SIC | イプロスものづくり

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1チャンバー型薬液スピン・スクラブ洗浄機

PRシングルチャンバーで各種洗浄からスピン乾燥まで完結。省スペース設計で研…

『1チャンバー型薬液スピン・スクラブ洗浄機』は、高圧スプレーや超音波スプレー、薬液等の非接触洗浄、ブラシ等の接触洗浄など、様々な組み合わせが可能な洗浄機です。 1つのチャンバーで洗浄からスピン乾燥まで完結し、省スペース設計のため、設置スペースとコストの削減に貢献します。各種装置構成、薬液構成、目的とする洗浄性能やご予算など、ニーズに応じて最適な装置構成をご提案可能です...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）
★中心粒径250nm～★焼結体向け超微粒SiCパウダー

PR【低温焼結・高密度化】焼結用材料に好適！超微粒α-SiCパウダー

当社独自のSiC(炭化ケイ素)微細化技術を活かしたα-SiCパウダー『GC#40000』をご提供『Dv50（中心粒径）：0.25μm』の超微粒SiCによる、優れた焼結性を示します（GC#40000を焼結体原料に使用により期待されるメリット）　・低温焼成：CO2削減、ランニングコスト低減　・緻密化　：成形体強度の向上、ポアの抑制 ※プレス成型や金型における流動性が必要な場合、球状SiC造...

メーカー・取り扱い企業：株式会社フジミインコーポレーテッド
再結晶SiC (HE801)「最適な表面改質で多くの用途に対応」

高強度、高熱伝導のSiCを基材とした熱処理用道具材。プラズマ溶射での表…

再結晶SiC (HE801)は、セラミック電子部品(MLCC、インダクタ、LTCC、SOFCなど)の焼成(800～1400℃)に使用されるセッター、プレート、ラックなどの炭化ケイ素質(SiC）を基材とする熱処理用道具材です。焼成物に応じた表面改質(ジルコニア、アルミナ他)で多くの用途に対応致します。【特徴】　・高強度、高熱伝導のSiCを使用した薄肉・軽量・低熱容量道具材、高速焼成に...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行
SiCダミーウェハ「超高純度、高耐熱性、高耐摩耗性を実現」

独自のCVD-SiCで製作され、超高純度、高耐食性、高耐酸化性、高耐熱…

超高純度で耐食性及び耐熱性に優れているSiCダミーウェハは、長期のリサイクル使用が可能で、LP-CVD、高温拡散、CMP工程にてご使用頂けます。 ◆コストダウンに貢献　・長期のリサイクル使用が可能　・超高純度で耐食性及び耐熱性に優れている　・長期使用頂く事で、シリコンウェハの節約、ダミーウェハの交換や洗浄等管理工数削減につながる【特徴】　・高純度（純度はppmレベル）...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行
常圧焼結SiCセラミックス (CERASIC)

優れた耐食性と物理特性がラインの信頼性を築きます！

CERASIC常圧焼結SiCセラミックスは耐磨耗・耐食性が要求される機械部品に最適な材料です。半導体及びFPD製造用部材としても様々な用途開発が進められており、高純度品としてCVD被膜を施した製品の供給も可...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行
最大1600℃の電気炉向けヒーター｜SiCヒーター（炭化ケイ素）

800℃～1600℃での高温使用が可能！ガラス製造、熱処理など、電気炉…

「SiCヒーター（炭化ケイ素発熱体）」は、800℃～1600℃での高温使用が出来るヒーターです。単位面積当りの発熱量が大きく、短時間の昇温が可能です。金属工業、電子工業、化学工業、窯業、開発試験用途、等の幅広い分野の電気炉に採用されています。新規設備への設置をはじめ、既存の電気炉内のヒーターの代替として使用することが可能です。【こんな用途に活躍】 ■各種金属の焼入、焼戻　■セ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行
高性能枚葉式常圧CVD(APCVD)装置 (A200V)

少量・多品種向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　枚葉式…

A200Vは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・犠牲膜等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした枚葉式常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・絶縁膜・拡散/インプラマスクの成膜に好適　・枚葉式Face-down成膜による低パーティクル成膜　・密閉式チャンバーによる高い安全性と成膜安定性　・ウェハ反り矯正機能（特許取得済）によるSiCウェハ対応　...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行
高純度黒鉛製品「半導体をはじめ様々な産業で活躍」

半導体をはじめ様々な産業で活躍　高密度/高純度な特殊炭素材料　Si…

高純度黒鉛材料は、半導体製造工程で幅広く使用されています。さらに、厳選された黒鉛基材の表面にSiCコーティングを施したクリアーカーボンは、エピタキシャル用サセプターや各種治具で使用されており、その優れた特性は国内外で高く評価されています。【特徴】　・半導体をはじめ様々な産業で利用（特殊な処理により灰分を3ppm以下に抑えています）　・特殊炭素材料：高密度／高均熱特性／高耐酸化性...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行
高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・最大100枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ～8インチ) 　・真空・プラズマ不要 (熱CVD) 　・SiCトレー採用による重金属汚染(メタルコンタミ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行
ウェハ搬送移載装置「ピッチ変換」「Face to Face移載」

カセット内のウエハを異なるカセットへ自動移載、2カセット同時やピッチ変…

ウェハ搬送移載装置は、オープンカセット内のウェハを別のオープンカセット・石英(SiC)ボート等へ自動移載する装置です。【特徴】　・4インチ～8インチウェハ用移載機　・CR内でのウェハの自動移載が可能　・2カセット同時やピッチ変換・Face to Face (Back to Back)等の機能を付加可能 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧下さい...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行
高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・～56枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ～12インチ) 　・真空・プラズマ不要 (熱CVD) 　・SiCトレー採用による重金属汚染(メタルコンタミネ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行
カーボン接着剤「炭素材料用の高強度・耐熱接着剤」

炭素材料用の高強度・耐熱接着剤。炭素材料の優れた特性を損なうことなく接…

カーボン接着剤は炭素材料用（黒鉛材、C/Cコンポジット等）に開発された高強度・耐熱接着剤です。接着剤自体を炭素化することで、炭素材料の優れた特性を損なうことなく接着できます。【主な用途】　・黒鉛治具の接着　・SiCウェハの引き上げ用種結晶の接着　・高温真空・不活性ガス雰囲気での黒鉛、C/Cコンポジット同士の接着 ※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードして...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行