ねじの構造や選定・製品製作時の部品選定に役立つ技術資料進呈

PR基本的なねじの構造や製品選定時に役立つ情報が満載！製品製作時の部品選定…

3分でわかる！ねじに関する技術資料進呈中！ 是非、ダウンロードしてご覧ください。 ■ねじ図鑑 市場で流通している製品のうち、比較的よく使われているものをまとめました。 ■プラスチックねじに使われる樹脂の概要 ・樹脂の材質概要 ・各種類の特徴 ・樹脂の種類別機械的材質 ・樹脂の材質物性一覧 ・樹脂の耐薬品性一覧 ■植込みボルトと両ねじボルトの違い 植込みボルトの規格である≪JIS B 1173...

メーカー・取り扱い企業： 池田金属工業株式会社

IKフロックスクリーン『FST型』【二次処理の負荷を低減！】

PR立体的なろ布が威力を発揮！洗米排水やホテル厨房系排水に適したろ過装置の…

『FST型』は、小型でコンパクトに装置が配列できるため、設置スペースが 小さく維持管理が容易な自動再生式SS凝集ろ過装置です。 ろ布再生時のみモーターが駆動するので消費電力が極めて少なく、 大掛りな土木工事が不要であり、設備費が廉価。 また、一次処理として後段の負荷低減が簡単に行え、二次処理の能力・ 効率アップがはかれます。 【特長】 ■設置スペースが小さく維持管理が容易...

メーカー・取り扱い企業： 日本技建株式会社

小規模生産・開発用常圧CVD(APCVD)装置 (D501)

試作・開発・小ロット生産向け　NSG(SiO2)/BSG/PSG/BP…

D501は、少量生産/テストや不定形基板へのシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、バッチ式(複数枚同時処理)の常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 　・異形状・サイズ基板の同時処理 　・高い成膜速度 　・シンプルメンテナンス 　・省フットプリント 　・低CoO(低ランニングコスト) 【用途】 　・層間絶縁膜(NSG/PSG/BPSG) 　・拡散/インプラ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

高性能枚葉式常圧CVD(APCVD)装置 (A200V)

少量・多品種向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　枚葉式…

A200Vは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・犠牲膜等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした枚葉式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 　・絶縁膜・拡散/インプラマスクの成膜に好適 　・枚葉式Face-down成膜による低パーティクル成膜 　・密閉式チャンバーによる高い安全性と成膜安定性 　・ウェハ反り矯正機能（特許取得済）によるSiCウェハ対応 　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

クラスター装置『Morpher』

デバイス量産へ、優れたプロセス品質、信頼性、高スループットを提供！

Morpher ALDシステムは、業界標準の枚葉ウエハ真空クラスタプラットフォームを組み込み、ウエハバッチを完全自動処理するように設計されています。 米国特許取得済みのウエハバッチフリップ機構により、他の半導体製造ラインとのシステムの統合が可能で、またSEMI S2/S8認定により、当システムが業界の最も厳しい規格と互換性があることが保証されています。 Morpher ALDシステムは、...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社

ガラス基板成膜装置「低温成膜」「フレキシブル基板対応」

FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板…

FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板成膜装置です。 【特徴】 　・低温(150～300℃)成膜 　・4.5世代ガラス基板に250℃で100nmのSiO2膜をスループット 25枚/h以上の成膜 　・シンプルメンテナンス 　・低CoO(低ランニングコスト) 　・高品質なSiO2膜の形成: 低ストレス、プラズマダメージレス、小パーティクル 　・導入・維...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 　・最大100枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ～8インチ) 　・真空・プラズマ不要 (熱CVD) 　・SiCトレー採用による重金属汚染(メタルコンタミ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 　・～56枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ～12インチ) 　・真空・プラズマ不要 (熱CVD) 　・SiCトレー採用による重金属汚染(メタルコンタミネ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

太陽電池セル量産用連続式常圧CVD装置 (AMAX1000S)

結晶Si太陽電池セル量産用　NSG(SiO2)/PSG/BSG膜成膜用…

AMAX1000Sは、「AMAX」シリーズの実績をもとに、太陽電池(セル)製造用に開発された連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 　・156mm角/125mm角ウェハ対応 　・1500枚/hの高生産性 　・太陽電池用薄型ウェハ対応 【用途】 　・拡散/インプラ用ハードマスク, 犠牲膜(NSG) 　・パッシベーション膜(保護膜・絶縁膜)(NSG) 　・固相拡散用...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

放熱 単結晶 ラボグロウン ダイヤモンド

3.0x3.0mmから10.0x10.0mmまでのサイズをラインアップ…

当社が取り扱う『単結晶ラボグロウンダイヤモンド』をご紹介します。 横は+0.2/0-0mm、厚さは+/-0.05mm。 材料特性は、ホウ素濃度[B] <0.05ppm、窒素濃度 <1ppmです。 3.0x3.0mmから10.0x10.0mmまでのサイズをご用意しております。 【仕様と公差（一部）】 ■横：+0.2/0-0mm ■厚さ：+/-0.05mm ■結晶方位(ミスカ...

メーカー・取り扱い企業： 合同会社SUPERHARD JAPAN

B-A真空計『ミニチュアイオンゲージ　IG-10（ICF70）』

センサー・回路部・ディスプレイが一体型のコンパクトな熱陰極電離真空計で…

広帯域（1.33×10-7Pa）?（6.65Pa）の高真空領域までを 高精度測定ができる『イオンゲージ真空計』です。 ディスプレイは高照度・高精細有機ELを採用し高視認性で、多様なデータを 簡単操作で呼び出し、コントロールする事ができます。 また、多様なインターフェースも標準装備しています。 【特長】 ■広い測定範囲（1.33×10-7Pa）?（6.65Pa） ■簡単なセ...

メーカー・取り扱い企業： 東京電子株式会社

単結晶ラボグロウンダイヤモンド

3.0x3.0mmから10.0x10.0mmまでのサイズをラインアップ…

当社が取り扱う『単結晶ラボグロウンダイヤモンド』をご紹介します。 横は+0.2/0-0mm、厚さは+/-0.05mm。 材料特性は、ホウ素濃度[B] <0.05ppm、窒素濃度 <1ppmです。 3.0x3.0mmから10.0x10.0mmまでのサイズをご用意しております。 【仕様と公差（一部）】 ■横：+0.2/0-0mm ■厚さ：+/-0.05mm ■結晶方位(ミスカ...

メーカー・取り扱い企業： 合同会社SUPERHARD JAPAN

耐熱 単結晶 CVD ダイヤモンド

3.0x3.0mmから10.0x10.0mmまでのサイズをラインアップ…

当社が取り扱う『単結晶ラボグロウンダイヤモンド』をご紹介します。 横は+0.2/0-0mm、厚さは+/-0.05mm。 材料特性は、ホウ素濃度[B] <0.05ppm、窒素濃度 <1ppmです。 3.0x3.0mmから10.0x10.0mmまでのサイズをご用意しております。 【仕様と公差（一部）】 ■横：+0.2/0-0mm ■厚さ：+/-0.05mm ■結晶方位(ミスカ...

メーカー・取り扱い企業： 合同会社SUPERHARD JAPAN