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14件 - メーカー・取り扱い企業
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PR欧州最大級のベルギーCampine社製!脱中国・BCP対策の素材原料と…
当社では、世界各地に原料ソースを持ち、世界最大級の生産量を誇る 三酸化アンチモン製造メーカーCampine社の製品を取り扱っております。 『三酸化アンチモン』は、ハロゲン系難燃剤との併用で難燃効果を高め、 難燃剤添加量の低減に寄与します。 パウダー製品とウェット製品をご用意しており、 ウェット製品は、三酸化アンチモンに可塑剤を配合したグレードです。 作業現場でATOの発塵を抑え...
メーカー・取り扱い企業: キンセイマテック株式会社
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PRワンタッチ起動でプラズマ切断可能!枝管切断・母管穴切断など様々な切断仕…
当社では、パイプを装着後にタッチパネルで切断諸元パラメータを設定すると、 ワンタッチ起動でプラズマ切断が行える『CNCプラズマ自動切断機』を 提供しております。 手作業(型紙墨入れ+実切断時間)に比べ、1/60以下に作業を短縮。 さらに、仕上がりも綺麗です。 【切断技術】 ■枝管切断 ・直角切断 ・斜め切断 ・斜め平面切断 ■母管穴切断 ※詳しくはPDFをダ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エトロンシステム
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高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…
ュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 高温基板加熱ステージ(二重ジャケット水冷式)オプション -1) Max600℃(ランプ加熱) -2) Max1000℃(C/Cコンポジット) -3) Max1000℃(SICコーティング) ロードロック内逆スパッタステージ -1) 300W、又は -2) Soft-Etching(<30W) システム...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
r, O2, N2)反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF300W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチャンバー) 基板加熱:Max500℃, 800℃, 又は1000℃(C/C、又はSiCコート) 基板回転・上下昇降(ステッピングモーター自動制御) APC自動制御:アップストリーム(MFC流量調整)又はダウンストリーム(排気側バルブ自動開度調整) 寸法:...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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高温ワークを非接触にて移載するベルヌーイチャック
るウエハの非接触にて搬送、ガラスモウルディングレンズの非接触搬送が可能になりました。 その他、アルミニュウム、SUS、PEEK他、使用環境に合わせて製作しております。 ◎特徴 1.耐熱1000℃可能 2.使用温度環境に応じた材料を使用します。 PTFE. ・PEEK・アルミニュウム・SUS316他・石英 酸性・アルカリ性・腐食ガスに考慮 ◎対象ワーク 1.高温...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社ソーラーリサーチ研究所 大阪事業所
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スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】
スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに…
ル ◉ APC自動圧力コントロール ◉ MFC搭載高精度プロセス制御 ◉ Arガス1系統(標準) + N2, O2 最大3系統まで増設 ◉ USB端子付 Windows PCに接続し、最大1000layer, 50filmのレシピを作成・保存。PCでデータロギング ◉ 他、多彩なオプションを用意 ◉ 7"タッチパネル簡単操作 PLC自動プロセスコントロール...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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イオンアシスト蒸着に最適なイオンソースを提供します
TELEMARK製のイオンアシスト蒸着に最適なイオンソースを提供いたします。イオンアシスト蒸着(IAD)技術は余分な基板加熱なしに高密度で安定な成膜可能なプロセスです。TELEMARKのグリッドレスイオンソースシステムは独自のデザインのイオン源により、ガラス、プラスチック、金属の様々な基板で安定なイオンアシスト蒸着を可能にしました。...TELEMARK製イオンソースシリーズは、 1. 軽量コン...
メーカー・取り扱い企業: VISTA株式会社
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UHVチャンバー間でサンプルを輸送することを目的とした1軸サンプルトラ…
のセットは、ハンドルから内側軸への 強固な結合を確実にするために必要な力を発揮します。 【ラインアップ】 ■RM40-0500-0030 ■RM40-0750-0030 ■RM40-1000-0030 ■RM40-1250-0030 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社テク
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弊社トランスファーロッドは、マグネット方式であり、超高真空領域まで使用…
真空中の試料や機器等に、大気側から直線運動と回転運動を伝達する導入機です。 本製品は、長い距離(500mm~1000mm)での試料等の搬送を行う際に最適です。 マグネット方式の為、外部との真空封止は完全で、半永久的に安定した動作を得られます。 真空中に取り付けられた直線運動及び回転運度を要する機器への応用が...
メーカー・取り扱い企業: 北野精機株式会社
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【 4000台販売突破キャンペーン実施中 】 弊社トランスファーロッ…
真空中の試料や機器等に、大気側から直線運動と回転運動を伝達する導入機です。 本製品は、長い距離(500mm~1000mm)での試料等の搬送を行う際におすすめです。 マグネット方式の為、外部との真空封止は完全で、半永久的に安定した動作を得られます。 真空中に取り付けられた直線運動及び回転運度を要する機器への応...
メーカー・取り扱い企業: 北野精機株式会社
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高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…
ュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 高温基板加熱ステージ(二重ジャケット水冷式)オプション -1) Max600℃(ランプ加熱) -2) Max1000℃(C/Cコンポジット) -3) Max1000℃(SICコーティング) ロードロック内逆スパッタステージ -1) 300W、又は -2) Soft-Etching(<30W) システム...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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平面モノだけでなく、立体モノへの成膜もできます!ご希望の成膜箇所をお聞…
部位へ成膜が行えます。 また、保持方法等の工夫により段差部や溝・穴の内部への成膜が可能な場合もあります。 φ1mm以下の 小さなもの から、φ500mm×L500mmの立体物、800mm×1000mmの平板など、サイズや形状に柔軟に対応可能です。 保持(固定)が難しそうでも、当社には35年以上の豊富な経験とノウハウがありますので、まずはお気軽にご相談ください★...
メーカー・取り扱い企業: 東邦化研株式会社
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蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…
:Φ10inch ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4源 ・有機蒸着源 x 最大4源 ・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源 ・電子ビーム蒸着 ・基板加熱ステージ(標準500℃, Max1000℃) ・*プラズマエッチング/<30Wソフトエッチング ・CVD(熱CVD, PECVD) *プラズマエッチングはメインチャンバー、ロードロックチャンバーいずれも設置可能...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A
コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
, O2, N2)反応性スパッタリング プラズマエッチングステージRF300W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチャンバー) 基板加熱:Max500℃, 800℃, 又は1000℃(C/C、又はSiCコート) 基板回転・上下昇降(ステッピングモーター自動制御) APC自動制御:アップストリーム(MFC流量調整)又はダウンストリーム(排気側バルブ自動開度調整) 寸法:...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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□■□【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置□■□
蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…
:Φ10inch ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4源 ・有機蒸着源 x 最大4源 ・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源 ・電子ビーム蒸着 ・基板加熱ステージ(標準500℃, Max1000℃) ・*プラズマエッチング/<30Wソフトエッチング *プラズマエッチングはメインチャンバー、ロードロックチャンバーいずれも設置可能...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□
グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…
:Φ10inch ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4源 ・有機蒸着源 x 最大4源 ・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源 ・電子ビーム蒸着 ・基板加熱ステージ(標準500℃, Max1000℃) ・プラズマエッチング/<30Wソフトエッチング...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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