体、LCD、自動車、化学、医療分野を含む様々な産業分野に適用可能です。無停電電源供給のために伝統的に使用してきたバッテリー蓄電方式の無停電電源装置(UPS)とは異なり、瞬時停電された1秒以内に様々な電源の問題を完全に解決することができます。既存のデバイスの電気使用量80%削減することができる。 【特長】 ■落雷、着氷雪、台風による瞬間的停電及び電圧低下...
メーカー・取り扱い企業: アローズエンジニアリング株式会社
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PR安定した高速駆動 高精度な制御を実現
■特徴 CA350-011は、直動サーボ弁駆動用サーボアンプです。 指令入力電圧に比例して、サーボ弁のスプール位置を変位制御します。 出力にはPWM方式を採用し、安定した高速駆動が可能です。 サーボ弁のスプール部に設置したLVDTセンサによる変位信号を、電圧値でフィードバックすることにより高精度で制御します。 基板本体は100×139mmの樹脂製ケースに収められ、コンパクトかつ軽量に仕上がっていま...
メーカー・取り扱い企業: ピー・エス・シー株式会社
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高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…
時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション:上下・回転、ヒータ、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ源3源+3系統(MFC制御)、RF/DC PSUの増設(最大2電源まで)連続多層膜・2源同時成膜(RF/DC、又はDC/DCのみ)、など多目的にお使い頂くことができます。 ・絶縁膜 ・導電性膜 ・化合物、他 【主な特徴】 ◉ 対応基板:2"(1〜3源...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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【PyroMini USB】USB接続式小型赤外線温度センサー
USB接続式小型赤外線温度センサー 電源不要 PCからUSBバスパワ…
indowsPCに接続するだけ。Plug&Play感覚で簡単にPC上でセンサの測定パラメータ設定、測定、測定結果の解析・CSV出力ができます。 USB出力 PCに接続しUSBバスパワーのみで動作。電源を必要としません。 さまざまな工業分野・研究機関実験ラボでの活用など、応用範囲が広がります。 【特徴】 ◎ USBデータロギング ◎ ワイドレンジ:-20℃〜+1000℃ ◎ 優れた基...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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温度範囲・放射率・アラーム等のパラメータをスマートホン、タブレットで設…
【その他仕様】 ◉ 視野角:15:1 ◉ 温度範囲:0℃〜1000℃ ◉ 測定波長領域:8〜14μm ◉ 放射率: 0.2〜1.0 ◉ 電源:24VDC(最小6V/10V〜最大28VDC) ◉ ケーブル:1m付属(最長30m延長可能) 【オプション】 ◉ 本体固定金具 ◉ 延長ケーブル ◉ エアパージキット...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…
連続多層膜、同時成膜(2〜6元同時成膜:RF, DCをHMIより自在に配置切替) 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 高温基板加熱ステージ(二重ジャケット水冷式)オプシ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃! 還元雰囲…
材:グラファイトフェルト材(カーボン炉), タングステン/モリブデン(メタル炉) ・温度制御:デジタルプログラム調節計、C熱電対 ・到達真空度:1x10-2Pascal(*但し空炉の場合) ・電源仕様:AC200V 50/60HZ 三相 6KVA ・冷却水:3L/min, 0.4Mpa 25〜30℃ ◆コントロールボックス仕様◆ ・プログラム温度調節計 ・DC電源装置 ・電流、...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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USB接続式、付属の専用ソフトでパラメータ設定・データ管理 幅広い波…
30:1, もしくは75:1 ◉ 温度範囲: ・PUA2:-45℃〜2000℃ ・PUA5:50℃〜1650℃ ・PUA8:-40℃〜1000℃ ◉ 放射率設定範囲:0.1〜1.0 ◉ 電源:24VDC ◉ 本体寸法:Φ27.6mm(径) x 61mm(長さ) ◉ 重量:約155g ◉ アナログ信号ケーブル1m(標準付属、延長最長30mまで) *USBケーブル1.8m(USBケ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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【PyroCouple】 (パイロカップル)赤外線温度センサー
小型計量・堅牢ボディ・高精度±1%・240msec高速応答 産業用機…
1, もしくは15:1 ◉ 温度範囲: ・LT(-20℃〜100℃) ・MT(0〜250℃) ・HT(0〜500℃) ◉ 測定波長領域:8〜14μm ◉ 放射率:0.95(固定) ◉ 電源:24VDC ◉ 本体寸法:Φ18mm(径) x 103mm(長さ) ◉ 重量:約95g ◉ ケーブル1m(標準付属):延長最長3m(オプション) 【オプション】 ◉ 本体固定金具 ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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高機能タッチパネル変換器で簡単設定・データロギング・microSDカー…
M2.2モデル:100〜2000℃ ◉ 測定波長領域: ・PM:8-14um ・PM2.2:2.0〜2.2um ◉ 放射率: ・PM:0.2〜1.0 ・PM2.2:0.1〜1.0 ◉ 電源:24VDC ◉ センサ部寸法:Φ18mm(径) x 45mm(長さ) 【オプション】 ◉ 本体固定金具(固定式、アングル式) ◉ 水冷ジャケット ◉ エアパージジャケット ◉ デュ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
