• 集塵装置内蔵切断機 アルミ形材用切断機『UCA-400DC型』 製品画像

    集塵装置内蔵切断機 アルミ形材用切断機『UCA-400DC型』

    PR簡易集塵装置をビルトインした省エネ&コンパクト切断機 。 …

    狭い場所に設置出来る 溜まった切粉はワンタッチで回収が行える切断機。 小型サイクロン搭載のアルミ形材切断機UCA-400DC型のご紹介です。 「溜まった切粉の掻き出しに時間を掛けたくない」 「集塵機を置きたいがスペースが無い」 「集塵機も導入したいが予算が無い」 など   UCA-400DC型は、お客様の声から生まれた切断機です。 別置き集塵機の十分の1...

    • DSCF0355.jpg
    • IMG_5432簡易集塵ファンとペール缶s.jpg
    • IPROS53777593890979110725.jpg
    • 下鋸ランニングdoca00372120220120145955_001.jpg
    • c-lipped-channel-ge3daac38a_1920.jpg

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社奥村機械製作所

  • 工作機械クーラント用ファインバブル浄化装置『バブルフレッシャー』 製品画像

    工作機械クーラント用ファインバブル浄化装置『バブルフレッシャー』

    PR夏場に発生する腐敗臭を低減!液中の細かい汚れの浮上分離により、切削液の…

    『バブルフレッシャー』は、クーラント中に浮遊する汚れを水面に集めて、 日常の清掃を簡単にするファインバブル浄化装置です。 腐敗臭を低減し、作業環境をより良くします。 また、クーラント寿命が長くなり、作業性・生産性が向上。 DC24V専用ポンプにより、低電圧安全設計を実現しています。 【特長】 ■小型で邪魔にならない ■水中に置くだけ簡単設置 ■薬剤なしで安全に臭い抑制 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社坂本技研

  • スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』 製品画像

    スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』

    高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

    高機能 ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa(*1x10-4Paまで最速30分!) ● スパッタ源 x 3:連続多層膜膜制御, 同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 小型スパッタ装置『SS-DC・RF301』 製品画像

    小型スパッタ装置『SS-DC・RF301』

    小型設計ながら性能はキープ!高温での基板加熱が可能なスパッタ装置

    『SS-DC・RF301』は、2"マグネトロンカソードと基板加熱機構をそれぞれ 1基搭載した小型スパッタ装置です。 シンプルな設計により、事務机の約半分のスペースに設置可能。 基板上下機構を採用し、タ...

    メーカー・取り扱い企業: アリオス株式会社

  • 【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置 製品画像

    【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

    高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…

    連続多層膜、同時成膜(2〜6元同時成膜:RF, DCをHMIより自在に配置切替) 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 【マグネトロンスパッタリングカソード】 製品画像

    【マグネトロンスパッタリングカソード】

    不純物なく金属・絶縁物等を堆積するRF, DC, パルスDC対応高効率…

    【主仕様】 ■RF, DC, パルスDC対応 ■ターゲット厚さ:1/16"〜1/4" ■N型同軸コネクター接続 ■水冷式:4ℓ/min, 0.35Mpa Φ6mmチューブ接続 ■ケース材質:SUS304 ■ターゲッ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 【多目的真空蒸着装置】スパッタリングソース 製品画像

    【多目的真空蒸着装置】スパッタリングソース

    多目的真空蒸着装置HEXシステム用RF&DCスパッタリングソース

    多目的真空蒸着装置HEX/HEX-L用のスパッタリングソースです。 ターゲットが導体の場合はDCモードで、絶縁体の場合はRFモードで使用することができます。ガスフードが標準装備されているため、ターゲット表面近傍での圧力を高め、成膜中のチャンバー圧力を低く抑えることが可能です。 冷却水配管...

    メーカー・取り扱い企業: テガサイエンス株式会社

  • 蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab】 製品画像

    蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab】

    2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置(スパッタ、…

    ・抵抗加熱蒸着 x 2 ・有機蒸着限 x 2 2. MiniLab-S060A(スパッタリング装置) ・基板サイズ:Φ8inch ・Φ2"マグネトロンカソード x 4源同時スパッタ ・DC, RF両電源対応 3. Load Lockチャンバー ・プラズマエッチングステージ ロードロック室では「RF/DC基板バイアスステージ」による基板表面のプラズマクリーニング、又、同社独自の『...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 【ホットステージ】超高温基板加熱ステージ Max1800℃ 製品画像

    【ホットステージ】超高温基板加熱ステージ Max1800℃

    超高温基板加熱ステージに、基板昇降・回転、RF/DC基板バイアスの全て…

    ◉ 超高真空・不活性ガス雰囲気中・その他各種プロセスガス雰囲気に対応 ◉ ステージ上下昇降(基板又はヒーター昇降、基板&ヒータ二段昇降式) ◉ 基板回転 ◉ RF(1KW)/DC(800V)バイアス印加(逆スパッタ) ◉ 使用環境に応じたエレメントの選択: グラファイト, CCコンポジット, ハロゲンランプヒーター, グラファイト/SiCコーティング, グラファイト/P...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • ロードロック方式スパッタリング装置 「SPH-2500-II」 製品画像

