★中心粒径250nm～★焼結体向け超微粒SiCパウダー

PR【低温焼結・高密度化】焼結用材料に好適！超微粒α-SiCパウダー

当社独自のSiC(炭化ケイ素)微細化技術を活かしたα-SiCパウダー『GC#40000』をご提供 『Dv50（中心粒径）：0.25μm』の超微粒SiCによる、優れた焼結性を示します （GC#40000を焼結体原料に使用により期待されるメリット） 　・低温焼成：CO2削減、ランニングコスト低減 　・緻密化　：成形体強度の向上、ポアの抑制 ※プレス成型や金型における流動性が必要な場合、球状SiC造...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社フジミインコーポレーテッド

★競争力のある価格★高い技術力★強い連携力★プリント配線基板

PR常に耐EMIを意識したレイアウト、配線を環境に適した素材でご提供します…

当社では、プリント配線基板の開発・設計および試作・量産を行っています。 常にお客様の視点からのスピード・品質・コストに対応し、 海外工場を利用した競争力のあるコスト対応、生産能力を実現。 また、一般の基板設計から高密度多層基板、COB、SMT等の高難易度の 基板まで満足のいく品質をご提供します。 【ラインアップ】 ■片面基板 ■2段スタックビルドアップ基板 ■両面貫通基...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウイル

バッチタイププラズマリフロー装置（フラックスリフロー）

微細ウェハバンプのフラックスレスリフロー装置 サンプルテスト対応　省…

高密度プラズマ（SWP）による強還元性H2ラジカルによりフラックスフリーのバンプリフローを実現。 フラックスの塗布・洗浄工程を削減。リフロー前後のウェット工程を削減。ウェット装置のスペース・処理・ユーティリティーを削減する省エネ・省スペース・クリーンプロセス。 ３００ｍｍウェハ対応の処理ステージによる最先端量産プロセスをバッチタイプのハードで小径基板のニッチデバイスに対応 短タクトのバッチ処理で多...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

アルミ線/リボンワイヤ対応ウェッジボンダ PowerFusion

【高い生産性と信頼性を実現】ダイレクトドライブモーションシステム、高機…

erFusionにはTLモデルとHLモデルがあります。 TLモデルは単列～4列マトリックスのTO-XXX系パワーデバイスに最適なモデルです。HLモデルは高精度ボンディングが要求されるハイエンド・高密度パワーデバイスパッケージに最適です。 TLモデルは、先端パワーデバイスへの対応が必要になった場合にHLモデルへのコンバージョンが可能です。...

メーカー・取り扱い企業： テクノアルファ株式会社

超小型マイクロ波プラズマ源　SMPS-201

超小型マイクロ波プラズマ源　SMPS-201

付けて 使うことを想定して開発された、超小型のマイクロ波励起プラズマ源 【特徴】 ○プラズマ室は、高純度アルミナ製で、放電を目視観測可能 ○無電極放電。新方式のマイクロ波供給方式により高密度プラズマを実現 ○完全シールド構造により、マイクロ波漏洩に対して極めて安全 ○完全空冷式で冷却水は不要 ○各種活性ガスの使用が可能 ○マイクロ波は同軸ケーブルにて供給されているため 　...

メーカー・取り扱い企業： アリオス株式会社

マントルヒータ　Mantle heater

配管部品の均一加熱を実現！CVDエッチング・アッシング装置に適していま…

子、及び熱電対、 Ptセンサ等の温度制御素子の取り付けなどオプションで承ります。 【特長】 ■最高使用温度400℃（高温用は別途ご相談） ■被加熱物との良好な密着性を確保 ■発熱線を高密度に実装し、温度均一性を向上 ■クリーンルームでの使用にも対応 ■立体形状のヒータが製作可能 ■断熱材と一体型のヒータで省エネに貢献 ■メンテナンス性を考慮した脱着可能な構造 ※詳しく...

メーカー・取り扱い企業： ワッティー株式会社

レーザークラッド加工装置『MED-CLAD』

純度の高い皮膜で、金属部材の耐食・耐摩耗・耐衝撃性能を高めます！

。 クラッディングの工程のすべては、タッチスクリーンのパネルを通して制御され、 操作者とのインターフェイスはwindowsのインターフェイスで操作されます。 【特長】 ■低い希釈で高密度・高品質の皮膜 ■プロセスガスとパウダー供給ガスの質量流量制御 ■使いやすい直感的な操作者インターフェイス ■大部分のクラッド加工に適した3kWダイオードレーザー ■タッチパネルの付いたP...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社澤村溶射センター

Ion Beam Delayering装置/半導体物理解析

半導体故障解析 歩留まり解析 リバースエンジニアリング マイクロ…

マイクロエレクトロニクス市場では、より高性能で高密度の半導体を求める動きがあり、最近の設計では層厚を薄くし層内の構造をコンパクトにしています。しかし、このようなチップに従来の加工技術を適用することは手間とコストがかかる上に、エラーが発生しやすくなり...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

はんだペースト印刷機【多彩な印刷形態を実現！】

圧入方式だからできる多彩な印刷形態を実現した、はんだペースト印刷機！ …

安定した高品質印刷を実現することだけを追求した印刷機です。 独自開発の圧入型スキージユニットを搭載し、高密度パターンから大口径 厚膜印刷まで様々な印刷ニーズに対応可能です。 （主な特長） ●外気と遮蔽された構造のカートリッジ内にはんだペーストを収納している ので酸化等の劣化を抑止できます...

