リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

プログラマブル16チャネル『PL516』

19インチラックに取り付け可能！2つのプラグイン電源ボックスを備えたモ…

『PL516』は、完全に冗長化された低電圧電源システムを備えた、 高性能で高密度のプログラマブル16チャネルです。 リモート監視および制御機能を使用すると、長距離でも電力消費量を 確認したり、多数の外部負荷チャネルへの電力供給を制御可能。 電圧、電流、温度、およ...

メーカー・取り扱い企業： エンベック株式会社 エンベック株式会社

低電圧電源システム『MARATON』

中程度から危険な環境向けのさまざまなバージョンが利用可能です！

『MARATON』は、過酷な磁気/放射線環境で使用するための、高密度、 低ノイズ、フローティングの低電圧電源システムです。 CERN（サーン) LHC実験用に設計されており、長距離にわたり10A～600Aの 電流で低ノイズ電子機器に電力を供給します。 ...

メーカー・取り扱い企業： エンベック株式会社 エンベック株式会社