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手作業と比べ1/60以下の時間短縮『CNCプラズマ自動切断機』
PRワンタッチ起動でプラズマ切断可能!枝管切断・母管穴切断など様々な切断仕…
当社では、パイプを装着後にタッチパネルで切断諸元パラメータを設定すると、 ワンタッチ起動でプラズマ切断が行える『CNCプラズマ自動切断機』を 提供しております。 手作業(型紙墨入れ+実切断時間)に比べ、1/60以下に作業を短縮。 さらに、仕上がりも綺麗です。 【切断技術】 ■枝管切断 ・直角切断 ・斜め切断 ・斜め平面切断 ■母管穴切断 ※詳しくはPDFをダ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エトロンシステム
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【2024年5月22日~24日】2024NEW環境展出展のご案内
PR取組内容と各製品をご紹介。ブースにて実機デモを実施予定!
この度、5月22日より東京ビッグサイトで開催される国内最大級の 環境製品の展示会「2024NEW環境展」に弊社の製品を出展します。 飲料容器再資源化システム『ペトリス』『リサイクル4』を展示し、 飲料容器を選別・圧縮する実機デモを実施予定です。 【出展概要】 ■会期:2024年5月22日(水)~24日(金) ■時間:午前10時~午後5時(最終日は午後4時まで) ■会場:東京ビ...
メーカー・取り扱い企業: 日工株式会社 事業本部
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コンパクト・省スペース・省エネルギー! 高性能 R&D用超高温実験炉
徴◆ ・省スペース ・ロータリーポンプ、コンプレッサー付属 ・インターロック:断水警報、過昇温、ガス圧力低下 ◆基本仕様◆ ・電源仕様:AC200V 75A NFB 50/60HZ(C-500) ・Max2900℃(カーボン炉)、2400℃(メタル炉)、 ・プログラム温度調節計、C熱電対 ◆オプション◆ ・記録計 ・ターボ分子ポンプ ・るつぼ ◆主なアプリケーション◆ ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…
【主仕様】 ・基板サイズ:Max12inch対応 ・チャンバー:SUS304 UHV対応、500 x 500 x500mm ・到達真空度:5 x 10-5pascal ・スパッタカソード:Φ2"(最大6)、Φ3"(最大4) ・プラズマ電源:RF150W, 300W, DC850W, H...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜:3元同時成膜(RF500W or DC850W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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スパッタ・蒸着源複合型 薄膜装置 【nanoPVD-ST15A】
真空蒸着(金属・有機蒸着源)、スパッタリングカソードの混在設置が可能な…
開発用途で求められる高品質な薄膜を作成することができます。 ガス系統最大3系統(プロセス圧力APC自動制御)、連続自動製膜(最大20層)、2源同時成膜など豊富な機能を備え、更に基板加熱ヒーター(500℃)、ドライスクロールポンプなど豊富なオプションも用意。 真空引き・成膜制御・ベント、レシピ作成、更に故障解析、ログ等全て前面の7"タッチパネルで操作、操作の一元管理が可能です。 Intell...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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【PyroCouple】 (パイロカップル)赤外線温度センサー
小型計量・堅牢ボディ・高精度±1%・240msec高速応答 産業用機…
【その他仕様】 ◉ 視野角:2:1, もしくは15:1 ◉ 温度範囲: ・LT(-20℃〜100℃) ・MT(0〜250℃) ・HT(0〜500℃) ◉ 測定波長領域:8〜14μm ◉ 放射率:0.95(固定) ◉ 電源:24VDC ◉ 本体寸法:Φ18mm(径) x 103mm(長さ) ◉ 重量:約95g ◉ ケーブル1m(...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…
方式 ・2inchマグネトロンカソードx3源(標準1源) ・RF電源:150W 自動マッチング ・DC電源:850W ・対応基板サイズ2inch、4inch ・基板回転・上下昇降・加熱(500℃)オプション ・プロセスガス制御:MFC x 1(Ar標準、最大3系統増設:N2, O2) ・APC自動制御(キャパシタンスマノメータ オプション) ・水晶振動子膜厚モニタ ・シャッター...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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高機能タッチパネル変換器で簡単設定・データロギング・microSDカー…
-301:30:1 ・PM-CF:φ5mm@100mm ・PM2.2-151:15:1 ・PM2.2-251:25:1 ・PM2.2-751:75:1 ・PM2.2-CF:φ7.5mm@500mm ◉ 温度範囲: ・PMモデル:-20℃〜1000℃ ・PM2.2モデル:100〜2000℃ ◉ 測定波長領域: ・PM:8-14um ・PM2.2:2.0〜2.2um ◉ 放射...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…
プ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により3種類のバリエーションがあります。 ・ハロゲンランプヒーター:Max500℃ ・C/Cコンポジットヒーター:Max1000℃(真空中、不活性ガスのみ) ・SiCコーティングヒーター:Max1000℃(真空、不活性ガス、O2)...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】
スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに…
