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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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設備工事用配線器具 NEMA規格準拠 2コ口/3コ口マルチタップ
コンセントバーを複数設置する必要がある高密度ラックの電源分岐に好適!
おります。 タップ全体で20A定格のタップのほか、タップ全体で30A定格のタップ (コンセント1口20A、タップ全体で30A)もラインアップ。 コンセントバーを複数設置する必要がある高密度ラックの 電源分岐に適しております。 【ラインアップ】 ■MR7679W2TL3:20A 125V 2コ口 引掛マルチタップ ■MR7692W3TL3:30A 125V 3コ口 引掛マ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社明工社
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