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先端薄膜デバイスの研究開発に最適。カスタマイズ容易な枚葉式超高真空イン…
10‐⁷paの排気性能を持つ超高真空スパッタリング装置。標準構成でカセット室・搬送室・エッチング室・複数のスパッタ室を装備。全自動CtoC方式による完全自動運転で研究開発作業の効率化を実現いたします。 高効率強磁性体用カソードやワイドエロージョンカソードなど成膜機構も...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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コンビナトリアル・マグネトロンスパッタシステム CMS-3200
単一基板に数100条件の組成分布を形成。有効成膜エリアは1辺25mmの…
【基本仕様(一部)】 ■2”マトリクス用スパッタガン3基 ■強磁性体用スパッタ・カソード ■2”ウエハカセットロードロックシステム ■25mm/辺の3元コンビ試料の作成 ■3元組成傾斜成膜対応マスク・システム ■Co-sputtering成膜に対応 ■自動圧力制御 ■プロセスパラメーターロギング...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社コメット
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コンビナトリアル・マグネトロンスパッタシステム CMS-6420
1辺25mmトライアングルの有効エリア!単一基板に数百条件分の組成分布…
【基本仕様(一部)】 ■2”マグネトロン・スパッタカソード6基 ■4”ウエハカセット対応ロードロックシステム ■25mm/辺の3元コンビ試料の作成 ■3元コンビ対応の精密移動マスク機構および基板回転機構 ■Co-Sputtering成膜に対応 ■自動圧力制御 ■プロセス...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社コメット
- 表示件数
- 60件
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