FOUP洗浄装置

PR特殊な高圧ノズルを使用し、ケミカル未使用で洗浄及び乾燥が可能な装置です

【環境負荷低減】 ・洗浄液は純水のみ使用 ・他社製品に比べ純水の使用量が少ない 【高い洗浄能力】 ・独自の洗浄処理で残渣とパーティクルの洗浄が可能 ・温風を瞬時に発生可能（常温→65℃まで3秒）　 ・FOUP BOXと蓋を別々に洗浄することが可能 ・瞬間加熱式の採用で頑固な接着剤や粒子を迅速に洗浄可能 ・高圧洗浄によりレジストなどの高い付着力を持つ汚染物の除去が可能 *Max 約10MPa（15...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ダルトン

汚れによる効率低下を予防し消費電力削減！『熱交換器自動洗浄装置』

PRボール洗浄システム「XAC」を導入することで、従来から無駄に使用されて…

ボール式熱交換器自動洗浄装置『XAC』は、 スポンジボールにより熱交換器のチューブ内を常時洗浄する装置です。 冷凍機の運転中に洗浄（伝熱管が汚れる前に洗浄）するため、 汚れによる効率低下を防止し、大幅な省エネが可能です。 大規模商業施設業をはじめ、製造業などの企業で導入頂いております。 【導入メリット】 ■汚れによる効率低下を防止し、常に冷凍機の能力を最大限活用 ■伝熱管チュ...

メーカー・取り扱い企業： 住友電工ツールネット株式会社 本社

1チャンバー型薬液スピン・スクラブ洗浄機

シングルチャンバーで各種洗浄からスピン乾燥まで完結。省スペース設計で研…

『1チャンバー型薬液スピン・スクラブ洗浄機』は、 高圧スプレーや超音波スプレー、薬液等の非接触洗浄、 ブラシ等の接触洗浄など、様々な組み合わせが可能な洗浄機です。 1つのチャンバーで洗浄からスピン乾燥まで完結し、 省スペース設...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

高圧パルスジェット DP-Gun　マスク・ガラス・ウェハー洗浄に

同じ圧力なら水の使用量が1/3、同じ流量なら圧力が3倍、少ない流量で繰…

使用する水の量が少なく水膜のできにくい 既存装置にも後付可能な洗浄ノズルユニット 最大30Hzで駆動する洗浄ノズル 5〜10MPaの高圧水を発生させるポンプ コントロールユニットの組合せ 従来の連続スプレーは、自ら作った水膜の上からスプレーで圧力を加えており、...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

FOUP洗浄装置

洗浄しにくい凹凸部を高圧パルスジェットで洗浄！手作業よりも安定した洗浄…

多関節ロボットで被洗浄物との距離を一定間隔に保ちながら、高圧パルスジェットによる各種ボックスの洗浄を行う洗浄装置です。洗浄~乾燥工程まで対応が可能です。 【特長】 ■フープ等の複雑な形状に合わせて洗浄 ■洗浄工...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

LT・SiC等2〜6インチ小径ウェハ両面同時薬液スクラブ洗浄装置

ワーク表裏面に触れない搬送・乾燥と異物、金属汚染の除去を可能にした薬液…

ポリッシュ後の研磨スラリーをディスクスクラブ洗浄で除去し、薬液スプレー、メガソニックスポットシャワー、スピン乾燥できる枚葉洗浄装置です。 強固着物の除去と薬液スプレーによる金属汚染除去が可能で、オプションで端面同時のスクラブ洗浄も対応できます。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

省スペース型「スピン洗浄装置（多目的洗浄タイプ）」

１チャンバー型多目的スクラブ洗浄。１チャンバーで異物、金属汚染を取り除…

各種サイズ、各種ウエハの、界面活性剤、純水スクラブ、薬液スプレー、メガソニックスポットシャワー、スピン乾燥までを１チャンバーで行う枚葉装置です。 １つの洗浄層の中で洗浄が完結できる省スペース型のためスペースの限られた場所にも適しています。 単機能のスクラブ洗浄装置についてはご相談ください。 【特長】 ■洗浄・リンス・乾燥まで1か所で行える ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

