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PR高速な不透明膜の厚みマッピング、内部欠陥のエリア検出が可能なレーザーフ…
フランスのEnovasense社のセンサは、レーザフォトサーマル技術を使用した 高性能なセンサで、非接触で不透明体の厚みを測定できます。 本新製品は、従来のシングルポイントセンサと異なり、約11万点を同時に測定できるエリアセンサです。 不透明体の厚みマッピングだけでなく、表面層下の欠陥、欠け、剥がれの有無を検知できます。 ■特長 ・非接触で下記が測定できます。 ☆不透明体の厚みマッピング...
メーカー・取り扱い企業: プレシテック・ジャパン株式会社
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PR耐熱温度は80℃から120℃対応の製品を用意!通販サイトでの購入も可能
『FCシリーズ』は、低価格帯での量産型樹脂製小型フロートスイッチです。 当社の主力であるステンレス製では測定が不可能な酸性、アルカリ性と いった液体の液位管理にご使用頂けます。 製品材質はPP、ポリスルホン、PVDFといったものを揃えており、様々な 液体に対応しております。 【ラインアップ】 ■PP製小型フロートスイッチ「FCH11QD」 ■PP製小型フロートスイッチ「F...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社木村製作所
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CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可能です!
【その他の特長】 ■トレイ搬送も対応可 ■CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可 ■各種オーダーメイドも製作可能 ■デモ機にてサンプル処理を実施 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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基板温度900℃を実現!基板ステージに3軸機構を搭載し、均一な膜厚分布…
『多元スパッタリング装置』は、最大4台のスパッタカソードを搭載し、 金属膜、酸化膜等の積層成膜が可能です。 CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可能。 また、基板ステージに3軸機構(昇降、公転、自転)を搭載し、 均一な膜厚分布を実現します。 【特長】 ■当社独自のスパッ...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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『High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置』
半導体、MEMS、電子部品等に!単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電…
長】 ■圧電に寄与する軸長を最大限に長くするDeposition構造 ■当社独自のスパッタカソードを搭載 ■ムービングマグネットにも対応し全面エロージョンが可能 ■トレイ搬送も対応可 ■CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可 その他ウェットプロセス装置、真空プロセス装置も取り扱いしておりますので、ご覧ください。 「酸化膜/窒化膜プラズマCVD装置」 ...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置
半導体、MEMS、電子部品等に!単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電…
長】 ■圧電に寄与する軸長を最大限に長くするDeposition構造 ■当社独自のスパッタカソードを搭載 ■ムービングマグネットにも対応し全面エロージョンが可能 ■トレイ搬送も対応可 ■CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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省スペースで大容量!各種ご要望に合わせたオーダーメイドも製作可能!
ング技術を応用し様々な3次元形状の金属、セラミック、樹脂製品に成膜する装置です。 化粧品、電子部品、電池部品、高機能材料開発といった用途に使用可能です。 このほかにも、小型化/大型化、CVD/各種プラズマ処理、バレル/ドラム型など様々な装置のご提案が可能です。 【特長】 ■省スペース ■大容量 ■独自のスパッタカソードを搭載 ■スクリュー型攪拌機構 ※詳しくはPD...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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相談だけでも歓迎!設計から製作、組立まで自社で一貫して対応!各種装置製…
【その他の製作実績】 ■研究開発用バッチ式3元スパッタリング装置 ■研究開発用IBS装置 【取扱製品】 プラズマCVD装置、スパッタリング装置、蒸着装置、 ドライエッチング装置、アッシング装置、RTA装置、各種複合装置など ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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フレキシブル半導体製造装置『SHUTTLELINEシリーズ』
薄膜堆積用PECVD・ドライエッチング・故障解析用プロセス対応…
プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社