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19件 - メーカー・取り扱い企業
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PR【国内在庫あり】大好評!柱をガッチリ守る。150~375mmまで伸縮サ…
アクセレントのコラムガードは、建物内の柱を衝撃から保護します。 取り付けはとても簡単! 柱の周りを囲う用にパーツを置いて、それぞれをはめ込み、仕上げにストラップを取り付ければ設置完了です。 フォークリフトの往来が激しい物流、倉庫の現場で大変ご好評をいただいております。 国内に在庫もございますので、お急ぎの場合でも対応可能です。 (千葉県船橋市、東京都新橋にて実物をご見学いただくこ...
メーカー・取り扱い企業: アクセレントジャパン株式会社
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PRサンプルプレゼント!260℃までOK!500回以上繰り返して使える高耐…
『TACSIL F20』は、リフロー工程で500回以上繰返し使用しても 均一な粘着力を維持する両面テープ。 対応温度範囲は-73℃~260℃で、安定性に優れているのが特長です。 特にFPCや薄い基板の実装工程で実績多数。 基板が動いたり、カールするのを抑制します。 サンプルを無料プレゼント中! お問い合わせよりお気軽にお申込みください。 【特長】 ■粘着強度にバリエーシ...
メーカー・取り扱い企業: イーグローバレッジ株式会社 MI本部
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コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜:3元同時成膜(RF500W or DC850W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF300W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチャ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V)
量産向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 高生産性 連続…
「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行
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少量・多品種向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 枚葉式…
A200Vは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・犠牲膜等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした枚葉式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 ・絶縁膜・拡散/インプラマスクの成膜に好適 ・枚葉式Face-down成膜による低パーティクル成膜 ・密閉式チャンバーによる高い安全性と成膜安定性 ・ウェハ反り矯正機能(特許取得済)によるSiCウェハ対応 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行
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小規模生産・開発用常圧CVD(APCVD)装置 (D501)
試作・開発・小ロット生産向け NSG(SiO2)/BSG/PSG/BP…
D501は、少量生産/テストや不定形基板へのシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、バッチ式(複数枚同時処理)の常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 ・異形状・サイズ基板の同時処理 ・高い成膜速度 ・シンプルメンテナンス ・省フットプリント ・低CoO(低ランニングコスト) 【用途】 ・層間絶縁膜(NSG/PSG/BPSG) ・拡散/インプラ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行
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高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200)
量産向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 高生産性 連続…
「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行
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太陽電池セル量産用連続式常圧CVD装置 (AMAX1000S)
結晶Si太陽電池セル量産用 NSG(SiO2)/PSG/BSG膜成膜用…
AMAX1000Sは、「AMAX」シリーズの実績をもとに、太陽電池(セル)製造用に開発された連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 ・156mm角/125mm角ウェハ対応 ・1...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行
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FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板…
FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板成膜装置です。 【特徴】 ・低温(150~300℃)成膜 ・4.5世代ガラス基板に250℃で100nmのSiO2膜をスループット 25枚/h以上の成膜 ・シンプルメンテナンス ・低CoO(低ランニングコスト) ・高品質なSiO2膜の形成: 低ストレス、プラズマダメージレス、小パーティクル ・導入・維...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行
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3.0x3.0mmから10.0x10.0mmまでのサイズをラインアップ…
当社が取り扱う『単結晶ラボグロウンダイヤモンド』をご紹介します。 横は+0.2/0-0mm、厚さは+/-0.05mm。 材料特性は、ホウ素濃度[B] <0.05ppm、窒素濃度 <1ppmです。 3.0x3.0mmから10.0x10.0mmまでのサイズをご用意しております。 【仕様と公差(一部)】 ■横:+0.2/0-0mm ■厚さ:+/-0.05mm ■結晶方位(ミスカ...
