一酸化ケイ素（SiO）塊・粉末

PRサブミクロンから塊状まで幅広くカスタマイズ可能なSiOパウダー。LiB…

当社は、リチウムイオン電池（LiB）負極材料などとして活用可能な 『一酸化ケイ素（SiO）』を提供しています。 粉末状（1～100μm）、粒状（1～5mm）、塊状（50～200mm）に対応し、 サブミクロンレベルまでカスタマイズ可能です。 1μmの粉末でSiO純度99.8％、5μmの粉末でSiO純度99.9％などの製品事例があります。 【特長】 ■製造方法：結晶化学気相成長法 ...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

ALNコーティング装置（高密度プラズマスパッタADMS装置）

高密度プラズマスパッタで結晶性ＡｌＮ膜を形成、立体形状への全面コーティ…

ッタ　ADMS法（アーク放電型マグネトロンスパッタリング法）により従来に無い緻密なＡｌＮ膜を立体形状基板に成膜。 従来の10倍のイオン量の高密度プラズマスパッタを実現。他には無い高反応性スパッタで結晶性ＡｌＮを５００℃以下の低温で形成 電子デバイスから機械部品まで新たな表面機能を生み出す新薄膜形成装置 ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

簡易実験用スパッタリング装置

手動バッチ型と簡易ロードロック型の2機種　簡易ロードロックタイプで化合…

生産に充分なプロセス性能を実現 ・ハードの信頼性と膜質の安定性を実現 ■簡易ロードロックタイプ ・手動搬送機構を装備 ・クリーンで高い真空性能 ・均一な膜厚・プラズマ・加熱分布性能 ・高結晶性窒化膜(AlN)や高反射率金属膜の形成が可能 ・紫外ＬＥＤ用ＡｌＮテンプレート作成 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

ＨＰＣ－２０フルオートオスミウムコーター

高機能・低価格 タッチパネル式フルオートコーティング機能搭載で、あら…

★ホローカソード円筒内全体にオスミウムプラズマイオンが発生しますので試料の大きさ、高さの影響を受けません。 ★プラズマ放電に最適な真空度に達してから、コーティング中のみオスミウムガスを注入するので結晶オスミウムの消費を節約できます。（1ｇ使用時100回程度） ★ コーティング操作はフルオートです。SEMのスタブに取り付けた試料をホローカソード内に置き、スタートスイッチを押すだけです。 ★危険...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社真空デバイス

ＡｌＮテンプレート作成装置（配向性ＡｌＮ膜用スパッタリング装置）

ＵＶ－ＬＥＤ用ＡｌＮテンプレートをスパッタで。高い結晶性とＣ軸配向性を…

ＵＶ－ＬＥＤの製造の低コスト化に必要なサファイア基板へのＡｌＮテンプレートをスパッタで作成。１００arc／ｓｅｃ以下のＣ軸配向性を持つＡｌＮ膜を低温（７００℃以下）でスパッタリングで形成。 シンプルかつ安定したプロセスとハイスループット性でＵＶ－ＬＥＤの低コスト化に貢献。 サンプルテストに対応中、高周波デバイスへの展開も開発中。 ...標準型ロードロックタイプスパッタリング装置より成膜系...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店