メーカー・取り扱い企業： 谷電機工業株式会社

3次元ステレオ式インラインX線検査装置ILX-1100/2000

3D-X線ステレオ方式により インライン自動検査のコストダウンが実現し…

当製品は、実装基板のはんだ付け部をX線を用いて自動検査する インラインタイプの検査装置です。 高密度タイプの基板では、はんだ付け部が部品底面（face down）に あるため、外観からは検査できません。 QFN/SONなど、はんだ付けが部品底面にある部品の検査に好適です。 【特長】...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アイビット

卓上型ワイヤボンダ・ボンディングツール　総合カタログ

高精度・低価格・多機能…卓上型ワイヤボンダとボンディングツールの総合カ…

機能と安定したボンディング ○卓上型ワイヤボンダ　フルマニュアルHB05：最低限の機能で価格重視 ○卓上型ワイヤボンダ　太線用セミオートHB30：卓上型の太線ウェッジボンダ ○キャピラリ：超高密度仕上げによる高品質・長寿命 ○YAGレーザー薄膜加工システム：高品位レーザー照射による金属・有機薄膜等への微細加工システム ○フォトン・エミッション顕微鏡システム：設計・開発段階の状態確認・不...

メーカー・取り扱い企業： TPTジャパン株式会社

固体ソースECRプラズマ成膜装置『AFTEX-2300』

低温で高い結晶性薄膜を得ることが可能！価格を抑えたプラズマ成膜装置

クロ波分岐結合型ECRイオン源 を搭載するとともに、ロードロック機構、ターボ分子ポンプを装備した 高性能な固体ソースECRプラズマ成膜装置です。 10-30eVの低エネルギーに制御された高密度イオンの照射下で 薄膜が成長するため、原子レベルの平滑性で緻密・高品質な薄膜が 形成されます。 イオンアシスト効果により、高温の加熱を行うことなく酸化膜、 窒化膜などの化合物薄膜を形成...

メーカー・取り扱い企業： JSWアフティ株式会社

ECRプラズマ成膜装置『AFTEX-6000シリーズ』

複数材料の多層膜が成膜可能！高品質・高結晶性の薄膜形成ができる成膜装置…

『AFTEX-6000シリーズ』は、低圧で高密度のECRプラズマ流と、スパッタ粒子を 直接反応させることにより、低温・低ダメージで高品質の薄膜を形成します。 ECRプラズマ源2基を搭載し、全自動搬送・成膜ができ、多層膜形成に最適。 ...

メーカー・取り扱い企業： JSWアフティ株式会社

自公転式真空撹拌脱泡ミキサー　UFO-36

高性能で特大量生産に最適な　真空撹拌（攪拌）脱泡ミキサーです。

サー ●プロペラレスの遊星式ミキサー、数分で撹拌脱泡が可能 ●真空式により完璧な脱泡が可能 ●EMEシリンジ容器で撹拌脱泡後、即ディスペンスが可能（別途治具要） ●シリンジへ泡の再混入なく高密度移送充填が可能A(別途治具要） ●比重差の大きい材料は、自転／公転独立可変速により最適な回転数で材料が沈降することなく撹拌脱泡が可能...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社EME

固体ソースECRプラズマ成膜装置『AFTEX-8000シリーズ』

均一性に優れた多層膜を形成できる！全自動多層膜形成装置

は、1つの成膜室に傾斜配置したECRプラズマ源を2基搭載し、高品質な光学薄膜などを最大8インチ径の基板上に均一性に優れた多層膜を形成できる、C to C枚葉式全自動多層膜形成装置です。 高活性・高密度ECR(Electron Cyclotron Resonance)プラズマ源を用い、プラズマ引き出し部にターゲットを配置することによって固体ソースによるECRプラズマ成膜を実現しています。 CV...

メーカー・取り扱い企業： JSWアフティ株式会社

千住金属工業　半導体用電子材料　カッパーコアはんだ材料

半導体用電子材料製品・マイクロソルダリングソリューションを提供いたしま…

【特徴】 ○微細 ○高密度化 ○実装高品質 ○LAS材料 低アルファ線ソルダー：LASマイクロボールは、各種組成、球径サイズをご用意 ●その他詳細についてはカタログをご覧頂くか、もしくはお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 千住金属工業株式会社

ナノインプリント装置

繰り返し精度＝20nm!!!

の平行出し、加圧、ＵＶ照射、離型し、高精度繰り返し位置決め精度にて ステップ＆リピートし、リソグラフィーの代替パターニングとして （テラバイト光ディスク、ＬＥＤ、マイクロレンズ、拡散フィルム、高密度パッケージ等）に最適です。 研究開発用、量産に対応いたします。 超高精度　　繰り返し精度＝20nm ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社清和光学製作所