JPCA Show　実装プロセステクノロジー展 出展のご案内

PR実装関連製品を中心に「CAMソフトウェアを活用した省力化とミスらない作…

実装関連製品を中心に「CAMソフトウェアを活用した省力化とミスらない作業」を テーマに展示いたします。 実装関連製品、基板関連製品をデモを交え展示いたします。 是非当社ブースにお立ち寄りください。 会　場：東京ビッグサイト　東4ホール　4C-15/4C-17 会　期：2024年6月12日(水)～14日(金)　10：00～17：00 来場事前登録： https://jp...

メーカー・取り扱い企業： ダイナトロン株式会社

【異形黄銅棒】 切削加工を減らしコストダウンを実現！

PR”異形の開明”　国内の異形黄銅棒専業メーカーです。素材段階で複雑で特殊…

当社は複雑で特殊な形状を得意としております。 最近話題の環境対応材質も開発し、環境に配慮した材料も提供しています。 JIS H 3250 認定工場 になります。 平角（平棒、FB、フラットバー）を中心として汎用金型も多数保有しております。 黄銅（真鍮、真中） ・65：35黄銅 黄銅2種(BS2）　C2700BE-F　C2700BＤ-F ・曲げ用黄銅 黄銅3種(BS3）　C2800BE-...

メーカー・取り扱い企業： 開明伸銅株式会社 本社　

炭化モリブデン Mo2C粉末 CAS No 12069-89-5

先端セラミックス、微細超硬合金、触媒材料の焼結助剤 として使用される…

◆アプリケーション 主に先端セラミックス、微細超硬合金、触媒材料の焼結助剤に使用されています。 Mo2Cは、高い融点と硬度、優れた熱安定性、機械的安定性、優れた耐食性などの特性を備えており、コーティング材料として、また超硬金属の添加材料や合金の粒子微細化剤として使用できます。 Mo2C は、水素化脱窒...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

炭化クロム(Cr3C2)粉末 CAS No 12012-35-0

耐摩耗性・耐高温性の特性から、超硬合金への添加剤 として使用される炭…

◆アプリケーション 溶射用粉末材料、WC/Co超硬合金焼結用粒子成長抑制剤、耐食部品など、炭化クロムは1000～1100度以下の高融点　無機材料の一種で、耐摩耗性、耐酸化性に優れています。 Cr3C2 を NiCr のラジカルとして、高...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

微細 高純度 α相/β相 窒化ケイ素（Si3N4）粉末

微細 高純度 α相/β相 窒化ケイ素(Si3N4)粉末。 ミクロンスケ…

■製品スペック(COA : 量産品代表値。) ＜α相 D50=1μm - 2μm品の場合＞ Si3N4 純度≧99.9% α相>90.0% 不純物濃度(ICP-MS) Fe=45ppm Al=...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

サブミクロン～１ｍｍまで　球状 銅（Cu）粉末

物理蒸着法（PVD）による球状 銅（Cu）粉末。 サブミクロン～１ｍｍ…

物理蒸着法（Physical vapor deposition (PVD) method）による 球状 銅（Cu）粉末。 Cu 純度≧99.0% (C/Oを除く) サブミクロン～１ｍｍまで、粒度カスタマイズに対応。 原産国：中国 供給可能数量：月産５トン...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

ナノ級 高純度 Siスラッジ精製品『Si-P-015』

短時間で100nmレベルへの粉砕が可能！リチウムイオン電池負極用シリコ…

砕・分級したリチウムイオン電池負極用のSi粉末です。 高純度シリコンウエハーの切削物であるため、元々、不純物濃度は極めて低く、 切削工程中で金属不純物の混入が有りますが、Si純度は4N以上(C/Oを除く)の水準です。 乾燥状態でD50=0.584μmの粒子径を達成していますが、結晶がフレーク状に 重なっているため、湿式ボールミル等により追加粉砕すれば短時間で0.1μm(100nm...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

4N超高純度 シリコン（Si）粉末

Si純度＞99.99% 4N超高純度 シリコン粉末 ＊25元素不…

■製品スペック 材料：シーメンス法バージンポリシリコン（6N以上） 粉砕後不純物濃度 Fe=2.2ppm Al=0.36ppm Ca=6.3ppm 25元素不純物濃度合計=20.21ppm（GDMS分析） → Si+Others > 99.9979% C/O濃度測定（IGA分析） C=22ppm O=0.29% ...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

シリコン（Si）スラッジ乾燥品

シリコンウエハー切削工程から排出されるSiスラッジの乾燥品

の２次凝集品です。 ボールミル等で、簡単に解砕できます。 高純度シリコンウエハーの切削物であるため、元々、不純物濃度は極めて低く、切削工程中で金属不純物の混入が有りますが、Si純度は９９％以上（C/Oを除く）を維持しています。 ...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

球状 サブミクロン ニッケル（Ni）粉末

物理蒸着法（PVD）による球状 ニッケル（Ni）粉末。サブミクロンスケ…

物理蒸着法（Physical vapor deposition (PVD) method）による 球状ニッケル（Ni）粉末。 Ni 純度≧99.0% (C/Oを除く) サブミクロン スケールで、粒度カスタマイズに対応。 原産国：中国 供給可能数量：月産５トン...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社