見にくい画像を見やすく処理【画像鮮明化技術】

PR暗部補正・クラックの強調など、静止画・動画を見やすく処理する『画像鮮明…

当社の「画像鮮明化システム DuraVision EVS1VX」・「画像鮮明化ソフトウェア」は、 静止画・動画を鮮明化し、見にくい画像を見やすくする製品です。 ＜画像鮮明化システム＞ カメラやビデオレコーダーなどとHDMIケーブルで接続するだけで、 リアルタイムで画像処理を行うハードウェア製品 ＜画像鮮明化ソフトウェア＞ 鮮明化したファイルを自動生成するソフトウェアで、外部システムに組込みが可能...

メーカー・取り扱い企業： EIZO株式会社

CNCワイヤ放電精密コンターマシン『　TX-150　』新発売！

PRCNCワイヤ放電精密コンターマシンの最新モデルTXシリーズが新発売！ …

従来のDKVシリーズからハード、ソフトの両面でアップグレード！ ワイヤ放電加工機とコンターマシンの特長を併せ持つ 『ワイヤ放電精密コンターマシン』が、ボックス型の機種をリリース！ 限られた設置スペースで高いコストパフォーマンスを実現いたします。 【本製品が選ばれるポイント】 　■　様々な金属材料、硬度に左右されずに形状加工可能！ 　■　マシニングやレーザーカットに比べ導入しやすい価...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社タイナテック

研究開発用真空蒸着装置

目的・コストに合わせて柔軟に対応！大学・公的研究機関や基礎実験用に。

易実験型の2機種をラインアップしています。 両機種（前扉型・簡易実験型）とも目的・コストに合わせて柔軟な 仕様対応が可能。デモ機を常設し、サンプルテスト対応いたします。 【特長】 ■実績豊富なハードと柔軟なコスト対応 ■目的に合わせた豊富なオプション機構(高温加熱・基板冷却・多元同時蒸着・ 　有機物用蒸発源　リフトオフプロセス対応） ■プラズマ電極・RFコイルなどのイオン化機構・プラズマ電極...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

側面電極用イオンプレーティング装置（面実装小型部品対応）

小型電子部品（面実装タイプ）の側面電極形成をドライ化。ＰＶＤ（イオンプ…

の側面電極をドライプロセスで形成。 廃液処理不要なクリーンプロセス。部品の端面のみに強い密着力で電極被膜を形成。Ｓｎ、Ｎｉ等の金属膜をハイスループットで形成。（酸化膜形成にも対応） 実績豊富なハードと独自の成膜プロセスで小型電子部品の生産プロセスのドライ化・低コスト化、安定生産に貢献いたします。...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

化合物半導体用蒸着装置（ＡＡＭＦ－Ｃ１６５０ＳＰＢ型）

先端光デバイスに最適な専用蒸着装置。低温・低ダメージ成膜で平滑な膜表面…

従来型よりコンパクトなチャンバに大口径クライオポンプを採用、チャンバ各機構部に超高真空対応を採用し、クリーンな高真空環境を可能にしました。 蒸発源には水冷式反射電子トラップ付きの電子銃を使用しており、基板への電子の乳を防いだ低ダメージ成膜を実現しています。 実績豊富な６連式電子銃は高融点金属を含む多層膜電極形成に対応しています。また安定した蒸着が特徴でマイクロアークによる基板ダメージやドロップ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

リフトオフプロセス対応真空蒸着装置

高周波・通信デバイスに多用されるリフトプロセスに対応した専用蒸着装置で…

0°±3°at6インチウェハ） ■基板水冷機構による低温蒸着（70℃以下＝実績値） ■大口径排気系による高速排気とクリーンなバックグラウンドによる緻密な膜質 ■豊富なオプション類による柔軟なハード＆ソフト対応（枚葉式＝CtoC化 　ロードロック化　複合プロセス化＝ロードロック化＋他プロセス室接合） ■デモ機を常設し、サンプルテスト対応可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

標準バッチバッチタイプ蒸着装置（ＡＭＦシリーズ）

電子デバイス用途のスタンダードシリーズ。Ｒ＆Ｄ用の多目的小型研究用から…

豊富な標準仕様から個別要求に細やかに対応。 蒸発源・加熱温度・基板機構（プラネタードーム・公転ドーム）操作・ロギングソフト　全てカスタマイズＯＫ 社内デモ機でプロセステストも対応　幅広く柔軟なハード＆サポート　 ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店