リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

【総合カタログ】電源セレクションガイド　2012-2013

独創の技術でMTBF100万時間の実績-実証された信頼性

【特徴】 ○業界一の豊富な品種 ○多彩な技術 ○高絶縁化・低電圧駆動 ○軽量化・超小型化 ○超低ノイズ化・超高効率 ○超薄型化・超高速応答速度化 ○高密度化・高実装技術 ○世界に誇る高電圧技術 ■全94ページのカタログをご希望の方は、お問い合わせフォームよりご請求下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ベルニクス