リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

『TPS543C20』

4～16V、40A、スタッカブル同期整流降圧SWIFTコンバータ『TP…

のクロック同期可能な固定周波数変調器を採用しています。 内部積分器と直接増幅ランプ・トラッキング・ループにより、広範囲の周波数での外部補償の 必要がなくなり、システム設計がフレキシブルで高密度かつシンプルになります。 オプションのAPIとボディ・ブレーキは、アンダーシュートとオーバーシュートを大幅に 削減することで、過渡性能を向上させます。 低損失スイッチングを備えた集...

メーカー・取り扱い企業： 日本テキサス・インスツルメンツ株式会社