オーダーメイド型スパッタリング成膜装置

PR難しい材料、様々な基板形状、用途にも！非常に幅広い基板サイズに対応可能

当社では、研究・試作から量産まで対応可能な「オーダーメイド型 スパッタリング成膜装置(PVD)」を取り扱っております。 フレキシブルエレクトロニクス、光通信技術、薄膜太陽電池や バッテリー等の薄膜デバイスの研究開発から量産まで装飾や 表面保護のためのコーティングにも対応。 サンプルサイズ、成膜対象マテリアル、バッチプロセス等、お客様の 用途に応じて組み立てることが可能です。 ...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

3次元レーザ統合システム『ALCIS-1008e』

PR【変わる世界に、光でこたえを。】高出力Blueレーザによる高速・高品質…

『ALCIS』 日々進化する素材や工程に対応する柔軟な加工機 高出力Blueレーザ発振器/ファイバーレーザ発振器を搭載 「高出力Blueレーザ」 高出力BLUEレーザ（３kW/４kW）により、高速・スパッタレスの銅溶接を実現します。 「スキャナヘッド」 スキャナヘッドにより多数の加工点の高速加工を実現。 コンビ加工、オンザフライ加工、スキャナ加工の三つの加工方法で、 好適な加工方法を選択可能で...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アマダ（アマダグループ）

セルテスDLCコーティング【従来より密着力・耐摩耗性に優位性！】

従来よりも密着力・耐摩耗性に優れる複合多層DLCコーティングが登場！摺…

セルテスDLCは、プラズマブースタースパッタリング（PBS)とプラズマCVDのハイブリッドプロセスによる新世代複合多層DLCコーティングです。新プラズマ源の採用により、これまでより低温（180℃以下）で成膜でき、金型・部品の耐久寿命も従来DL...

メーカー・取り扱い企業： ナノコート・ティーエス株式会社 石川事業所

プラスチック成形金型用セルテスコーティング

先進のプラズマブースタースパッタリングプロセスによる硬質薄膜です。

プラスチック成形金型用セルテスコーティングは、先進のプラズマブースタースパッタリング（PBS) プロセスによる２～８μmの硬質薄膜です。射出成形においてガラス繊維などの硬質添加物によるアブレシブ摩耗を低減するとともに、ガス焼けや腐食による鋼母材の荒れを防ぎます。またプラスチッ...

メーカー・取り扱い企業： ナノコート・ティーエス株式会社 石川事業所

プラスチックレンズ成形金型用　セルテス N-Sコーティング

人気のセルテスに撥水・撥油グレードが登場！プラレンズ成形の離型性向上・…

セルテスN-Sコーティングは、先進のプラズマブースタースパッタリング（PBS）プロセスによる窒化物セラミック硬質薄膜に撥水処理を複合させた多層構造の撥水・撥油グレード セルテスコーティングです。...

メーカー・取り扱い企業： ナノコート・ティーエス株式会社 石川事業所

セルテス　低温PVDコーティング加工

低温処理で安定した密着性コーティング！200℃以下の低温処理が可能

特殊スパッタリングおよびプラズマＣＶＤプロセスの採用により低温プロセスで高膜厚精度で密着力にすぐれた耐摩耗、耐焼付き、低摩擦係数などすぐれたトライボロジー特性を持つコーティングを豊富な実績と経験に基づいて高品質...

メーカー・取り扱い企業： ナノコート・ティーエス株式会社 石川事業所

半導体モールド金型用セルテスXコーティング

先進の真空プラズマ技術による低温PVDコーティングです。

半導体モールド金型用セルテスXコーティングは、先進の真空プラズマ技術による低温PVDコーティングです。PBS（プラズマブースタースパッタリング）プロセスにより成膜された２～５μｍの窒化クロム被膜（CrxNy）はビッカース硬さ1800以上で、シリカ粒子によるアブレシブ摩耗に対してすぐれた耐摩耗性を示します。また鋼母材では、放電加工面上...

メーカー・取り扱い企業： ナノコート・ティーエス株式会社 石川事業所

電磁波シールドPVDコーティング『PROCEM プロセム』

銀・銅・アルミの3種類の導電性金属の選択可能！寸法安定性よく軽量化に貢…

【仕様】 ■コーティング方法：スパッタリング法 ■成膜可能な基材：ABS・PC・PA・PMMA・PAA・ポリイミド・ガラス繊維など ■膜厚：1～2μm ■体積抵抗率：1～5×10^-6Ωcm ■耐食性：塩水噴霧試験で150Hr ...

メーカー・取り扱い企業： ナノコート・ティーエス株式会社 石川事業所

コーティング 「セルテスT多層コーティング」

セルテス ラインアップに新規多層被膜登場！

冷間鍛造金型・打抜き金型の耐荷重性・耐衝撃性向上にセルテスT 多層コーティング。 PBS（プラズマブースタースパッタリング）プロセスにより250℃以下の低温処理が可能です。 低温処理にもかかわらずロックウェルC スケール150kgf 押込み試験でも剥離がまったく観察されません。 【特徴】 ○低温処理でも...

メーカー・取り扱い企業： ナノコート・ティーエス株式会社 石川事業所