スパッタのみ) ・蒸着範囲:Φ4inch/Φ100mm ・真空排気系:ターボ分子ポンプ + 補助ポンプ(ロータリー、又はドライスクロールポンプ) ・基板回転、上下昇降ステージ ・Max500℃基板加熱ヒーター ・水晶振動子膜厚センサー ・7”タッチパネルHMI操作(’IntelliLink’ WindowsPCリモート監視ソフト付属)...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】
Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不…
CH4, C2H4, solids (PMMA), etc.. ・プロセスガス:H2, Ar, N2, etc.. ・基板サイズ:Φ4inch ・150W, 13.56MHz RF電源 ・500℃~Max1100℃基板加熱 ・高精度プロセスガス圧力APC制御 ・マスフローコントローラー最大4ch ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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<30W(制御精度10mW)低出力RFエッチングによる、精細でダメー…
1系統(標準) + N2, O2 増設可能 ◉ Windows PCソフトウエア付属:自動エッチングレシピ作成・保存・保存、データロギング 【寸法・ユーティリティ】 寸法:750(W) x 500(D) x 400(H)mm 電源:200V 単相 15A プロセスガス:0.17Mpa 99.99%推奨 ベントガス:34-41kpa 冷却水:1L/min, 400kpa, 18-20...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A
コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜:3元同時成膜(RF500W or DC850W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…
10-5Pa(*1x10-4Paまで最速30分!) ● スパッタカソード x 3:自動連続多層膜, 2源同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション:基板回転・昇降、基板加熱(Max500℃)、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ3源+3系統(MFC制御)、RF/DC PSUの増設(最大2電源まで)連続多層膜・2源同時成膜(RF/DC、又はDC/DCのみ)...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…
【主仕様】 ・基板サイズ:Max12inch対応 ・チャンバー:SUS304 UHV対応、500 x 500 x500mm ・到達真空度:5 x 10-5pascal ・スパッタカソード:Φ2"(最大6)、Φ3"(最大4) ・プラズマ電源:RF150W, 300W, DC850W, H...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…
プ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により3種類のバリエーションがあります。 ・ハロゲンランプヒーター:Max500℃ ・C/Cコンポジットヒーター:Max1000℃(真空中、不活性ガスのみ) ・SiCコーティングヒーター:Max1000℃(真空、不活性ガス、O2)...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…
・最大基板サイズ:Φ10inch ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4源 ・有機蒸着源 x 最大4源 ・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源 ・電子ビーム蒸着 ・基板加熱ステージ(標準500℃, Max1000℃) ・*プラズマエッチング/<30Wソフトエッチング ・CVD(熱CVD, PECVD) *プラズマエッチングはメインチャンバー、ロードロックチャンバーいずれも設置...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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□■□【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置□■□
蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…
・最大基板サイズ:Φ10inch ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4源 ・有機蒸着源 x 最大4源 ・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源 ・電子ビーム蒸着 ・基板加熱ステージ(標準500℃, Max1000℃) ・*プラズマエッチング/<30Wソフトエッチング *プラズマエッチングはメインチャンバー、ロードロックチャンバーいずれも設置可能...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□
グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…
・最大基板サイズ:Φ10inch ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4源 ・有機蒸着源 x 最大4源 ・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源 ・電子ビーム蒸着 ・基板加熱ステージ(標準500℃, Max1000℃) ・プラズマエッチング/<30Wソフトエッチング...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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