リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

3次元レーザ統合システム『ALCIS-1008e』

PR【変わる世界に、光でこたえを。】高出力Blueレーザによる高速・高品質…

『ALCIS』 日々進化する素材や工程に対応する柔軟な加工機 高出力Blueレーザ発振器/ファイバーレーザ発振器を搭載 「高出力Blueレーザ」 高出力BLUEレーザ（３kW/４kW）により、高速・スパッタレスの銅溶接を実現します。 「スキャナヘッド」 スキャナヘッドにより多数の加工点の高速加工を実現。 コンビ加工、オンザフライ加工、スキャナ加工の三つの加工方法で、 好適な加工方法を選択可能で...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アマダ（アマダグループ）

小型スパッタリング装置

コンパクト設計で省スペースを実現！大学や民間の研究室に最適なスパッタリ…

韓国 A-tech社は1964年の創業以来、顧客のニーズに合わせた薄膜製造装置を提供してきました。デスクトッププロは小型高性能でデスクトップに設置でき、経済的にもメリットのあるスパッタリング装置です。 物性研究や製品QCおよびQA、半導体の故障解析などに最適です。 ■詳細はカタログダウンロードより■ ●御問合せ：03-5472-1722 (TEL)...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マツボー

大面積イオンビーム照射装置

成膜せずにドーピングで物質の表面を改質！耐摩耗性の向上、耐疲労性の向上…

性・非晶質化 ○適用分野 →半導体製造(ドーピング)、静電気防止、電磁波遮蔽、耐久性、耐摩耗性、 　宝石発色、親水・疏水性処理など ○応用装置 →大面積イオン照射機 →イオンビームスパッタリングシステム →ハイカレントイオンインプランター ○アプリケーション →ヘアクリッパー・ブラックダイヤモンド・サンバイザー・ICトレイ ●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧く...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マツボー

圧電膜成膜装置

MEMSやFBARの生産に特化した成膜装置です。

原理：DC，AC（デュアルマグネトロン）スパッタリング 特徴 AlN、AlScN（圧電）膜、Mo（メタル）膜の成膜 優れた応力制御/分布 結晶性 高スループット 高歩留まり 高いメンテナンス性 200 mm　ウエハ対応 非常にコ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マツボー