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PR先端デバイスの開発など、優れた信号解析性能が要求されるアプリケーション…
高性能オシロスコープPicoScope 6428E-Dは、 既存のPicoScope 6000Eシリーズの性能を拡張したもの。 高エネルギー物理学、LIDAR、VISAR、分光分析、加速器、 および他の高速信号解析に取り組む科学者や研究者にとって理想的なツールです。 【特徴】 ・周波数帯域 3 GHz ・最高サンプリング速度 10 GS/s ・分解能可変8-12ビット ・メモリ4GS ・アナロ...
メーカー・取り扱い企業: Pico Technology Ltd.
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ギ酸還元対応 卓上型真空リフロー装置『VSS-450-300』
PR課題解決事例を進呈中!ギ酸還元でボイドレス・フラックス残渣ゼロの高信頼…
『VSS-450-300』は、はんだリフローや酸化還元処理の他、ペーストの 焼結など、様々なアプリケーションにも柔軟に対応した 卓上型真空はんだリフロー装置です。 有効加熱エリアは300×300×50mmですので、高さのある部品実装にも 余裕で対応することができます。 【特長】 ■フラックスレスはんだ(還元方式)・フラックス入りはんだ両対応 ■卓上型サイズながら、最大到達温度...
メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社
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バッチ式プラズマアッシング処理装置(バッチ式プラズマアッシャー)
ウエハ50枚一括のバッチ式プラズマアッシング装置
本装置は、同軸バレル構造をチャンバーに持つ、ウエハ50枚一括のバッチ式プラズマアッシング装置です。 ウエハサイズは、5インチ以下、6インチ、8インチに対応しています。 また、オプションにて4インチと6インチ、5インチと6インチウエハ兼用も可能です。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社リバティー
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プラズマ処理装置(多目的プラズマエッチャー)
本装置は、平行平板型高周波プラズマにより、ポリイミド系樹脂・窒化膜等のエッチングやフォトレジストのアッシング(灰化除去)、表面改質等に有効な多目的枚葉式プラズマユニットです。 ウエハサイズ50〜200mm(2〜8インチ)、BGA・CSP等に対応しており、プラズマモードは、オペレーションパネルでDPモードとRIEモードを切り替える事が出来ます。また、搬送ユニットの後付けが可能な為、実験・研...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社リバティー
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50枚一括バッチ式プラズマアッシング装置(アッシャー装置)・6インチウ…
高性能装置を低価格でご提供。 アッシングレート:300Å以上、面内均一性:±20%以下、バッチ間均一性:±20%以下、処理能力:150枚/時間(RF0分で算出)。枚葉式アッシャー、エッチャーも低価格でご提供しております。老朽化した装置のレトロフィットもお受けしております。...
メーカー・取り扱い企業: ヤマトマテリアル株式会社
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瞬時電圧低下による製品不良の発生と装置故障の損害からラインを守る『TS…
、デバイスメーカ様ではCVD、スパッタ、フォトリソ、 エッチング、イオン注入、拡散、洗浄工程での影響が想定されます。 このため半導体の製造設備に対し「SEMI-F47」の規格では 電圧低下50%継続時間0.2秒以下、または電圧低下30%継続時間0.5秒以下の 瞬時電圧低下に対して耐性を持つよう要求されています。 【瞬時電圧低下による損害例】 ■製品不良 → バッチ処理工程設備(...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社シナジー
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