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    超低湿度用防湿庫『ドライ・キャビ HYP2シリーズ』

    PR新型デジコンと高精度湿度センサー採用!ドライユニット内の特殊乾燥剤は半…

    『ドライ・キャビ HYP2シリーズ』は、新型デジコンにより庫内の湿度を 正確にコントロールできる超低湿度用防湿庫です。 高精度湿度センサーの採用により正確に表示することが難しかった5%RH以下の 湿度を正確に表示。超高速除湿のHYP・DUSに湿度設定と自動省エネの機能が 付いて高性能化しました。 使い易い全面ワイドドア(マグネットパッキン式)で、中央支柱がないので、 横長のもの...

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    メーカー・取り扱い企業: トーリ・ハン株式会社

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    ドライアイスペレット

    PR自社製造の円筒状で小さい粒(Φ3mm)状のドライアイス

    『ドライアイスペレット』は、円筒状で小さい粒(Φ3mm)のドライアイスです。 弊社では本社工場に製造装置(ペレタイザー)を導入しています。 ドライアイスブラスト(洗浄装置)の普及により需要も増えています。 小粒の形状なので冷熱を効率よく商品に与えることが可能。 角型のスライスタイプに比べ、必要量の調整が簡単。 角がなく、丸みのある形状のため、商品が傷つきません。 ドライアイ...

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    メーカー・取り扱い企業: 宮原酸素株式会社

  • 【オーダーメイド製作実績】ドライエッチング装置 製品画像

    【オーダーメイド製作実績】ドライエッチング装置

    「XeF2エッチング装置」「バッチ式アッシング装置」などの実績を保有し…

    ジャパンクリエイト株式会社が行なった、『ドライエッチング装置』の オーダーメイド製作実績をご紹介します。 「研究開発用ICPエッチング装置」や「ICPプラズマエッチング装置」 「XeF2エッチング装置」「バッチ式アッシング装置」など...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社

  • 真空蒸着装置『MiniLab-080』 製品画像

    真空蒸着装置『MiniLab-080』

    蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…

    【主仕様】 ・SUS304 80ℓ容積 400x400x570mm フロントローディングチャンバー ・ポンプ:ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ(ドライポンプも可) ・真空排気:真空/ベント自動制御 ・抵抗加熱蒸着:最大4源点(Model. TE1~TE4蒸着源) ・有機蒸着:最大4源(Model. LTEC-1cc/5cc) ・EB電子...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 真空蒸着装置『MiniLab-026』 製品画像

    真空蒸着装置『MiniLab-026』

    小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

    最大基板サイズ:Φ6inch ◉ 抵抗加熱蒸着源フィラメント、ルツボ、ボート式(最大4源) ◉ 有機蒸着ソース:1cc or 5cc ◉ Φ2inchマグネトロンカソード(最大3源) ◉ ドライエッチング ◉ グローブボックス搭載可能(オプション 要仕様協議) ◉ その他オプション: 2源同時成膜、HiPIMS、自動薄膜コントローラ、特注基板ホルダ、基板回転/昇降、基板加熱などオプ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • □■□【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置□■□ 製品画像

    □■□【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置□■□

    蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…

    【主仕様】 ・SUS304 80ℓ容積 400x400x570mm フロントローディングチャンバー ・ポンプ:ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ(ドライポンプも可) ・真空排気:真空/ベント自動制御 ・抵抗加熱蒸着:最大4源点(Model. TE1~TE4蒸着源) ・有機蒸着:最大4源(Model. LTEC-1cc/5cc) ・EB電子...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • □■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□ 製品画像

    □■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□

    グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

    【主仕様】 ・SUS304 80ℓ容積 400x400x570mm フロントローディングチャンバー ・ポンプ:ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ(ドライポンプも可) ・真空排気:真空/ベント自動制御 ・抵抗加熱蒸着:最大4源(Model. TE1~TE4蒸着源) ・有機蒸着:最大4源(Model. LTEC-1cc/5cc) ・EB電子ビ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • ◆ANNEAL◆ ウエハーアニール装置 製品画像

    ◆ANNEAL◆ ウエハーアニール装置

    Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

    にて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です(APC自動プロセス制御システムオプション)。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により3種類のバリエーションがあります。 ・ハロゲンランプヒ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 【資料】真空コネクタソリューション 製品画像

    【資料】真空コネクタソリューション

    今後の装置に対して幅広いラインアップの気密封止型製品で「お客様の多様な…

    ッパーからロボット化した試験装置といった幅広いレンジの半導体製造装置でレモコネクタをご使用いただいております。 主なアプリケーション分野: 高密度 ■ スパッタリング装置 ■ ドライエッチング装置 ■ 露光装置用温度測定器 ■ 測長SEM他検査測定装置 高電圧 ■ イオン注入装置 ■ 高電圧・高周波電源装置 ■ PZT駆動装置 ■ 測長SEM他検査測定装置 ...

