ステッパーの製品一覧
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設定トルクに達すると約15度の空転感覚で締付け完了をお知らせ。衝撃・振動を嫌うデリケートなトルク管理用の非空転式トルクドライバー
■東日の非空転式プリセット形トルクドライバーLTD15CN～500CNの6機種のトルク目盛にはロック機構を標準装備し、使用中に目盛の移動がありません。 ■ここが違う！！1)ロック機構の「ロッカー」の…
メーカー・取扱い企業： 株式会社東日製作所
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最大4インチ角基板対応 手動露光機
ズースマイクロテックMJB4は最大4インチ角基板まで対応可能な手動式マスクアライナ(露光装置)です。 シンプルな操作性、高精度アライメント、高い露光解像性が特徴です。 研究開発用途以外に少量生産用…
メーカー・取扱い企業： 兼松ＰＷＳ株式会社
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ウエハサイズ 後工程 投影露光装置 MRS
■ ８インチ以下は「一括露光方式」、 12インチは「ステップ＆リピート露光方式」の選択が可能 ■ 露光エリアが広い為、高生産性を実現 ■ 焦点深度が深い為、MEMS、RFフィルター業界に多数…
メーカー・取扱い企業： 株式会社サーマプレシジョン
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最大50W 超高出力。水銀ランプに代わるLED照射器。ＵＶ硬化、半導体検査装置などに使用可能
従来の放電ランプ（水銀ランプ）に代わる、超高出力のLED照射システムです。ALE/1C は制御システム（CSS）と露光システム（ESS）の2 つを接続して使用します。 システムを2 つに分割したこと…
メーカー・取扱い企業： ケイエルブイ株式会社
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同一波長のモジュールを複数搭載可能な高出力・高安定のLED光源装置。ハイパワーUV出力最大80W、水銀不使用、
ALE/2は従来の放電ランプを上回る高出力、高安定を実現したLED紫外線光源装置です。最大4波長のLEDを内蔵し、複数波長の出力が可能です。また兄弟機のALE1と大きく異なる点は同一波長のモジュールを…
メーカー・取扱い企業： ケイエルブイ株式会社
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高出力・高安定のLED光源装置。ハイパワーUV出力最大15W、水銀不使用、内蔵するLEDを選択可能
従来の放電ランプに代わる高出力、高安定のLED光源装置です。 最大5種類のLEDを内蔵できるため、複数の波長の出力が可能です。 また、LEDモジュールは簡単に交換できるため、アプリケーションの変更…
メーカー・取扱い企業： ケイエルブイ株式会社
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SUSS MicroTec 手動マスクアライナMA/BAGen4
最大8インチ対応角基板まで対応可能 セミオートアライメント対応露光装置
ズースマイクロテック MA/BA GEN4 は最大８インチ角基板まで対応可能なセミオートアライメント対応の露光機です。MEMS、光学部品の製造、化合物半導体などのR&D、少量生産用途に対して最…
メーカー・取扱い企業： 兼松ＰＷＳ株式会社
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半導体製造装置制御装置 仮想化システム「レガシー製品延命に寄与」
サポート終了の半導体製造装置の長期使用・保守改善・メンテナンスの救世主。老朽化する高価半導体製造装置の制御装置延命処置。
レガシーデバイス、旧 DEC社製PDP,VAX, Alpha,DMCCのミニコン／ワークステーションを搭載している半導体製造装置の制御装置を仮想化するシステムです。 既存のアプリケーション・OSを現…
メーカー・取扱い企業： 株式会社渡辺商行
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6-Dクオリティで最高級のメカニカルステージ
ALIO社は2001年に設立以来、一貫して、Nanoにこだわって、 ステージを製造してまいりました。クロスローラーガイド、エア ベアリング、リニアモーター、PZTモーター等、アプリケーション に…
メーカー・取扱い企業： オーテックス株式会社
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レチクルケース(フォトマスクケース)「クリーンな環境での使用可」
露光装置及び、周辺装置用のレチクルケース。主要露光装置メーカーの露光装置にて多数採用済み。クリーンな環境での使用可能！
レチクルケース(フォトマスクケース)は、半導体の製造工程で使用されるレチクルを保管するケース。主要露光装置メーカーでの露光装置に使用可能。 【特徴】 ■高帯電防止性能 高帯電防止性能により…
メーカー・取扱い企業： 株式会社渡辺商行
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高出力・高安定のLED光源装置。ハイパワーUV出力最大30W、水銀不使用、内蔵するLEDを選択可能！
従来の放電ランプに代わる高出力、高安定のLED光源装置です。 最大5種類のLEDを内蔵できるため、複数の波長の出力が可能です。また、LEDモジュールは簡単に交換できるため、アプリケーションの変更にも…
メーカー・取扱い企業： ケイエルブイ株式会社
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高出力・高安定のLED光源装置。ハイパワーUV出力最大30W、水銀不使用、内蔵するLEDを選択可能
従来の放電ランプに代わる高出力、高安定のLED光源装置です。 最大5種類のLEDを内蔵できるため、複数の波長の出力が可能です。 また、LEDモジュールは簡単に交換できるため、アプリケーションの変更…
メーカー・取扱い企業： ケイエルブイ株式会社
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高速高解像度レーザー露光装置
『DWL 2000 GS』は、グレイスケールリソグラフィーに適した、柔軟性のある高速高解像度レーザー描画装置です。グレイスケールリソグラフィーは伝統的なバイナリリソグラフィーと異なり、マイクロレンズや…
メーカー・取扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社
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研究開発向け高性能レーザーリソグラフィ装置
『DWL 66＋』は、研究開発用途および小ロット生産やマスク作成やマスクレス露光に適した、高解像度のレーザー直接描画装置です。 マイクロストラクチャの製作と分析に必要な機能を、標準システムとして…
メーカー・取扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社
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高速パターン・ジェネレータ
『VPG＋シリーズ』は、高速な露光速度により、大型マスク製造、レジストマスター作成、さらには様々な平面基板にも直接描画に対応できる高速露光システムです。 半導体、ディスプレー、センサー、MEMS…
メーカー・取扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社
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