• 資料『次世代半導体の今を説く~SiC・GaN解説~』【進呈中!】 製品画像

    資料『次世代半導体の今を説く~SiC・GaN解説~』【進呈中!】

    PR次世代半導体SiC・GaNの新情報がここに!

    エネルギーの効率的な利用と環境への配慮が今後ますます重要となる中で 従来のシリコン半導体よりも優れた特性を持つ次世代半導体が大きな注目を浴びています。 その中でSiC(シリコンカーバイト)・GaN(窒化ガリウム)の特徴や課題を解説しております。 次世代半導体に触れ、未来の製品開発のヒントとなれば幸いです。ぜひご活用ください。 技術革命の先駆けとなる情報が今すぐあなたの手に。お見逃しなく! ...

    メーカー・取り扱い企業: ジェルグループ【株式会社ジェルシステム/株式会社ナカ アンド カンパニー】

  • 解説資料 開発元監修『見積段階から機械動作を可視化する3D構想』 製品画像

    解説資料 開発元監修『見積段階から機械動作を可視化する3D構想』

    PR複雑する装置仕様を見える化!受注率UPと手戻り削減に貢献する3DCAD…

    機械設計向け3次元CAD「iCAD SX」の開発元が監修しました。 複雑化する装置仕様の摺合せが難しい理由や問題点を洗い出し、 "装置仕様(動き)の可視化"について解説した資料を無料進呈中です。  【資料概要】   ■製造業を取り巻く環境と、装置の複雑化   ■仕様説明時における取組と課題、目指す姿   ■打ち合わせ初期から一連の動作フローを可視化する効果   ※ 本ページのPDFダウンロード...

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    メーカー・取り扱い企業: i CAD株式会社 - 機械設計向け3DCAD(3次元CAD)開発元 -

  • 粉体試料の合成に好適 SiC製容器対応 Monowaveシリーズ 製品画像

    粉体試料の合成に好適 SiC製容器対応 Monowaveシリーズ

    小~中規模の合成(有機・無機)用のリアクターです。反応容器のオプション…

    うすればいいでしょうか? Q : 合成時に使用している溶媒がマイクロ波の吸収がなく、急速合成できない場合はどうすればいいでしょうか? A : アントンパールには 反応容器に炭化ケイ素(SiC)容器 があります。  炭化ケイ素(シリコンカーバイド)製の容器はマイクロ波エネルギーを効率的に吸収し、内部をマイクロ波放射から保護します。これにより、マイクロ波は容器を直接加熱し、試料(固...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アントンパール・ジャパン

  • マイクロ波合成リアクター Monowave 200 製品画像

    マイクロ波合成リアクター Monowave 200

    モノウェーブ200は、小規模から中規模のマイクロ波合成(有機合成・無機…

    マイクロ波加熱は「局所」を「選択的」に「迅速」に加熱する特性を有します。マイクロ波吸収性の極性基を持つ被反応物は直接加熱されます。 サンプル容器には、標準のガラスバイアルと並んで、炭化ケイ素(SiC)容器も選択が可能です。炭化ケイ素(シリコンカーバイド)製の容器はマイクロ波エネルギーを効率的に吸収し、内部をマイクロ波放射から保護します。これは、選択的吸収によって引き起こされるマイクロ波効果を...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アントンパール・ジャパン

  • オンライン密度計式 CMPスラリー濃度計 製品画像

    オンライン密度計式 CMPスラリー濃度計

    国内外での実績豊富。スラリーの固形分濃度の算出。ノーメンテナンス 3年…

    です。  濃度調整用のほか、再生用や戻り(リターン)配管への設置など、様々なポイントに設置できます。  砥粒についてもシリカ、アルミナ、酸化セリウム他、様々な素材に対応可能です。Si用のほか、SiC用にも対応します。  接液材質の変更も可能な連続測定用センサーのため、アルカリにも対応し、幅広い可能性を秘めています。密度を直接測定し、濃度に多項式で換算するため、再現性の高さに自信があります。...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アントンパール・ジャパン

  • マイクロ波合成ソリューション 製品画像

    マイクロ波合成ソリューション

    あらゆる化学反応、スケールに、常に対応する製品ファミリー

    開発は、幅広いアプリケーションに適した新しい反応経路への道を開きます。 MAS 24とMonowave 300を使用したシーケンシルメソッドの最適化、またはSynthos 3000の炭化ケイ素(SiC)ローターによるパラレル最適化を実行すれば、化学者の日常的な作業負荷は大幅に軽減されます。 ■パラレルスケールアップ 様々なグラム範囲にパラレルスケールアップする場合は、Rotor 16を...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アントンパール・ジャパン

  • マイクロ波合成リアクター Monowave 400R ラマン分光 製品画像

    マイクロ波合成リアクター Monowave 400R ラマン分光

    小規模から中規模のマイクロ波合成(有機合成・無機合成)用に設計されたラ…

    直接加熱されます。 Monowaveは、化学反応全体の溶媒比較に理想的な機器です。最後に、ガラスバイアルに適さない化学物質(フッ素化剤またはアルカリ性サンプル)でさえ、化学的に不活性で堅牢なSiC容器で処理できます。 工具不要で再利用可能な消耗品により、時間、支出、および環境を節約します 各反応バイアルはツール不要で、再利用可能なバイアル、セプタム、およびキャップを使用して、所有コ...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アントンパール・ジャパン

  • マイクロ波合成リアクター Monowave 400 / 450  製品画像

    マイクロ波合成リアクター Monowave 400 / 450

    小規模から中規模のマイクロ波合成(有機合成・無機合成)用に設計されたマ…

    イクロ波加熱は「局所」を「選択的」に「迅速」に加熱する特性を有します。マイクロ波吸収性の極性基を持つ被反応物は直接加熱されます。 サンプル容器には、標準のガラスバイアルと並んで、炭化ケイ素(SiC)容器も選択が可能です。炭化ケイ素(シリコンカーバイド)製の容器はマイクロ波エネルギーを効率的に吸収し、内部をマイクロ波放射から保護します。これは、選択的吸収によって引き起こされるマイクロ波効果を...

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  • 固体表面ゼータ電位測定装置SurPASS 3 半導体ウェハ用 製品画像

    固体表面ゼータ電位測定装置SurPASS 3 半導体ウェハ用

    表面特性の分析を直接評価。表面特性の解明と改良、及び新しい材料開発に貢…

    【測定対象】 半導体ウェハ (シリコンウェハ、ガリウム砒素 (GaAs) ウェハ、ガリウム燐 (GaP) ウェハ 、窒化ガリウム (GaN) ウェハ、シリコンカーバイド (SiC) ウェハ、サファイアウェハ、化合物半導体ウェハ、SAWウェハ) 【測定サンプルの規格】 サンプルサイズ :最小 35 mm x 15 mm、または、最小直径 17 mm サンプル厚さ...

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