【自動包装機械】アフターフォローはお任せください！

PR最短翌日に修理品を納品したケースも！スピード感と柔軟性が強み、創業50…

当社は、昭和44年に設立し、創業50年を超える自動包装機械の老舗メーカーです。 設立以来、多くのお客様のご要望に沿った包装機械の設計、製作を手掛けてきました。 お客様のご要望に応じた「省人化・省力化機械」のご提供が可能です。 特に、アフターフォローについては力を入れ、 より素早く部品調達やメンテナンス対応を行うように心がけており、 部品調達については最短翌日に納品できるよう迅速対応を...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社インターパック

『液冷式冷凍』超高速凍結機 ZERO-03

PR『液冷式冷凍』常識を超える超高速凍結機　（従来の液冷タイプと比較し熱交…

ZER0-03超高速凍結機は超低温の液体に商品を漬け込む事により瞬間で凍結する液体凍結機になりますが、商品の熱を取り去る吸熱と排熱に新しい技術（特許技術）を導入する事により、従来の液冷タイプに比べて熱交換効率が4倍と飛躍的に高くなり、凍結ムラや解凍後の再現性、1時間当たりの生産性、運用コストなどが安くなりました。 1, 1時間当たりの生産量比較​では、ゼロカラ凍結機は他社同等機種と比べた場合、空冷...

メーカー・取り扱い企業： 双日マシナリー 株式会社 環境・生活産業システム本部

スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』

高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

高機能 ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa（*1x10-4Paまで最速30分！） ● スパッタ源 x 3：連続多層膜膜制御, 同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション：上下・回転、ヒータ、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ源3源+3系統（MFC制御）、RF/DC PSUの増設（最大2電源まで）...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタ・蒸着源複合型 薄膜装置 【nanoPVD-ST15A】

真空蒸着（金属・有機蒸着源）、スパッタリングカソードの混在設置が可能な…

nanoPVD-ST15Aは、抵抗加熱蒸着源、有機蒸着源、Φ2inchマグネトロンスパッタリングカソードを同時に設置可能な複合型薄膜実験装置。ベンチトップサイズ・省スペース、限られたラボスペースを有効活用いただけます。 顕微鏡用試料作成用コーターではありません、電子回路基板、電池、MEMS、新素材開発などの研究開発用途で求められる高品質な薄膜を作成することができます。 ガス系統最大3系統（プロ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに…

抵抗加熱蒸着源（金属蒸着）、有機蒸着源（有機材料）、マグネトロンスパッタ（金属・絶縁材）、3種類の成膜コンポーネントをチャンバー内に設置、様々な薄膜実験装置に1チャンバーで対応が可能です。 ◉組み合わせは3種類 1. スパッタカソード + 抵抗加熱蒸着源x2 2. スパッタカソード + 有機蒸着源x2 3. スパッタカソード + 抵抗加熱源x1 + 有機蒸着源x1（*DCスパッタのみ） ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

デスクトップRFスパッタ装置『SVC-700RFIII』

コンパクトな卓上サイズで3源のカソードを搭載。絶縁薄膜、酸化物・窒化物…

『SVC-700RFIII』は、卓上に置けるコンパクトなサイズながらφ2インチのカソードを3基搭載。3種類のターゲットを使用した積層膜の形成が可能なRFマグネトロンスパッタ装置です。 ガス導入機構を増設でき、アルゴンガスを含めた最大3種類のガス導入が可能。 金属薄膜に加え、絶縁薄膜、酸化物・窒化物薄膜など様々な薄膜作製に対応できます。 【特長】 ■研究開発向けのデスクトップサイ...

メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社

平行移動式3元RFスパッタリング装置『MSS600-3』

ガス導入と圧力コントロールバルブによるスパッタ圧の制御が可能！

【仕様】 ■電源電圧：AC200V　三相3線式　50/60Hz（電源電圧変動：±10％） ■最大電流：250A ■運転可能周囲温度湿度：+5～+35℃/75%rhまで ■装置本体外形寸法(W×H×Dmm)：3940×1980×1550 ■装置システム敷地寸法(W×Dmm)：5000×3000 ■装...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社愛知真空

【nanoPVD-S10A】マグネトロンスパッタリング装置

高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

高機能 ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa（*1x10-4Paまで最速30分！） ● スパッタカソード x 3：自動連続多層膜, 2源同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション：基板回転・昇降、基板加熱（Max500℃）、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ3源+3系統（MFC制御）、RF/DC ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社