• 【セキュリティ対策】可変ホログラフィックラベル×オンライン認証 製品画像

    【セキュリティ対策】可変ホログラフィックラベル×オンライン認証

    PR税関等での目視チェックに!一品一様の可変ホログラフィックラベルと二次元…

    海外輸出等での偽造品にお困りの方必見!専用アプリ不要。スマートフォンで簡単に正規品判定ができます。 SCRIBOSのPrioSpot(R)とVeoMark(R)は、可変ナンバリングホログラフィックラベルです。このソリューションは、ラベルの記載内容と二次元コードの組み合わせで真がん判定をおこないます。スマホで二次元コードをスキャンし、認証画面に表示される可変ナンバーとラベルの可変ナンバーを比較...

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    メーカー・取り扱い企業: クルツジャパン株式会社

  • 窒化ホウ素(BN) 製品画像

    窒化ホウ素(BN)

    PR焼結体と粉末、豊富なグレードを用意!短納期、低価格で安定供給します。新…

    三和マテリアルの『窒化ホウ素(BN)』は、お客様のご要望(使用条件、 形状等)に応じて、高品質・短納期・低価格・安定供給でお届けいたします。 耐熱性・離型性・絶縁性に優れる「焼結体」と「粉末」をラインアップ。 豊富な実績と信頼のある“窒化物セラミックスのプロ集団”である当社に ぜひご相談ください。 【特長】 ■熱的特性:高熱伝導率、低熱膨張係数で高温での使用が可能 ■電気...

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    メーカー・取り扱い企業: 三和マテリアル株式会社 本社

  • 小規模生産・開発用常圧CVD(APCVD)装置 (D501) 製品画像

    小規模生産・開発用常圧CVD(APCVD)装置 (D501)

    試作・開発・小ロット生産向け NSG(SiO2)/BSG/PSG/BP…

    徴】  ・異形状・サイズ基板の同時処理  ・高い成膜速度  ・シンプルメンテナンス  ・省フットプリント  ・低CoO(低ランニングコスト) 【用途】  ・層間絶縁膜(NSG/PSG/BPSG)  ・拡散/インプラ用ハードマスク, 犠牲膜(NSG)  ・パッシベーション膜(保護膜・絶縁膜)(NSG)  ・太陽電池(セル)向け固相拡散用ソース膜(BSG,PSG)/キャップ膜(N...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行

  • クラスター装置『Morpher』 製品画像

    クラスター装置『Morpher』

    デバイス量産へ、優れたプロセス品質、信頼性、高スループットを提供!

    〇1桁秒~のサイクルタイム可能なバッチプロセス 〇Al2O3、SiO2、Ta2O5、HfO2、ZnO、TiO2、ZrO2、メタル 〇バッチ1%未満の1σ不均一性(Al2O3、WIW、WTW、B2B、49 pts、5mm EE) <基板ローディング> 〇真空クラスタツールによる完全自動ロード 〇カセットからバッチへのローディング 〇オプションSMIFステーション <主なソフトウェ...

    メーカー・取り扱い企業: PICOSUN JAPAN株式会社

  • ピラニ真空計 PG-20 製品画像

    ピラニ真空計 PG-20

    小型なボディで装置組込みの省スペース化!

    熱を奪われたフィラメントが常に一定温度となるよう、加える電力を自動的に調節する定温度型のピラニ真空計です。 小型なボディで装置組込みの際に省スペース化を図ることができます。 表示は操作しやすいデジタル方式です。...帯域(1.0×10-1Pa)?(1.0×10 4Pa)の低真空を測定できる、ピラニ真空計です。 熱伝導を圧力に変換して、真空計測を行えます。 (特長)  ●(1.0×10...

    メーカー・取り扱い企業: 東京電子株式会社

  • 定温度型ピラニゲージコントローラ PG-30 製品画像

    定温度型ピラニゲージコントローラ PG-30

    熱伝導を圧力に変換して、真空計測を行えます。

    帯域(1.0×10-1Pa)?(1.0×10 4Pa)の低真空を測定できる、ピラニ真空計です。...(特長)  ・(1.0×10-1Pa)?(1.0×10 4Pa)の測定範囲  ・故障に強い定温度型  ・小型なボディーで省スペース化が可能 (仕様) ・出力信号 :a)制御出力 リレー接点出力容量 AC100Vmax、1Amax           b)アナログ出力 0?5V F....

    メーカー・取り扱い企業: 東京電子株式会社

  • 高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V) 製品画像

    高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V)

    量産向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 高生産性 連続…

     ・シンプルメンテナンス  ・低CoO(低ランニングコスト) 【用途】  ・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール(NSG)  ・パワー半導体用層間絶縁膜(NGS/PSG/BPSG)  ・拡散/インプラ用ハードマスク, 犠牲膜(NSG)  ・パッシベーション膜(保護膜・絶縁膜)(NSG) ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行

  • 高性能枚葉式常圧CVD(APCVD)装置 (A200V) 製品画像

    高性能枚葉式常圧CVD(APCVD)装置 (A200V)

    少量・多品種向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 枚葉式…

     ・低負荷・長周期メンテナンス  ・コンパクト筐体とミラータイプとの隣接設置による省スペース対応  ・低CoO(低ランニングコスト) 【用途】  ・パワー半導体用層間絶縁膜(NSG/PSG/BPSG)  ・拡散/インプラ用ハードマスク, 犠牲膜(NSG)  ・パッシベーション膜(保護膜・絶縁膜)(NSG)  ・光導波路(NSG/BPSG) ※詳しくはお問い合わせいただくか、カ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行

  • 高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200) 製品画像

    高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200)

