リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

医療用AC-DC電源 『VMS-180シリーズ』

VMS-180シリーズは、180 Wの高密度のオープンフレームAC-D…

2 x MOPPアプリケーション向け医療規格60601-1第3.1版およびEMC準拠要件第4版の認証を取得しています。これらの医療機器用電源は、最大92%の高効率を誇る業界標準5.08 cm x 10.16 cmのフットプリントにパッケージ化されており、信頼性と規制準拠が最大懸念となる、スペースに制約のある病院や歯科医院のアプリケーションに最適です。...特長 •最大180Wの連続出力 •-4...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社シーユーアイ・ジャパン (CUI Japan Co., Ltd.)