リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

小型・省エネ・低待機電力を実現！ 電源モジュール EPMシリーズ

待機電力削減！　設計工数削減！　実装スペース削減！ 小型化電源モジ…

【詳細特長】 エネルギー：高効率、軽負荷時及び無負荷時の大幅な低消費電力化か可能 トータルコスト：電源回路開発の時間短縮、部品点数削減による部材手配工数 実装スペース：高密度実装技術の採用により、超小型化を実現 ●その他詳細は、カタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社タムラ製作所

電源モジュール EPMシリーズ

【ハンドブック無料プレゼント】待機電力・設計工数・実装スペース削減、小…

【詳細特長】 エネルギー：高効率、軽負荷時及び無負荷時の大幅な低消費電力化か可能 トータルコスト：電源回路開発の時間短縮、部品点数削減による部材手配工数 実装スペース：高密度実装技術の採用により、超小型化を実現 ●その他詳細は、カタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社タムラ製作所