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14件 - メーカー・取り扱い企業
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201件
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フレキシブル半導体製造装置『SHUTTLELINEシリーズ』
PR薄膜堆積用PECVD・ドライエッチング・故障解析用プロセス対応。多機能…
『SHUTTLELINE(R)シリーズ』は、RIE/ICP-RIE、PECVD/ICP-CVDに対応し コンパクトながら高性能かつ多機能な半導体製造装置です。 成膜とエッチングプロセスを一台で実現し、様々なウエハサイズと形状に対応可能。 シャトルシステムにより、異なるサンプルサイズでもハードウェアの変更が不要です。 世界で広く採用されており、Plasma-Therm LLCの グ...
メーカー・取り扱い企業: プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
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PR高速な不透明膜の厚みマッピング、内部欠陥のエリア検出が可能なレーザーフ…
フランスのEnovasense社のセンサは、レーザフォトサーマル技術を使用した 高性能なセンサで、非接触で不透明体の厚みを測定できます。 本新製品は、従来のシングルポイントセンサと異なり、約11万点を同時に測定できるエリアセンサです。 不透明体の厚みマッピングだけでなく、表面層下の欠陥、欠け、剥がれの有無を検知できます。 ■特長 ・非接触で下記が測定できます。 ☆不透明体の厚みマッピング...
メーカー・取り扱い企業: プレシテック・ジャパン株式会社
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「金属容器用プラズマCVD装置」「ICP型MOCVD装置」などの実績を…
ジャパンクリエイト株式会社が行なった、『CVD装置』のオーダーメイド 製作実績をご紹介します。 「太陽電池用プラズマCVD装置」をはじめ、「立体物用プラズマCVD装置」や 「金属容器用プラズマCVD装置」「ICP型MOCVD装置」な...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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3L容器までコーティング可能!容器軽量化による物流コストの低減などに貢…
当製品は、当社が得意としているプラズマCVDプロセス技術を応用し、 樹脂容器材質として一般的に普及している「PETボトル」への DLCコーティングに特化した成膜装置です。 PETボトル内面へサブミクロンオーダーのDLC薄膜コーティ...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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広範な膜特性の制御可能!大幅なパーティクル低減および生産性を向上します
『酸化膜/窒化膜プラズマCVD装置』は、2周波独立印可方式により、 低応力、高硬度、高絶縁性を実現します。 ラジカルプラズマクリーニングシステムによる大幅なパーティクル低減 および生産性を向上。 マルチチャンバ...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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高い汎用性を備えたシンプルな構造!独自のプラズマ制御方式を採用していま…
『立体物用プラズマCVD装置』は、豊富な蓄積データを有し、 独自のプラズマ制御方式を採用しています。 チャンバー容積は1m3。 多段式大量一括処理可能で、高い汎用性を備えたシンプルな構造です。 マルチチャ...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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【デモ機貸し出し可能!】石英管の形状に合わせ対応致しますので御相談下さ…
ウエハーは製造工程に使用される石英管のクリーン度が、製品の品質に大きく影響します。 したがって、拡散工程やCVD工程及びアニール工程で使用される石英管の洗浄は重要なポイントです。 ジャパンクリエイト社は長年に及ぶ経験と実績から、御客様のニーズにあった石英管洗浄装置を提供致して居ります。 方式は横型式と縦...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可能です!
【その他の特長】 ■トレイ搬送も対応可 ■CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可 ■各種オーダーメイドも製作可能 ■デモ機にてサンプル処理を実施 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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広範な膜特性の制御可能!基板加熱源は水冷型と加熱型から選択いただけます
『DLCコーティング装置』は、豊富な蓄積データを有し、優れた膜厚分布 および再現性を実現します。 成膜源はRFプラズマCVD法とイオン化蒸着法から選択可能。 半導体をはじめ、電子部品や光学部品、車載部品などにご利用いただけます。 また、マルチチャンバ仕様や各種オーダーメイドも製作できます。 ご用命の際はお気軽...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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プラズマクリーニング室、有機蒸着室、電極蒸着室、封止室等を自由に選択で…
に応じて、プラズマクリーニング室、有機蒸着室、電極蒸着室、 封止室等を自由に選択できます。 【特長】 ■基板サイズは最大□300mm対応 ■蒸着セルは各種材料・サイズから選択可能 ■CVD室、スパッタ室等との組み合わせも対応可 ■各種オーダーメイドも製作可能 ■デモ機にてサンプル処理を実施 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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基板温度900℃を実現!基板ステージに3軸機構を搭載し、均一な膜厚分布…
『多元スパッタリング装置』は、最大4台のスパッタカソードを搭載し、 金属膜、酸化膜等の積層成膜が可能です。 CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可能。 また、基板ステージに3軸機構(昇降、公転、自転)を搭載し、 均一な膜厚分布を実現します。 【特長】 ■当社独自のスパッ...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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『High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置』
半導体、MEMS、電子部品等に!単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電…
長】 ■圧電に寄与する軸長を最大限に長くするDeposition構造 ■当社独自のスパッタカソードを搭載 ■ムービングマグネットにも対応し全面エロージョンが可能 ■トレイ搬送も対応可 ■CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可 その他ウェットプロセス装置、真空プロセス装置も取り扱いしておりますので、ご覧ください。 「酸化膜/窒化膜プラズマCVD装置」 ...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置
半導体、MEMS、電子部品等に!単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電…
長】 ■圧電に寄与する軸長を最大限に長くするDeposition構造 ■当社独自のスパッタカソードを搭載 ■ムービングマグネットにも対応し全面エロージョンが可能 ■トレイ搬送も対応可 ■CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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省スペースで大容量!各種ご要望に合わせたオーダーメイドも製作可能!
ング技術を応用し様々な3次元形状の金属、セラミック、樹脂製品に成膜する装置です。 化粧品、電子部品、電池部品、高機能材料開発といった用途に使用可能です。 このほかにも、小型化/大型化、CVD/各種プラズマ処理、バレル/ドラム型など様々な装置のご提案が可能です。 【特長】 ■省スペース ■大容量 ■独自のスパッタカソードを搭載 ■スクリュー型攪拌機構 ※詳しくはPD...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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相談だけでも歓迎!設計から製作、組立まで自社で一貫して対応!各種装置製…
【その他の製作実績】 ■研究開発用バッチ式3元スパッタリング装置 ■研究開発用IBS装置 【取扱製品】 プラズマCVD装置、スパッタリング装置、蒸着装置、 ドライエッチング装置、アッシング装置、RTA装置、各種複合装置など ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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デモ機にてサンプル処理を実施!「研究開発用アニール装置」などの実績を保…
ガス切替装置 ■フィルム巾390mm対応R to Rプラズマ処理装置 ■低温グロープラズマ実験装置 ■HW式表面改質装置(CAT) ■排気セット(TMP+RP) ■ロードロック室プラズマCVD装置(当社デモ機) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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小型フロートスイッチ『FCシリーズ』
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株式会社木村製作所