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    メーカー・取り扱い企業: レモジャパン株式会社

  • □■□【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置□■□ 製品画像

    □■□【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置□■□

    小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

    最大基板サイズ:Φ6inch ◉ 抵抗加熱蒸着源フィラメント、ルツボ、ボート式(最大4源) ◉ 有機蒸着ソース:1cc or 5cc ◉ Φ2inchマグネトロンカソード(最大3源) ◉ ドライエッチング ◉ グローブボックス搭載可能(オプション 要仕様協議) ◉ その他オプション: 2源同時成膜、HiPIMS、自動薄膜コントローラ、特注基板ホルダ、基板回転/昇降、基板加熱などオプ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A 製品画像

    スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

    コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

    ディングチャンバー *ラージチャンバーオプションMiniLab-070(450 x 450 x 450)有り ・最大基板サイズ:Φ8inch ・ポンプ:ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ(ドライポンプ可) ・真空排気:真空/ベント自動制御 ・抵抗加熱蒸着:最大4源(Model. TE1~TE4蒸着源) ・有機蒸着:最大4源(Model. LTEC-1cc/5cc) ・電子ビーム蒸...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • □■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□ 製品画像

    □■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□

    蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

    ローディングチャンバー *ラージチャンバーオプションMiniLab-070(450 x 450 x 450) ・最大基板サイズ:Φ8inch ・ポンプ:ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ(ドライポンプも可) ・真空排気:真空/ベント自動制御 ・抵抗加熱蒸着:最大4源(Model. TE1~TE4蒸着源) ・有機蒸着:最大4源(Model. LTEC-1cc/5cc) ・電子ビーム...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • マニュアルスピンコーター 製品画像

    マニュアルスピンコーター

    シンプルデザインのマニュアルスピンコーター

    定…液晶タッチパネル 薬液ノズル…2系統(エアーシリンダー駆動式) レシピ設定…10プログラム ×50 パターン オプション…試料台、真空ポンプ、加圧タンク ユーティリティー…電源、真空、ドライエアー ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社トービ

  • 【nanoPVD-S10A】マグネトロンスパッタリング装置 製品画像

    【nanoPVD-S10A】マグネトロンスパッタリング装置

    高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

    x 570(D) x 600(H)mm ・重量:約70kg ・電源:200VAC 50.60Hz 15A ・チャンバーサイズ:Φ225(内径)x 250mm ・真空系:TMP + RP(ドライポンプ オプション)...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 枚葉式でDIP!?膨潤・高圧ジェット併用リフトオフ装置 製品画像

    枚葉式でDIP!?膨潤・高圧ジェット併用リフトオフ装置

    【枚葉式でDIP並みの膨潤】リサイクル式循環ヒーターにより、高温・高剥…

    +【超高圧ジェット】の組み合わせで、取れづらくなったレジストを完全除去! ●【膨潤+高圧ジェット】の繰り返し処理でがんこなレジストを除去可能! ・高温ベークで取れづらくなったレジスト ・ドライエッチング後のレジスト ・微細パターンの奥深くのレジスト また、DIP処理で問題となるバリやメタルの再付着がありません! 厚膜のメタル、酸化膜など、エッチングで困難な厚膜のパターニン...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

  • 自動リフトオフ装置(メタル・レジスト剥離)Lift-off 製品画像

    自動リフトオフ装置(メタル・レジスト剥離)Lift-off

    高圧ジェットで驚きの剝離能力!当社独自の特殊ノズルで、枚葉による高速処…

    化学的な力で剥離 また、枚葉による高速処理・高剥離力・高安定性を実現し、さらに薬液の使用量も削減できます。 この他にレジスト、ポリマー、 マスクの洗浄装置としても使用でき、熱処理後やドライエッチング後の頑固なレジストも剥離可能です。 また、DIP処理で問題となるバリやメタルの再付着がありません。 厚膜のメタル、酸化膜など、エッチングで困難な厚膜のパターニングに好適な高圧...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

  • 真空蒸着装置『nanoPVD-T15A』 製品画像

    真空蒸着装置『nanoPVD-T15A』

    限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新…

    ◉連続成膜 ・成膜プログラム自動制御 ・30種類のレシピ登録 ・高精度ワイドレンジ真空ゲージ ◉豊富なオプション ・基板回転 ・上下昇降 300mmストローク ・基板シャッター ・ドライポンプ(RP標準) ・USBでWindows PCに接続、ログの保存管理...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】 製品画像

    多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】

    高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…

    Φ3"(最大4) ・プラズマ電源:RF150W, 300W, DC850W, HiPIMS 5KW ・MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング ・ターボ分子ポンプ + ドライスクロールポンプ ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W ・LLチャンバー <30W 低出力制御*ソフトエッチング *独自の"Soft-Etching"技術で基板バイアスに...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • シリコンウェーハ用装置 製品カタログ 製品画像

    シリコンウェーハ用装置 製品カタログ

    高平坦度なウェーハ加工を実現!当社が取り扱うシリコンウェーハ用装置を多…

    は、スピードファムが取り扱うシリコンウェーハ用装置を ご紹介しています。 φ300mmシリコンウェーハ用の両面同時鏡面研磨のためのポリッシング装置 「DSM20B-5P-4D-AL」や、ドライイン-ドライアウト構造の「EP-300-X」、 カセットtoカセット、スロットtoスロットのウェーハ搬送が可能な 「EP-200-XW-II」などを掲載。 製品の選定に是非、ご活用くださ...

    メーカー・取り扱い企業: スピードファム株式会社

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