長尺マシニングセンタ 【2～6ｍの長尺加工に適した4タイプ】

PR通常のマシニングセンタよりも段取りが格段にし易い！長尺材加工に適したマ…

長尺マシニングセンタとは、長尺材(2m〜6m)に特化し、切削加工(フライス削り、穴あけ、ねじ立て)するマシニングセンタです。4タイプありますので用途に合わせてお選びいただけます。 ■ILMシリーズ（主軸：BT40） ツールマガジンをコラムに内蔵、工具交換は左右任意の位置で可能な特にアルミ長尺材加工に適した高剛性マシンです。 ■ILSシリーズ（主軸：BT50） ツールマガジンをコラム...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イワシタ

新規次世代パワー半導体の研究開発拠点を開所

PR低損失化、高耐圧化、小型化の面で優位性を持つ、GeO2半導体の製膜事業…

株式会社クオルテック(本社：大阪府堺市、以下「クオルテック」)は、 「滋賀県立テクノファクトリー」内に、新規半導体材料を使用した パワー半導体の製膜における研究開発拠点を開所しました。 開所式にはクオルテックが本研究開発に関して資本業務提携し、 「琵琶湖半導体構想(案)」を推進する立命館大学発ベンチャー、 Patentix株式会社(本社：滋賀県草津市)も出席し、開所式を行いました。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クオルテック

スパッタ・蒸着複合装置

1インチUHV対応スパッタカソード2源！ロードロック室は増設することが…

当製品は、RFスパッタと抵抗加熱蒸着をあわせもつ製膜装置です。 ロードロック室増設可能。2インチ基板対応加熱・回転基盤ホルダーの 仕様です。 また、1インチUHV対応スパッタカソード2源で、3源切替式抵抗加熱蒸着と なっております。 【特長】 ■1インチUHV対応スパッ...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

管状電気炉

発電効率を測定する「燃料電池加熱試験装置」や「固体内イオン移動装置」な…

当社が取り扱う『管状電気炉』をご紹介します。 「燃料電池加熱試験装置」は、炉体、高真空排気系付き石英炉心管・ガス系・ 電気計測系により構成。試料を常用1000℃で加熱し、H2.O2ガス反応により 発電効率を測定します。 他に、「固体内イオン移動装置」や「縦型電気雰囲気炉」などもございます。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【ラインアップ】 ...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

低温材料用蒸着源の評価データ

セレン化ビスマスの安定した結晶成長が得られることを確認しました

化ビスマスの結晶成長を確認しました。 この結晶成長実験とデータは、九州工業大学教授の ご協力を得て実施・取得しました。 【評価データ】 ■低温材料高速分子線蒸着源 ■成長速度(Bi2Se3) ■RHEEDストリーク画像(Bi2Se3) ■RHEED振動データ(Bi2Se3) ■ラマン分光計測データ(Bi2Se3) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

薄膜作成コンポーネント

薄膜作成コンポーネント

・マッチングボックス内蔵の専用RF電源付き ・UHVにも対応 ・お手持ちの真空チャンバーに容易に搭載可能 ■ICF70よりマウント可能なEBガン ・3kWシングル、3連式をラインナップ ・2cｃルツボを備えた小型電子銃（最小） ・水冷式接続ポート等、設計製作します ・水冷式UHV対応構造 ・豊富なハース材料 ■ルツボ最小2cc〜100cc対応Kセル ・ICF70よりマウント対...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

セレン化ビスマスの結晶成長・実験

ラマン分光計測によるピーク確認によりセレン化ビスマスの結晶成長を確認し…

は、九州工業大学大学院情報工学 研究院教授の多大なご協力を得て実施・取得しました。 【計測データ】 ■高速分子線蒸発源 ■蒸発レート曲線(Bi,Se) ■RHEEDストリーク画像(Bi2Se3) ■RHEED振動データ(Bi2Se3) ■ラマン分光計測データ(Bi2Se3) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

斜入射型蒸着装置

基板入射に対応する円弧型レール上に任意位置で固定可能！蒸着ポジションを…

源を 備えた基板入射角可変型蒸着装置です。 任意の基板入射に対応する円弧型レール上に、任意位置で固定可能。 蒸着ポジションを調整することができます。 【Kセル】 ■ルツボ容量：2cc ■加熱温度：Max1,200℃ ■加熱制御電源 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

基板接合（直接接合・陽極接合・真空封止）

基板接合（直接接合・陽極接合・真空封止）

徴■□■ ■陽極接合・直接接合・熱圧着接合に任意対応 ■ウェハーレベルからチップレベル接合に任意対応 ■加熱エリア・温度：φ6cm・Max1,000℃ ■加圧：Max1,000kg/cm2 ■雰囲気圧力：真空〜加圧雰囲気 ■各種MEMSセンサー・マイクロチップ・次世代デバイス ■表面改質ユニット任意取り付け対応可能 ■半導体製造装置や理化学機器及び付属品のオーダーメイド品...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

偏光モード変換器（PMC）の小型化と試作設備の開発

製品化に向けた評価用PMCの開発を行うと共に小ロットライン構築

いく計画 ○光学顕微鏡応用 →立休配向顕微鏡（生体分子、液晶分子）10nmの空間分解能を持つ超解像顕微鏡 →界面に付着した分子や電荷の高感度検出、高効率光ピンセット技術 ○粒子の光操作 →2次イオン質量分析計の高分解能化、電子顕微鏡の光リターダンス（減速）法 ○その他 →レーザー加工の高効率化、光学記録メディアへの3次元ベクトル書き込み、 　世界初のマルチプローブ原子間力顕微鏡 ...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

sic表面熱分解法　グラフェン結晶成長装置

熱分解グラフェン成長に適したsic基板加熱機構を装備

結性と設備投資しやすい経済性です。回折パターンよりグラフェンの形成を確認。グラフェン／バッファー層が形成されています。ストリークはファセット上のグラフェンの1次元的な構造によるものと考えています。約250nm幅のテラス（0001）上にグラフェンが均一に形成され周期構造はオフ基板特有のステップパンチングの結果です。顕微Raman測定でもグラフェンの形成を確認しました。サンプル表面の光学顕微鏡像に示...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

薄膜作成コンポーネント

単品試作から用途に合わせて製作可能！「EBガン」や「Kセル」などをライ…

当社の取り扱う『薄膜作成コンポーネント』をご紹介します。 世界最小クラスのUHV対応「マグネトロンスパッタカソード」をはじめ、 ICF70よりマウント可能な「EBガン」やルツボ最小2cc～100cc対応の 「Kセル」などをラインアップ。 また、有機・金属材料対応の「マルチ抵抗加熱ソース」や「コニカル型 蒸着ソース」などもご用意しております。 【ラインアップ】 ...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

4インチ3源RFスパッタ装置

基板寸法は最大3インチで3枚収納可能！加熱機構・逆スパッタ機構を備えて…

特長】 ■基板寸法：最大3インチ（3枚収納可） ■基板ホルダー：基板加熱500℃、基板回転、逆スパッタ機構付き ■スパッタカソード：φ4インチマグネトロンカソード（3基） ■ガス系：Ar,O2 MFC2系統 ■基板挿入：上蓋手動開閉 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社