メーカー・取り扱い企業: 合同会社SUPERHARD JAPAN
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DLI-CVD/DLI-ALD装置『MC-100/MC-200』
最大成膜温度は800℃!チャンバー加熱機構で最大4x DLI気化器を搭…
『MC-100/MC-200』は、スチールステンレス製チャンバーの DLI-CVD/DLI-ALD装置です。 最大200mm径基板対応、マスフローコントローラーは最大「MC-100」が8、 「MC-200」は6で、ターボポンプ搭載可能となっております。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大200mm径基板対応 ■最大成膜温度:800℃ ■最大4...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ
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◉ 大型製造装置設備を使わず、短時間で容易にグラフェン・CNT(SWN…
◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール ◉ 急速昇温:RT→1100℃/約3分間 ◉ 高精度温度流量制御・再現性に優れたハイパフォーマンス機...◆特徴◆ ・簡単操作! 5inchタッチパネルによる操作・レシピ管理 ・最大30レシピ,30stepのプログラム作成可能 ・専用ソフトウエア標準装備,CSVファイルで出力PCでデータロギング ・USBケーブル接続,PC...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…
◉ グラフェン, カーボンナノチューブ ◉ ZnOナノワイヤ ◉ SiO2等の絶縁膜など その他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに対応...【特徴】 ◉ コンパクトなシステムでハイクオリティな成膜実験が可能 ◉ ホットウオール式 反応管内を均一に加熱 ◉ 4系統(CH4, Ar, H2, バブラー用)MFC高精度流量制御:精度±1% F.S. ◉ キャパシ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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簡単に試料セットする事が可能!外部ビューポートよりYAGレーザーを入射…
は別途御相談下さい) ■試料ステージサイズ:20 × 40 ■試料ステージ回転機構:ステッピングモーター(回転速度可変可能) ■真空計:ピラニー真空計 ■レーザー入射装置:位置決め機構付き(X・Y・ゴニオ機構) ■チャンバー水冷機構付き ※YAGレーザーは価格には含まれておりません。 ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック
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3インチウェハ対応!コンパクトな設計となっており省スペース化を実現しま…
【仕様】 ■真空排気:ターボポンプ ■ヒーター:SiC MAX1200℃ ■水冷:外周蛇管 上フランジジャケット ■外寸:φ360 x 500H ■内面処理:電解研磨 ■ガスケット:金メッキ銅ガスケット ■チャンバー材質:SUS316 ■ガス吐出基...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社和泉テック
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豊富なプロセスレシピを持ちながらも非常に小型な原子層堆積装置
コンパクトな卓上型ALD。 半導体デバイス、有機太陽電池、ナノワイヤー、量子ドットなどへの成膜により、表面保護や改質など様々なデバイス開発にご使用いただけます。 プロセスはALD・CVDの材料開発拠点で開発されたもの。 順次レシピを増やしてゆき、新規のプロセス開発も承っております。...設置面積:48x48cm 基板サイズ: 最大4インチ プレカーサー材料:5系統 方式:ホットウォール...
メーカー・取り扱い企業: ALDジャパン株式会社
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スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A
コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜:3元同時成膜(RF500W or DC850W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング プラズマエッチングステージRF300W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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横の許容範囲は+0.1/0-0mm!単結晶メカニカルをご紹介します
当社が取り扱う『単結晶メカニカル』をご紹介します。 横の許容範囲は+0.1/0-0mm、厚さの許容は+0.02/0mm。 エッジはレーザーカットとなっており、レーザーカーフは3です。 サイズ3.0x3.0mm、厚み1.0mmとサイズ4.0x3.0mm、厚み1.2mmの 2種類をラインアップしております。 【仕様と公差】 ■横の許容範囲:+0.1/0-0mm ■エッジ:レー...
メーカー・取り扱い企業: 合同会社SUPERHARD JAPAN
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3.0x3.0mmから10.0x10.0mmまでのサイズをラインアップ…
当社が取り扱う『単結晶ラボグロウンダイヤモンド』をご紹介します。 横は+0.2/0-0mm、厚さは+/-0.05mm。 材料特性は、ホウ素濃度[B] <0.05ppm、窒素濃度 <1ppmです。 3.0x3.0mmから10.0x10.0mmまでのサイズをご用意しております。 【仕様と公差(一部)】 ■横:+0.2/0-0mm ■厚さ:+/-0.05mm ■結晶方位(ミスカ...
メーカー・取り扱い企業: 合同会社SUPERHARD JAPAN
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3.0x3.0mmから10.0x10.0mmまでのサイズをラインアップ…
当社が取り扱う『単結晶ラボグロウンダイヤモンド』をご紹介します。 横は+0.2/0-0mm、厚さは+/-0.05mm。 材料特性は、ホウ素濃度[B] <0.05ppm、窒素濃度 <1ppmです。 3.0x3.0mmから10.0x10.0mmまでのサイズをご用意しております。 【仕様と公差(一部)】 ■横:+0.2/0-0mm ■厚さ:+/-0.05mm ■結晶方位(ミスカ...
メーカー・取り扱い企業: 合同会社SUPERHARD JAPAN
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わずか4.76mmの断面寸法を実現。省スペース・軽量化により、…
株式会社木村洋行 -
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毒性ガスに暴露する前に作業者を守る!災害・事故現場からの退避、…
ドレーゲルジャパン株式会社 セイフティー事業部 -
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ステルス・ネットワークス株式会社 -
MAZAK INTEGREX i-200H 新規導入
【複合加工・自動化に好適】
株式会社竹沢精機 -
【6月東京開催】『機械要素技術展』出展製品のご案内
半導体向け樹脂素材、ポリイミド、異形レール、ガイドレール素材、…
ロシュリングインダストリアルジャパン株式会社 -
ゴム加工性解析装置『Premier RPA』
ゴム試験機で先進のRPA!この1台で様々なゴム試験ができるゴム…
東京材料株式会社 -
注水式冷却ベスト『BODYCOOL SMART-X』
バッテリー・保冷材は不要!『水』のみを利用して体を冷却する環境…
株式会社スリーライク -
【無料貸出】産業機器を遠隔操作で安全に止める『無線停止リモコン』
非常停止ボタンの補助として、産業機器・製造装置・工作機械などを…
新日本電子株式会社 本社