nchカソード x 4基搭載 同時成膜:3元同時成膜(RF500W or DC850W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF300W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチャンバー...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…
時成膜、APC自動制御も可能 ・膜厚モニタ:水晶振動子センサヘッドx2 ・膜厚制御:Inficon社 SQM-160(又はSQC-310) 2ch/4ch薄膜コントローラ ・ユーティリティ:電源200V 3相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa ・その他オプション:基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, プラズマエッチング, ドライポンプ , ロードロック機構...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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真空蒸着装置『MiniLab-090』(グローブボックス用)
グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…
膜・同時成膜、APC自動制御 ・膜厚モニタ:水晶振動子センサヘッドx4 ・膜厚制御:Inficon社 SQM-160(又はSQC-310) 2ch/4ch薄膜コントローラ ・ユーティリティ:電源200V 3相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa ・その他オプション:基板回転/昇降, プラズマエッチング, ドライポンプ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…
ッチパネル操作 ・デジタル真空計 ・フローメーター(ガス流量手動調整) ・温度制御:デジタルプログラム調節計、C熱電対 ・到達真空度:1x10-2Pascal(*但し空炉の場合) ・一次側電源仕様:AC200V 50/60HZ 三相 50A NFB ・冷却水:8L/min, 0.4Mpa 25〜30℃ ◆オプション◆ ・真空排気系:ロータリーポンプ, 高真空ポンプ, バルブ類...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab】
2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置(スパッタ、…
蒸着 x 2 ・有機蒸着限 x 2 2. MiniLab-S060A(スパッタリング装置) ・基板サイズ:Φ8inch ・Φ2"マグネトロンカソード x 4源同時スパッタ ・DC, RF両電源対応 3. Load Lockチャンバー ・プラズマエッチングステージ ロードロック室では「RF/DC基板バイアスステージ」による基板表面のプラズマクリーニング、又、同社独自の『ソフトエッチン...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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コンパクト・省スペース・省エネルギー! 高性能 R&D用超高温実験炉
などのさまざまな焼成実験を行うことができます。 ◆主な特徴◆ ・省スペース ・ロータリーポンプ、コンプレッサー付属 ・インターロック:断水警報、過昇温、ガス圧力低下 ◆基本仕様◆ ・電源仕様:AC200V 75A NFB 50/60HZ(C-500) ・Max2900℃(カーボン炉)、2400℃(メタル炉)、 ・プログラム温度調節計、C熱電対 ◆オプション◆ ・記録計 ・...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】
Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不…
・原料:CH4, C2H4, solids (PMMA), etc.. ・プロセスガス:H2, Ar, N2, etc.. ・基板サイズ:Φ4inch ・150W, 13.56MHz RF電源 ・500℃~Max1100℃基板加熱 ・高精度プロセスガス圧力APC制御 ・マスフローコントローラー最大4ch ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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スパッタ・蒸着源複合型 薄膜装置 【nanoPVD-ST15A】
真空蒸着(金属・有機蒸着源)、スパッタリングカソードの混在設置が可能な…
フトウエア◆ ・IntelliLink Windows PCリモート監視ソフトウエア ◆オプション◆ ・基板加熱ヒーター Max500℃ ・ドライスクロールポンプ ◆ユーティリティ◆ ・電源:AC200V 単相 50/60HZ 15A ・プロセスガス:0.2Mpa ・ベントガス:0.04Mpa ・圧縮空気:0.6Mpa ・冷却水:2L/min 0.2Mpa ◆主なアプリケーシ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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<30W(制御精度10mW)低出力RFエッチングによる、精細でダメー…
設可能 ◉ Windows PCソフトウエア付属:自動エッチングレシピ作成・保存・保存、データロギング 【寸法・ユーティリティ】 寸法:750(W) x 500(D) x 400(H)mm 電源:200V 単相 15A プロセスガス:0.17Mpa 99.99%推奨 ベントガス:34-41kpa 冷却水:1L/min, 400kpa, 18-20℃ 圧縮空気:413-550Kpa...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…
±3% ● 多彩なオプション:基板回転・昇降、基板加熱(Max500℃)、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ3源+3系統(MFC制御)、RF/DC PSUの増設(最大2電源まで)連続多層膜・2源同時成膜(RF/DC、又はDC/DCのみ)、など多目的にお使い頂くことができます。 ・絶縁膜 ・導電性膜 ・化合物、他 【主な特徴】 ◉ 対応基板:〜Φ4inch...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…
