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20件 - メーカー・取り扱い企業
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PRアルミ型材により成形しているため、銅製と比べ3~4割の低コスト化を実現…
電気、電子機器に使用されている半導体素子(トランジスタ、CPU、IGBT 等)は、 動作中に冷却を行わないと素子から発生する熱のため素子そのものを破壊する場合があります。 ヒートシンクは、この熱をすばやく移動させ冷却することにより素子の破壊を防ぐ電子部品のラジエーターです。 冷却方法は、発生する熱により生じる空気の対流を利用した自然冷却と、ファンにより空気を強制的に対流させたり、水などの冷却媒...
メーカー・取り扱い企業: LSIクーラー株式会社
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PR少量加工に対応可能。実装面積を抑えられ、製品の小型化に貢献。正確・迅速…
当社は半導体製造で実績があり、IC一貫製造で培った技術をもとに 『Auスタッドバンプ加工』をはじめとした半導体の組み立て加工を手掛けています。 正確・高品質で、スピーディーかつリーズナブルな加工体制を実現しており 仕様や用途に合わせて条件出しを行った上で、少量品から対応できます。 【特長】 ■実装面積を小さく抑えられ、製品の小型化が可能 ■直径25μmの極小径加工が可能 ■パ...
メーカー・取り扱い企業: 函館電子株式会社
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小型なボディで装置組込みの省スペース化!
熱を奪われたフィラメントが常に一定温度となるよう、加える電力を自動的に調節する定温度型のピラニ真空計です。 小型なボディで装置組込みの際に省スペース化を図ることができます。 表示は操作しやすいデジタル方式です。...帯域(1.0×10-1Pa)?(1.0×10 4Pa)の低真空を測定できる、ピラニ真空計です。 熱伝導を圧力に変換して、真空計測を行えます。 (特長) ●(1.0×10...
メーカー・取り扱い企業: 東京電子株式会社
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熱伝導を圧力に変換して、真空計測を行えます。
帯域(1.0×10-1Pa)?(1.0×10 4Pa)の低真空を測定できる、ピラニ真空計です。...(特長) ・(1.0×10-1Pa)?(1.0×10 4Pa)の測定範囲 ・故障に強い定温度型 ・小型なボディーで省スペース化が可能 (仕様) ・出力信号 :a)制御出力 リレー接点出力容量 AC100Vmax、1Amax b)アナログ出力 0?5V F....
メーカー・取り扱い企業: 東京電子株式会社
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横の許容は+0.2/0-0mm、厚さの許容は+/-0.05mm!電子グ…
歩を遂げ、 大面積のホモエピタキシャル成長単結晶ダイヤモンドプレート/フィルムを 提供しています。 CVDダイヤモンドが示す有望な結果により、RFダイオード、BJT、FET、MEMS、 電子産業など多くのアプリケーションがあります。 今後も継続的な技術革新と継続的な努力が、放射線治療用線量計などの 医療分野に方向性を与えていくことでしょう。 【仕様と公差】 ■横の許容:...
メーカー・取り扱い企業: 合同会社SUPERHARD JAPAN
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半導体・液晶・太陽電池製造設備の保守・メンテナンスは当社にお任せ下さい
各種電子デバイス製造装置の保守・メンテナンスを行っております。 24h体制の常駐対応からスポットの定期点検まで、ニーズに合わせて対応致します。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社電子技研
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コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
(ドライポンプ可) ・真空排気:真空/ベント自動制御 ・抵抗加熱蒸着:最大4源点(Model. TE1~TE4蒸着源) ・有機蒸着:最大4源(Model. LTEC-1cc/5cc) ・EB電子ビーム蒸着源:7ccるつぼx6(又は4ccるつぼx8) ・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大4源 ・プロセス制御:手動/自動多層膜・同時成膜、APC自動制御 ・膜厚モ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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【HTシリーズ基板加熱ヒーターMax1900℃】Φ1〜8inch
プレート最高温度Max1900℃。HV, UHVほか過酷なプロセス環境…
基板加熱ヒーターは半導体・電子デバイス等の成膜工程での基板加熱用に開発されたハイスペック基板加熱ヒーターです。 トッププレートに熱伝導性・熱放射率・耐サーマルショック・絶縁性に優れた窒化アルミを標準採用、プレートを短時間で超高...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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商業的使用に好適!非常に安定性があり、予測可能な特性と挙動を持っていま…
蒸着プロセスであり、 それ故に商業的使用に好適。 ダイヤモンドエレメントの単結晶ラボで成長したダイヤモンドの品質は、 非常に安定性があり、予測可能な特性と挙動を持っており、切断、光学、 電子、検出器のアプリケーションに使用されています。 【特長】 ■MPCVDは、効果的に単結晶ダイヤモンド(SCD)を生成する ■要求の厳しいアプリケーションに適したラボグロウンダイヤモンドプレ...
