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◆OLED◆ 有機蒸着・高温用金属蒸着セル Max1500℃
PR有機蒸着源〜800℃、金属蒸着源〜1500℃、真空用 高温加熱セルとし…
OLED蒸発源は最高使用温度1500℃の真空蒸着用 高温蒸着ソースです。 固定ベースを外さずにボディを差し替えるだけで、有機EL等の低温有機蒸着(~ 800℃)用セルと高温加熱(~ 1500℃)セルを交換することができます。 真空成膜用ソースとしてお使いの場合はシャッター・アクチュエータも用意。 800℃以上の高温ヒーターとしてお使いの場合は、内部シールド構造を備え、断熱・熱遮蔽を考慮した設...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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インバータ、充電器、PVコントローラ等【総合カタログプレゼント】
PR厳しい品質検査を通った、安心して使える製品ばかり!欲しい製品が見つかる…
電力変換器のDC-ACサイン波インバータやDCコンバータ、充電器やソーラーコントローラーなど、電源周りの製品は安定した性能にこだわりたいもの。 未来舎『POWERTITE シリーズ』なら、出荷前の品質適正検査等を実施し、安心して使えるよう万全の体制を整えています。 この充実の製品ラインアップが掲載された総合カタログをプレゼント中です! 【掲載製品】 ■DC-ACサイン波インバータ ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社未来舎
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手動及び自動シャッターは、純度の高いタンタルで製作!
EF40C1はMBE装置に適応した蒸発セルとして開発されました。 モリブデンフリーの材質によって製作されているため、250~1500℃の範囲で蒸発する低融点及び中融点材料に対して使用できます。 詳しくは、カタログをダウンロードしてご覧下さい。...【特長】 ●クルーシブルー容量が5ccの中間温度用セルとして、広く使用 ●クルーシブの材料は主にPBN、AI203ですが、他の材料のご要望にも対応可...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクノポート
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リフトオフ・厚膜・低温成膜対応 昭和真空の技術を結集させた最上位モデ…
多機能型・真空蒸着装置 「SEC-22C」は、蒸発源として電子ビーム式蒸発源を採用しています。 高融点金属や酸化物を成膜する事ができます。 蒸発速度の制御と膜厚の制御は水晶発振式膜厚計により行います。 主ポンプはクライオポンプを搭載しています。 操作制御系は全自動式になっています。 【特徴】 ○良好な膜厚分布が得られるように蒸発源と基板治具が配置されている ○電子ビーム式蒸発源は...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空
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コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜:3元同時成膜(RF500W or DC850W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF300W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチャ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…
連続多層膜、同時成膜(2〜6元同時成膜:RF, DCをHMIより自在に配置切替) 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 高温基板加熱ステージ(二重ジャケット水冷式)オプション -1) Max600℃(ランプ加熱) -2) Max1000℃(C/Cコンポジット) ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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◆HTEヒーター◆ 高真空るつぼ加熱ヒーター Max1500℃
真空用 高温るつぼ加熱ヒーター。有機蒸着源 800℃、金属蒸着源 15…
HTEヒーターは最高使用温度は1500℃の超高温真空用加熱ヒーターユニットです。 蒸発温度の高い材料も使用することができますので、有機EL等の低温有機蒸着(~ 800℃)・高温抵抗加熱蒸着(~ 1500℃)など、真空蒸着成膜用としても様々な用途に応用いただけます。真空成膜用蒸着ソースとしてお使いの場合はシャッター・アクチュエータも追加可能。 800℃以上の高温ヒーターとしてお使いの場合は、内部...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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◆OLED◆ 有機蒸着・高温用金属蒸着セル Max1500℃
有機蒸着源〜800℃、金属蒸着源〜1500℃、真空用 高温加熱セルとし…
OLED蒸発源は最高使用温度1500℃の真空蒸着用 高温蒸着ソースです。 固定ベースを外さずにボディを差し替えるだけで、有機EL等の低温有機蒸着(~ 800℃)用セルと高温加熱(~ 1500℃)セルを交換することができます。 真空成膜用ソースとしてお使いの場合はシャッター・アクチュエータも用意。 800℃以上の高温ヒーターとしてお使いの場合は、内部シールド構造を備え、断熱・熱遮蔽を考慮した設...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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ハイレート対応、厚膜成膜、大型装置対応
日本電子株式会社 BS-60610BDS ボンバード蒸着源は、電子ビームボンバード間接加熱法を利用した真空蒸着源です。 従来機種 (BS-60310BDS) にビームスキャン機能を増設したことにより ハイレート対応、厚膜成膜、大型装置対応等の特長が得られます。 〇特長 ・ライナー大容量化。 ・ハイレート化 ・大型装置対応。 ・厚膜対応。赤外用途への対応も可能 ・レート安定化 ・低ダメージ・低欠陥...
メーカー・取り扱い企業: アズサイエンス株式会社 松本本社
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有機物蒸着にも対応。 コンパクトで取扱いが簡単な、抵抗加熱蒸着源
RADAKはLUXEL社が30年以上にわたり提供している製品です。独自のデザインと技術に基づいた本製品は、汎用性があり、操作性に優れている上に、幅広い材料の蒸着にお使い頂けます。 ルツボの材質、ライナー、熱電対、その他のオプションを適切に選択し、組み合わせることで、有機薄膜デバイス(OLED)、薄膜電池、太陽電池など、さまざまな用途への対応が可能です。 蒸着、成膜を伴う実験を行われている方には...
メーカー・取り扱い企業: ラドデバイス株式会社
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スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A
コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜:3元同時成膜(RF500W or DC850W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング プラズマエッチングステージRF300W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…
連続多層膜、同時成膜(2〜6元同時成膜:RF, DCをHMIより自在に配置切替) 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 高温基板加熱ステージ(二重ジャケット水冷式)オプション -1) Max600℃(ランプ加熱) -2) Max1000℃(C/Cコンポジット) ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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