• 盤内用LED照明ユニット 『MLSシリーズ』 製品画像

    盤内用LED照明ユニット 『MLSシリーズ』

    PR壬生電機の大ヒットLED照明ユニットに新シリーズがリリース!

    壬生電機製作所は新たな盤内用LED照明ユニット『MLSシリーズ』は 設計段階から見直しを図り、低コスト・高品質を実現しました。 【特長】 ■ACフリー電源対応: AC100V~240VおよびDC100V仕様 ■V-0成型樹脂使用 ■さまざまな規格準拠の安心設計 直電線タイプ・端子台付タイプございます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。.....

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社壬生電機製作所

  • 制御盤・配電盤で銅加工品を内作されているお客様へ 製品画像

    制御盤・配電盤で銅加工品を内作されているお客様へ

    PR銅加工の外注化で工数削減とコストダウンをお手伝いします

    エイシンインターナショナルは銅加工で皆様のモノづくりをサポートいたします ■特長■ 商社由来のネットワークを駆使し、銅材を海外から直接輸入(国内材も調達可) 銅加工は国内のお客様のご要望にお応えし、短納期及びサービス強化のため エイシングループにて国内の2拠点(大阪府・愛知県)にて加工。 ドイツより最新の銅ブスバー加工の専用機を導入しており業界・お客様における 人材不足解消のた...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイシンインターナショナル

  • 炭化モリブデン Mo2C粉末 CAS No 12069-89-5 製品画像

    炭化モリブデン Mo2C粉末 CAS No 12069-89-5

    先端セラミックス、微細超硬合金、触媒材料の焼結助剤 として使用される…

    ◆アプリケーション 主に先端セラミックス、微細超硬合金、触媒材料の焼結助剤に使用されています。 Mo2Cは、高い融点と硬度、優れた熱安定性、機械的安定性、優れた耐食性などの特性を備えており、コーティング材料として、また超硬金属の添加材料や合金の粒子微細化剤として使用できます。 Mo2C は、水素化脱窒...

    メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社

  • 炭化クロム(Cr3C2)粉末 CAS No 12012-35-0 製品画像

    炭化クロム(Cr3C2)粉末 CAS No 12012-35-0

    耐摩耗性・耐高温性の特性から、超硬合金への添加剤 として使用される炭…

    ◆アプリケーション 溶射用粉末材料、WC/Co超硬合金焼結用粒子成長抑制剤、耐食部品など、炭化クロムは1000~1100度以下の高融点 無機材料の一種で、耐摩耗性、耐酸化性に優れています。 Cr3C2 を NiCr のラジカルとして、高...

    メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社

  • 微細 高純度 α相/β相 窒化ケイ素(Si3N4)粉末 製品画像

    微細 高純度 α相/β相 窒化ケイ素(Si3N4)粉末

    微細 高純度 α相/β相 窒化ケイ素(Si3N4)粉末。 ミクロンスケ…

    ■製品スペック(COA : 量産品代表値。) <α相 D50=1μm - 2μm品の場合> Si3N4 純度≧99.9% α相>90.0% 不純物濃度(ICP-MS) Fe=45ppm Al=...

    メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社

  • サブミクロン~1mmまで 球状 銅(Cu)粉末 製品画像

    サブミクロン~1mmまで 球状 銅(Cu)粉末

    物理蒸着法(PVD)による球状 銅(Cu)粉末。 サブミクロン~1mm…

    物理蒸着法(Physical vapor deposition (PVD) method)による 球状 銅(Cu)粉末。 Cu 純度≧99.0% (C/Oを除く) サブミクロン~1mmまで、粒度カスタマイズに対応。 原産国:中国 供給可能数量:月産5トン...

    メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社

  • ナノ級 高純度 Siスラッジ精製品『Si-P-015』 製品画像

    ナノ級 高純度 Siスラッジ精製品『Si-P-015』

    短時間で100nmレベルへの粉砕が可能!リチウムイオン電池負極用シリコ…

    砕・分級したリチウムイオン電池負極用のSi粉末です。 高純度シリコンウエハーの切削物であるため、元々、不純物濃度は極めて低く、 切削工程中で金属不純物の混入が有りますが、Si純度は4N以上(C/Oを除く)の水準です。 乾燥状態でD50=0.584μmの粒子径を達成していますが、結晶がフレーク状に 重なっているため、湿式ボールミル等により追加粉砕すれば短時間で0.1μm(100nm...

    メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社

  • 4N超高純度 シリコン(Si)粉末 製品画像

    4N超高純度 シリコン(Si)粉末

    Si純度>99.99% 4N超高純度 シリコン粉末 *25元素不…

    ■製品スペック 材料:シーメンス法バージンポリシリコン(6N以上) 粉砕後不純物濃度 Fe=2.2ppm Al=0.36ppm Ca=6.3ppm 25元素不純物濃度合計=20.21ppm(GDMS分析) → Si+Others > 99.9979% C/O濃度測定(IGA分析) C=22ppm O=0.29% ...

    メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社

  • シリコン(Si)スラッジ乾燥品 製品画像

    シリコン(Si)スラッジ乾燥品

    シリコンウエハー切削工程から排出されるSiスラッジの乾燥品

    の2次凝集品です。 ボールミル等で、簡単に解砕できます。 高純度シリコンウエハーの切削物であるため、元々、不純物濃度は極めて低く、切削工程中で金属不純物の混入が有りますが、Si純度は99%以上(C/Oを除く)を維持しています。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社

  • 球状 サブミクロン ニッケル(Ni)粉末 製品画像

    球状 サブミクロン ニッケル(Ni)粉末

    物理蒸着法(PVD)による球状 ニッケル(Ni)粉末。サブミクロンスケ…

    物理蒸着法(Physical vapor deposition (PVD) method)による 球状ニッケル(Ni)粉末。 Ni 純度≧99.0% (C/Oを除く) サブミクロン スケールで、粒度カスタマイズに対応。 原産国:中国 供給可能数量:月産5トン...

    メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社

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