連続多層膜、同時成膜(2〜6元同時成膜:RF, DCをHMIより自在に配置切替) 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 高温基板加熱ステージ(二重ジャケット水冷式)オプシ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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【Mini-BENCH 】超高温卓上型実験炉 Max2000℃
卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃! 還元雰囲…
材:グラファイトフェルト材(カーボン炉), タングステン/モリブデン(メタル炉) ・温度制御:デジタルプログラム調節計、C熱電対 ・到達真空度:1x10-2Pascal(*但し空炉の場合) ・電源仕様:AC200V 50/60HZ 三相 6KVA ・冷却水:3L/min, 0.4Mpa 25〜30℃ ◆コントロールボックス仕様◆ ・プログラム温度調節計 ・DC電源装置 ・電流、...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…
・多元同時成膜、APC自動制御 ・膜厚モニタ:水晶振動子センサヘッドx4 ・膜厚制御:Inficon社 SQM-160(又はSQC-310) 多チャンネル成膜コントローラ ・ユーティリティ:電源200V 3相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa ・その他オプション:基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, ドライエッチング, ドライスクロールポンプ , ロードロック機構...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A
コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
nchカソード x 4基搭載 同時成膜:3元同時成膜(RF500W or DC850W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング プラズマエッチングステージRF300W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチャンバ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…
ッチパネル操作 ・デジタル真空計 ・フローメーター(ガス流量手動調整) ・温度制御:デジタルプログラム調節計、C熱電対 ・到達真空度:1x10-2Pascal(*但し空炉の場合) ・一次側電源仕様:AC200V 50/60HZ 三相 50A NFB ・冷却水:8L/min, 0.4Mpa 25〜30℃ ◆オプション◆ ・真空排気系:ロータリーポンプ, 高真空ポンプ, バルブ類...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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□■□【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置□■□
蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…
・多元同時成膜、APC自動制御 ・膜厚モニタ:水晶振動子センサヘッドx4 ・膜厚制御:Inficon社 SQM-160(又はSQC-310) 多チャンネル成膜コントローラ ・ユーティリティ:電源200V 3相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa ・その他オプション:基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, ドライエッチング, ドライスクロールポンプ , ロードロック機構...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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□■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□
蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…
膜・同時成膜、APC自動制御 ・膜厚モニタ:水晶振動子センサヘッドx2 ・膜厚制御:Inficon社 SQM-160(又はSQC-310) 2ch/4ch薄膜コントローラ ・ユーティリティ:電源200V 3相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa ・その他オプション:基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, プラズマエッチング, ドライポンプ , ロードロック機構...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□
グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…
層膜・同時成膜、APC自動制御 ・膜厚モニタ:水晶振動子センサヘッドx4 ・膜厚制御:Inficon社 SQM-160(又はSQC-310) 多チャンネル薄膜コントローラ ・ユーティリティ:電源200V 3相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa ・その他オプション:基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, ドライエッチング, ドライポンプ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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◆Mini-BENCH-prismセミオート式 超高温実験炉◆
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…
ッチパネル操作 ・デジタル真空計 ・フローメーター(ガス流量手動調整) ・温度制御:デジタルプログラム調節計、C熱電対 ・到達真空度:1x10-2Pascal(*但し空炉の場合) ・一次側電源仕様:AC200V 50/60HZ 三相 50A NFB ・冷却水:8L/min, 0.4Mpa 25〜30℃ ◆オプション◆ ・真空排気系:ロータリーポンプ, 高真空ポンプ, バルブ類...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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