• 電子機器の受託開発・設計(ハードウェア、FPGA、ソフトウェア) 製品画像

    電子機器の受託開発・設計(ハードウェア、FPGA、ソフトウェア)

    PR画像技研は、幅広くお客様の開発をお手伝いします。(一貫した開発から部分…

    ●ハードウェア・ファームウェア・ソフトウェアのすべてにわたって、幅広くお客様の開発をお手伝いします。 ●画像の処理、圧縮、高速伝送、認識などで豊富な経験を持っています。 ●FPGAを使用したハードウェア処理により、高速処理、リアルタイム処理を実現します。...●ハードウェア 仕様書の作成から回路図、部品リストの作成、基板アートワーク、生基板作成、部品手配、実装、評価、調整までお引き受けします...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社画像技研

  • 【資料無料進呈中!】乾燥剤(除湿剤/吸湿剤)の使用事例と注意点 製品画像

    【資料無料進呈中!】乾燥剤(除湿剤/吸湿剤)の使用事例と注意点

    PR塩化カルシウム系乾燥剤(除湿剤/吸湿剤)の使用事例と注意点を掲載してい…

    当資料では、乾燥剤の使用事例と注意点についてご紹介しております。 乾燥剤について基礎から種類ごとの特長・吸湿性能までを説明。 また、海上コンテナと個包装における塩化カルシウム系乾燥剤の 使用事例と注意点について解説。 当社は、乾燥剤の見直し・最適化に向けてサポートいたします。 お気軽にお問い合わせください。 【掲載内容】 ■Chapter 01.乾燥剤の基礎知識 ■Chapter 02.塩化...

    メーカー・取り扱い企業: 鈴与商事株式会社 化学品営業部

  • CZウェーハ 成膜加工 製品画像

    CZウェーハ 成膜加工

    2インチから12インチウェーハへの成膜が可能です。

    0mmウェーハへの成膜が可能です。 酸化膜系:熱酸化、RTO、LP-TEOS、HDP-USG、P-TEOS、PSG、BPSG、BSG、LP-CVD、PE-CVD 窒化膜系: HCD-SiN、DCS-SiN、P-SiN、LP-SiN 、LP-CVD、PE-CVD 金属膜系: TaN、Ta、Cu、Al、AlN、Al-Si、Al-Si-Cu、Ni、W、W-Si-Cu その他 P...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エナテック 東京本社

  • プラズマCVD成膜 製品画像

    プラズマCVD成膜

    ガスを化学反応させることで緻密な薄膜を形成!低温加工も可能です。

    ング法、真空蒸着法に加え、 プラズマCVD法によるコーティングサービスも行っております。 現在、プラズマCVD法での対応膜種は、DLC(Diamond-Like Carbon)、SiO2、SiN、SiCの4膜種とさせていただいております。...

    メーカー・取り扱い企業: 東邦化研株式会社

  • 【パターンウェハ】CD 50nm STI Pattern 製品画像

    【パターンウェハ】CD 50nm STI Pattern

    200mm 300mm にて対応可能! 対応膜種はご希望によりご相談く…

    ンスマテリアルズテクノロジーでは、 テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 画像は、HDP、SiN on Si の例になります。 200mm 300mm にて対応可能です。 ※MITマスク使用 対応膜種はご希望によりご相談ください。 ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問...

    メーカー・取り扱い企業: アドバンスマテリアルズテクノロジー株式会社

  • 1枚からの成膜が可能 成膜加工(CVD) 製品画像

    1枚からの成膜が可能 成膜加工(CVD)

    低温CVDは、100℃以下での成膜や、異形サイズの基板へも、樹脂、フィ…

    PE=CVDのSiO2、SiNを中心に成膜の受託加工を行っております。 厚膜の熱酸化膜への対応、小数枚の熱酸化膜へのご要求にも 在庫品で対応できる場合がありますので、お気軽にお問い合わせください。 その他詳細は、カ...

    メーカー・取り扱い企業: 大村技研株式会社

  • 【テストウェハ】ブランケットウェハ (200mmウェハ) 製品画像

    【テストウェハ】ブランケットウェハ (200mmウェハ)

    成膜工程におけるテストウエハを、各企業様の状況に合わせてご提案&製造致…

    の中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 【対応可能膜種】  Cu、Ta、TaN、Ti、TiN、Al-Cu、SiN、  PE-TEOS、HDP、HARP oxide、Poly-Si、  Th-Ox、ACL、SiC、SiON、Photo resist、Polyimide ■メタル系  Ru、Co、C...

    メーカー・取り扱い企業: アドバンスマテリアルズテクノロジー株式会社

  • 【テストウェハ】ブランケットウェハ(300mmウェハ) 製品画像

    【テストウェハ】ブランケットウェハ(300mmウェハ)

    成膜工程におけるテストウエハを、各企業様の状況に合わせてご提案&製造致…

    の中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 【対応可能膜種】  Cu、Ta、TaN、Ti、TiN、Al-Cu、SiN、  PE-TEOS、HDP、HARP oxide、Poly-Si、  Th-Ox、ACL、SiC、SiON、Photo resist、Polyimide ■メタル系  Ru、Co、C...

    メーカー・取り扱い企業: アドバンスマテリアルズテクノロジー株式会社

  • 【パターンウェハ】3D ILD Pattern 製品画像

    【パターンウェハ】3D ILD Pattern

    CMP研究・開発用途に大変有用! 対応膜種はご希望によりご相談ください…

    ンスマテリアルズテクノロジーでは、 テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 画像は、HDP、SiN on Si の例になります。 200mm、300mmにて対応可能です。 対応膜種はご希望によりご相談ください。 高段差のパターンもご用意があります。 CMP研究・開発用途に大変有用で...

    メーカー・取り扱い企業: アドバンスマテリアルズテクノロジー株式会社

  • 【CMP用テストウエハ】3D ILD Pattern wafer 製品画像

    【CMP用テストウエハ】3D ILD Pattern wafer

    CMP研究・開発用途に大変有用! 高段差のパターンも用意あり

    バンスマテリアルズテクノロジーでは、 テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 画像はHDP、SiN on Si の例です。 200mm 300mm にて対応可能です。 対応膜種はご希望によりご相談ください。 高段差のパターンもご用意があり、 CMP研究・開発用途に大変有用です。 ...

    メーカー・取り扱い企業: アドバンスマテリアルズテクノロジー株式会社

  • 【パターンウェハ】MIT STI CMP wafer  製品画像

    【パターンウェハ】MIT STI CMP wafer

    200mm 300mm にて対応可能! 対応膜種はご希望によりご相談く…

    バンスマテリアルズテクノロジーでは、 テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 画像はHDP、SiN on Si の例です。 200mm 300mm にて対応可能です。 ※MITマスク使用 対応膜種はご希望によりご相談ください。 ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わ...

    メーカー・取り扱い企業: アドバンスマテリアルズテクノロジー株式会社

  • 【CMP用テストウエハ】MIT STI CMP wafer  製品画像

    【CMP用テストウエハ】MIT STI CMP wafer

    200mm 300mm にて対応可能! 対応膜種はご希望によりご相談く…

    バンスマテリアルズテクノロジーでは、 テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 画像はHDP、SiN on Si の例です。 200mm 300mm にて対応可能です。 ※MITマスク使用 対応膜種はご希望によりご相談ください。 ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わ...

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