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【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化(No.2220)
PR【試読できます】-成膜技術、リソグラフィ、エッチング、CMP、洗浄-
書籍名:先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 --------------------- ★ムーアの法則の限界が叫ばれる中、微細化技術の開発はどこまで続くのか! 新構造、新材料の適用が進む、先端半導体製造「前工程」の最新技術を網羅した一冊 --------------------- ■ 本書のポイント 1 ・EUVリソグラフィの最新動向とレジスト、マスク、光源の技術課題 ・これ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社技術情報協会
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PR【2024年6月19日(水)~21日(金)機械要素技術展出展】新製品2…
当社は、東京ビッグサイトで開催される『機械要素技術展』に 出展いたします。 円滑な表面状態で、全長に渡り安定した線径公差(±2μm)の 「NiTiワイヤ」や、シャープな端面形状の「異形ピン」などの製品を 多数展示予定です。 【出展予定製品】 ■新製品:NiTiワイヤ(φ0.025) ■新製品:異形ピン(厚み0.0127x幅0.0381x長さ10mm) ■超極細ワイヤ(φ0.0025) ■W-M...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社トクサイ 本社
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CMPプロセスにおいて、コストを大幅に削減可能な研磨パッドの再生技術が…
半導体の平坦化(CMP)プロセスにおいて、コストを大幅に削減可能な研磨パッドの再生技術が誕生しました。...
メーカー・取り扱い企業: 西華デジタルイメージ株式会社
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株式会社ノイズ研究所はTECHNO-FRONTIER 2024…
株式会社ノイズ研究所(NoiseKen) -
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エクセリタスノーブルライトジャパン(旧ヘレウスノーブルライトジャパン)株式会社