シングルチャンバー型「ウェハ用多目的スピン・スクラブ洗浄装置」

1チャンバーで異物・金属汚染を取り除く省スペースな洗浄装置！洗浄方法の…

各種ウェハの界面活性剤・純水スクラブ洗浄、薬液スプレー、メガソニックスポットシャワー、スピン乾燥までの工程を１つのチャンバーで行う枚葉装置 ◇　シングルチャンバーで完結する省スペース型 ◇　Si（シリコン）、LT（リチウムタンタレ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

Siナゲット洗浄装置

Siナゲット洗浄装置　専用バスケットで自動搬送　化学研磨・酸切・高品位…

本装置は、Siナゲットの洗浄を目的とした装置です。ワーク（Siナゲット）の入ったコンテナは本装置で専用の洗浄バスケットに移し替えられ、洗浄設備内に自動搬送されます。 その後、バスケットは化学研磨・酸切・高品位水洗の処理を通し...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

精密部品洗浄装置（脱脂）

HDD用モーター部品（HUB・ケース等）の脱脂洗浄装置　構成例：洗剤＋…

本装置はHDD用モーター部品（HUB・ケース等）を脱脂洗浄する装置です。 構成：洗剤＋US（脱脂洗浄）→純水リンス＋US→温風乾燥→真空乾燥　用途に合わせ製作致します...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

300ｍｍカセットレス洗浄装置

ファイナルポリッシュ後の化学研磨工程で使用　／　50枚を一括処理　／　…

＜主な仕様＞ 1.被洗浄物 ：　300ｍｍ　厚み　0.75ｔ 2.処理方法 ：　カセットレスによるDip処理 3.処理速度 ：　50枚/5min（可変） 4.装置内清浄度：　0.1μｍ　クラス1 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

端面鏡面加工装置

スラリー不使用　濾過水、純水を媒体として鏡面研磨、粗研磨から洗浄まで行…

■装置概要 　　スラリーを使用せずに、濾過水・純水を媒体として鏡面研磨、粗研磨、洗浄等を行う研磨装置 ■用途例 　　鏡面仕上げ加工・鏡面仕上げ加工・端面異物洗浄 ■対象物 　・薄い材料150～200μに好適 　・各種ウェハ：化合物、酸化物、ガラス、石英、シリコン、...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

ウエハ洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置（研究開発用）」

ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　 ：φ2”～φ8”　厚みについて...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

ウエハー洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置（量産型）」

ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　 ：φ2”～φ8”　厚みについて...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

ウエハ洗浄装置「両面スクラブ洗浄装置（研究開発用）」

ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　 ：φ2”～φ8”　厚みについて...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

キャリア（カセット）ボックス洗浄装置

洗浄しにくい凹凸部を高圧パルスジェットで洗浄！手作業よりも安定した洗浄…

多関節ロボットで被洗浄物との距離を一定間隔に保ちながら、高圧パルスジェットによる各種キャリア（カセット）の洗浄を行う洗浄装置です。洗浄~乾燥工程まで対応が可能出です。 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

ボックス洗浄装置

洗浄しにくい凹凸部を高圧パルスジェットで洗浄！手作業よりも安定した洗浄…

多関節ロボットで被洗浄物との距離を一定間隔に保ちながら、高圧パルスジェットによる各種ボックスの洗浄を行う洗浄装置です。洗浄~乾燥工程まで対応が可能です。 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロード...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

FOSB洗浄装置

洗浄しにくい凹凸部を高圧パルスジェットで洗浄！手作業よりも安定した洗浄…

多関節ロボットで被洗浄物との距離を一定間隔に保ちながら、高圧パルスジェットによる各種FOSBの洗浄を行う洗浄装置です。洗浄~乾燥工程まで対応が可能です。 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードして...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

小径ウェハ（LT・SiC等2〜6インチ）両面同時スクラブ洗浄装置

ワーク表裏面に触れずに搬送・乾燥が可能なスクラブ洗浄装置！独自機構の表…

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　 ：φ2”～φ8”　厚みについて...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

高圧断続スプレー「DP-Gun」

各種マスクやガラス、ウェハー研磨後の洗浄に！1秒間に30回のノズル開閉…

使用する水の量が少なく水膜のできにくい 既存装置にも後付可能な洗浄ノズルユニット 最大30Hzで駆動する洗浄ノズル 5〜10MPaの高圧水を発生させるポンプ コントロールユニットの組合せ 従来の連続スプレーは、自ら作った水膜の上からスプレーで圧力を加えており、...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）