メーカー・取り扱い企業: 合同会社SUPERHARD JAPAN
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電子・半導体業界用!1枚のウェハー製造用ヒーターモジュール
従来のシリコンデバイス用途のみならず、シリコン系パワーデバイス(IGBT)の熱処理用途や化合物半導体(GaN、SiC)のアニール処理、エピ成長装置としてご検討下さい。 ...半導体ウェハー枚葉熱処理用ヒーターモジュール □■特徴■□ ■耐熱性に優れた断熱材と二珪化モリブデンヒーターの一体型モジュール ■小スペースに大容量の出力が可能 ■精密な温度制御が可能 ■タイプ:SWR...
メーカー・取り扱い企業: アレイマジャパン株式会社 カンタルカンパニー
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Nd:YAGレーザパルス蒸着システム
(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD(パルスレーザ蒸着)装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト(IBAD)蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス(酸素、窒素、アルゴン等)下における高...
メーカー・取り扱い企業: AOV株式会社
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PLAD-221-Y PLDシステム
(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD(パルスレーザ蒸着)装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト(IBAD)蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス(酸素、窒素、アルゴン等)下における高...
メーカー・取り扱い企業: AOV株式会社
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仕上り加工外径はφ12.7 摩擦圧接と電子ビーム溶接の複合加工です。…
・1個からの試作品を得意としています ・真空部品(シール面には気を使います) ・脱脂洗浄後出荷いたします ・大径から小径部品まで対応いたします ...〇大学・研究室からのお問合せお待ちしています 〇小ロット対応 〇大手企業様の開発にも役立ちます ...
メーカー・取り扱い企業: スリーエス株式会社
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B-A真空計『ミニチュアイオンゲージ IG-10(ICF70)』
センサー・回路部・ディスプレイが一体型のコンパクトな熱陰極電離真空計で…
広帯域(1.33×10-7Pa)?(6.65Pa)の高真空領域までを 高精度測定ができる『イオンゲージ真空計』です。 ディスプレイは高照度・高精細有機ELを採用し高視認性で、多様なデータを 簡単操作で呼び出し、コントロールする事ができます。 また、多様なインターフェースも標準装備しています。 【特長】 ■広い測定範囲(1.33×10-7Pa)?(6.65Pa) ■簡単なセ...
メーカー・取り扱い企業: 東京電子株式会社
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スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A
コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
ポンプ(ドライポンプ可) ・真空排気:真空/ベント自動制御 ・抵抗加熱蒸着:最大4源(Model. TE1~TE4蒸着源) ・有機蒸着:最大4源(Model. LTEC-1cc/5cc) ・電子ビーム蒸着源:7ccるつぼx6(又は4ccるつぼx8) ・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大4源 ・プロセス制御:手動、又は自動連続多層膜・同時成膜、APC自動制御 ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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PLAD-250R PLDシステム
(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD(パルスレーザ蒸着)装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト(IBAD)蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス(酸素、窒素、アルゴン等)下における高...
メーカー・取り扱い企業: AOV株式会社
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PLAD-261PG PLDシステム
(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD(パルスレーザ蒸着)装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト(IBAD)蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス(酸素、窒素、アルゴン等)下における高...
メーカー・取り扱い企業: AOV株式会社
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エキシマレーザパルス蒸着システム
(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD(パルスレーザ蒸着)装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト(IBAD)蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス(酸素、窒素、アルゴン等)下における高...
メーカー・取り扱い企業: AOV株式会社
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PLAD-271PE PLDシステム
(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD(パルスレーザ蒸着)装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト(IBAD)蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス(酸素、窒素、アルゴン等)下における高...
メーカー・取り扱い企業: AOV株式会社
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PLAD-150Y PLDシステム
(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD(パルスレーザ蒸着)装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト(IBAD)蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス(酸素、窒素、アルゴン等)下における高...
メーカー・取り扱い企業: AOV株式会社
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PLAD-161 PLDシステム
(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD(パルスレーザ蒸着)装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト(IBAD)蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス(酸素、窒素、アルゴン等)下における高...
メーカー・取り扱い企業: AOV株式会社
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PLAD-250E PLDシステム
(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD(パルスレーザ蒸着)装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト(IBAD)蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス(酸素、窒素、アルゴン等)下における高...
メーカー・取り扱い企業: AOV株式会社
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