    ロードロック方式スパッタリング装置 「SPH-2500-II」

    膜厚分布:トレー内 ±1.2%、トレー間 ±1.5%を達成しました。

    【装置構成】 ○装置サイズ W2500×D1200×H1440 ○構成 ストッカー + 仕込室 + SP室 インターバック式 ○スパッタ方式 DCマグネトロン ○カソード 5インチ×7インチ 2対(うち1対が高使用効率カソード) ○DC電源 800V、3.75A (MAX1.5kW) ○トレイサイズ L350mm×H210mm ○基板...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空

  • R&D用スパッタ装置 QAMシリーズ 製品画像

    R&D用スパッタ装置 QAMシリーズ

    各種研究開発、材料開発等に幅広く対応できる成膜装置。多様性・拡張性を持…

    ソード方式: ロングスローマグネトロンスパッタリング ※ヘリコンスパッタ(通称) ※オプション ・カソード数: 2インチカソード(磁性体、非磁性体共用) Max.4台まで搭載可能 ・搭載電源: DC500W 1台 ※DC500W、RF300Wを選択でき、Max.2台まで搭載可能 ※オプション ・到達圧力: 1×10-4Pa 以下 ・対応基板サイズ: Max.φ4インチ×1枚 ・膜厚分布:...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アルバック/ULVAC, Inc.

  • 卓上型マグネトロンスパッタ装置『FDS/FRSシリーズ』 製品画像

    卓上型マグネトロンスパッタ装置『FDS/FRSシリーズ』

    初期導入コストを抑え、拡張で高性能化が可能!研究ステージに合せてグレー…

    『FDS/FRSシリーズ』は、必要な機能を備えた研究開発用の 卓上型マグネトロンスパッタ装置です。 基本仕様は、DCスパッタ/シングルカソード/ロータリーポンプで 構成される金属薄膜用スパッタ。 RF化、カソード増設、ターボ分子ポンプ仕様などの 拡張オプションにより、研究ステージに合せて グレードアッ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社FKDファクトリ

  • 8インチスパッタコーター SC-708シリーズ 製品画像

    8インチスパッタコーター SC-708シリーズ

    大型サンプルの全面コーティングに最適なイオンコーターです。4~8インチ…

    【仕様】 ○適用可能ターゲット:Au/Au-Pd/Pt/Pt-Pd/Pd 〇スパッタ方式:DC/平行平板型 〇排気操作:手動式 〇排気装置:直結型ロータリーポンプ 100L/min(自動リーク付) 〇寸法(W/D/H):282/450/440mm ...

    メーカー・取り扱い企業: サンユー電子株式会社

  • 多種金属対応 プログラマブルスパッタコーター 製品画像

    多種金属対応 プログラマブルスパッタコーター

    Ni、Cr、W、Ti、Al等多種金属対応のハイスペックコンパクトコータ…

    d/W/Ni/Mo/Cr/Ti/Al etc. 〇試料サイズ:φ70mm(Max) 〇排気操作:手動式 〇排気装置:直結型ロータリーポンプ 100L/min(自動リーク付) 〇スパッタ方式:DCマグネトロン/平行平板型 〇寸法(W/D/H):360/422/265mm...

    メーカー・取り扱い企業: サンユー電子株式会社

  • マグネトロンスパッタコーター SC-701MC 製品画像

    マグネトロンスパッタコーター SC-701MC

    イオンダメージを軽減するマグネトロンカソード採用 フルオートマチック…

    ーゲット:Au/Au-Pd/Pt/Pt-Pd/Ag 〇試料サイズ:φ50mm(Max) 〇排気操作:自動 〇排気装置:直結型ロータリーポンプ 20L/min(自動リーク付) 〇スパッタ方式:DCマグネトロン/平行平板型 〇寸法(W/D/H):225/420/320mm...

    メーカー・取り扱い企業: サンユー電子株式会社

  • スパッタリング装置『MiniLab(ミニラボ)シリーズ』 製品画像

    スパッタリング装置『MiniLab(ミニラボ)シリーズ』

    モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

    【MiniLabフレキシブル薄膜実験装置 構成モジュール】 ◉ 製作範囲 抵抗加熱蒸着(TE)、有機膜蒸着(LTE)、電子ビーム蒸着(EB)、RF/DCスパッタリング(SP)、T-CVD/PE-CVD、プラズマエッチング(RIE) ◉ チャンバー ・026(26Litter)-TE/LTE/SP/CVD/Etch/*Globe Box opti...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 研究開発用スパタ装置『HSK602VTA』 製品画像

    研究開発用スパタ装置『HSK602VTA』

    省スペース化を実現!同時放電による合金膜や積層膜の形成に最適なスパタ装…

    【仕様】 ■カソード:DCφ2”マグネトロン×6基 ■シャッター機構:全個別シャッター ■スパッタDC電源:500mA × 6台独立 ■基板自転:10~30 rpm ■基板ホルダー:最大φ2、4枚 ■基板加熱:最大...

    メーカー・取り扱い企業: 有限会社ハヤマ

1〜15 件 / 全 38 件
表示件数
15件
  • icadtechnicalfair7th_1_pre2.jpg

PR