    量産向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 高生産性 連続…

    のウェハに対応し、最大で1時間あたり56枚の成膜が可能です。 ●装置サイズ:2165mm(W) x 4788mm(D) x 2250mm(H) ●ガス種: SiH4/O2系 (SiH4/PH3/B2H6/O2/N2) ●成膜温度: 350~430℃ ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧下さい。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行

  • 太陽電池セル量産用連続式常圧CVD装置 (AMAX1000S) 製品画像

    太陽電池セル量産用連続式常圧CVD装置 (AMAX1000S)

    結晶Si太陽電池セル量産用 NSG(SiO2)/PSG/BSG膜成膜用…

    枚/hの高生産性  ・太陽電池用薄型ウェハ対応 【用途】  ・拡散/インプラ用ハードマスク, 犠牲膜(NSG)  ・パッシベーション膜(保護膜・絶縁膜)(NSG)  ・固相拡散用ソース膜(BSG,PSG)/キャップ膜(NSG) ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行

  • ガラス基板成膜装置「低温成膜」「フレキシブル基板対応」 製品画像

    ガラス基板成膜装置「低温成膜」「フレキシブル基板対応」

    FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板…

    で成膜が可能で、膜厚均一性10%以内を確保できます。 ●装置サイズ(mm): 1300mm(W) x 7350mm(D) x 2000mm(H) ●ガス種: SiH4, O3/O2, PH3, B2H6 ●成膜温度: 150~300℃ ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧下さい。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行

  • 放熱 単結晶 ラボグロウン ダイヤモンド 製品画像

    放熱 単結晶 ラボグロウン ダイヤモンド

    3.0x3.0mmから10.0x10.0mmまでのサイズをラインアップ…

    当社が取り扱う『単結晶ラボグロウンダイヤモンド』をご紹介します。 横は+0.2/0-0mm、厚さは+/-0.05mm。 材料特性は、ホウ素濃度[B] <0.05ppm、窒素濃度 <1ppmです。 3.0x3.0mmから10.0x10.0mmまでのサイズをご用意しております。 【仕様と公差(一部)】 ■横:+0.2/0-0mm ...

    メーカー・取り扱い企業: 合同会社SUPERHARD JAPAN

  • Oリング寸法規格(サイズ) 製品画像

    Oリング寸法規格(サイズ)

    Oリングの桜シールは、JIS規格サイズは勿論のこと、中間・延長・派生サ…

    桜シールの特色である様々な性能を持つ多種多様な材質によって、極小のマイクロOリングから大口径の特大Oリングに至るまでを製造販売いたしております。日本工業規格JIS B2401によるサイズは元より、幅広い産業によって細分化された様々なサイズを取り揃え、溝設計と併せて適切なサイズ選定をサポートさせて頂きます。...

    メーカー・取り扱い企業: 桜シール株式会社 日本本社

  • SiO2厚膜形成用プラズマCVD装置 製品画像

    SiO2厚膜形成用プラズマCVD装置

    厚膜形成用プラズマCVD装置。高速かつ低ストレス(特許出願中)

    反応室に独自の工夫を施しているためパーティクルの発生を抑制。 ● 液体ソースのTEOSを用いるLS-CVD法によりステップカバレージと埋め込み効果に優れた成膜が可能。 ● Ge、P、Bの液体ソースを用いて屈折率の任意の制御が可能。標準1系列に加え、オプションでさらに2系列のドーパント導入系の追加が可能。...

    メーカー・取り扱い企業: サムコ株式会社

  • B-A真空計『ミニチュアイオンゲージ IG-10(ICF70)』 製品画像

    B-A真空計『ミニチュアイオンゲージ IG-10(ICF70)』

    センサー・回路部・ディスプレイが一体型のコンパクトな熱陰極電離真空計で…

    広帯域(1.33×10-7Pa)?(6.65Pa)の高真空領域までを 高精度測定ができる『イオンゲージ真空計』です。 ディスプレイは高照度・高精細有機ELを採用し高視認性で、多様なデータを 簡単操作で呼び出し、コントロールする事ができます。 また、多様なインターフェースも標準装備しています。 【特長】 ■広い測定範囲(1.33×10-7Pa)?(6.65Pa) ■簡単なセ...

    メーカー・取り扱い企業: 東京電子株式会社

  • 単結晶ラボグロウンダイヤモンド 製品画像

    単結晶ラボグロウンダイヤモンド

    3.0x3.0mmから10.0x10.0mmまでのサイズをラインアップ…

    当社が取り扱う『単結晶ラボグロウンダイヤモンド』をご紹介します。 横は+0.2/0-0mm、厚さは+/-0.05mm。 材料特性は、ホウ素濃度[B] <0.05ppm、窒素濃度 <1ppmです。 3.0x3.0mmから10.0x10.0mmまでのサイズをご用意しております。 【仕様と公差(一部)】 ■横:+0.2/0-0mm ...

    メーカー・取り扱い企業: 合同会社SUPERHARD JAPAN

  • 耐熱 単結晶 CVD ダイヤモンド 製品画像

    耐熱 単結晶 CVD ダイヤモンド

    3.0x3.0mmから10.0x10.0mmまでのサイズをラインアップ…

    当社が取り扱う『単結晶ラボグロウンダイヤモンド』をご紹介します。 横は+0.2/0-0mm、厚さは+/-0.05mm。 材料特性は、ホウ素濃度[B] <0.05ppm、窒素濃度 <1ppmです。 3.0x3.0mmから10.0x10.0mmまでのサイズをご用意しております。 【仕様と公差(一部)】 ■横:+0.2/0-0mm ...

    メーカー・取り扱い企業: 合同会社SUPERHARD JAPAN

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