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フラックス洗浄を検討する上でのポイントについてご紹介します！
フラックス洗浄とはそもそも「洗浄」とは、ワーク(洗う物)表面に 存在している物質のうち、除去したい物質を選択的に取り除く事を 目的とした行為のことです。 つまりフラックス洗浄とは、プリント基板やパワーモジュール、 半導体パッケージ、リードフレームなどを保護しながら フラックス残渣(コンタミ)を除去する事を意味します。 ちなみに、ワーク表面も含め除去対象となる場合、選択性のないものは ...
メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社
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はんだ接合後のフラックス残渣における形態変化と洗浄性への影響
【共同研究】形態変化と洗浄性への影響を共同研究！詳しい解説と画像でご紹…
進化し続ける無洗浄タイプのはんだペーストですが、5GデバイスやEV向けの 高出力パワーデバイスなどの分野では発生する熱量が大きく、環境的負荷が 増すことで、安定化しているフラックス残渣であっても、長期にわたる 経年変化を注視する必要があります。 昨今の市場トレンドで高機能電子デバイスは小型化により部品間の距離が 狭まり、短時間での高速演算や容量アップに伴い大電流・高電圧と なった事で、以前は問題...
メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社
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イオン残渣見逃していませんか。フラックス洗浄の落とし穴について解説
り、使用を完全に止めることは難しいのが現状です。 近年では各業界における技術躍進と企業努力により、有機溶剤の使用量・ 大気排出量は大きく削減されてきていますが、日本の電子デバイスの フラックス洗浄において、有機溶剤を主体とした洗浄剤が広く使われています。 しかし、フラックス洗浄は実質的に「複合物質残渣洗浄」へと変化しており、 溶剤系洗浄剤は、ロジンなどの有機成分に対しての有効性...
メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社
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フラックス残渣をなぜ洗浄しなくてはいけないのかについて詳しく解説！
前回は、5Gにまつわる技術課題の解決策をご紹介させていただきました。 スプレー方式と水系洗浄剤を用いた洗浄を推奨しましたが、コーティングを 行えば洗浄する必要はないのではないか？という疑問が出てきました。 上記を踏まえた上で、フラックス残渣をなぜ洗浄しなくてはいけないのか？ についてお伝えいたします。 ※詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。 詳しくはPDF資料をご...
メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社
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ギ酸リフローについて詳しく解説！洗浄ノウハウをご紹介します
ギ酸リフローとは、対応する専用はんだを使用しフラックスレスで はんだ接合ができる画期的な接合プロセスです。 フラックスの作用の1つである還元作用をギ酸で代替することで大幅に フラックス成分を低減化できます。 パワーデバイスの分野では、ボイドの発生を抑えられ、低温域で接合できる 利点が大きいギ酸リフロー方式によるはんだ付けが広まりつつあります。 ※詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。 ...
メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社
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洗浄後評価が問われる時代に！外観検査以外の有効な分析手法などを掲載
当資料は、フラックス洗浄後の清浄度評価方法について解説しております。 既存の主流評価方法としては、信頼性評価をパスした後、実際の製造工程 ではAOIによる外観検査を行うことで、製品不良の可否を判断しており、 ...
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一目ではわからない残渣が当社保有のマイクロスコープなら、はっきり見える…
当社が保有しているマイクロスコープを使った高解像度分析では、 残渣を見ることができる幅が広がりました。 一目ではわからない残渣が当社保有のマイクロスコープなら、 はっきり見えます。 また、他社で洗浄された基板の分析撮影も承ります。 【特長】 ■残渣を見ることができる幅が広がった ■サンプル受領より、最短2日で結果をお知らせ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気...
メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社
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洗浄方法・洗浄剤には抜本的な変革が求められています！洗浄ノウハウをご紹…
ニット等に みられる先進電子デバイスは小型化・薄層化が進んでおり、それに伴い 微細接合向けはんだペーストの開発がより活況を見せています。 このような電子デバイスは長期的な高信頼性が求められ、フラックス洗浄が 必要となる場合も増加傾向にあります。 高密度実装や搭載部材の多様化により低スタンドオフを有する電子デバイスが 増加しています。 ※詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。 ※PDF...
メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社
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洗浄技術も進化が問われている！どのような点が問題となっているかなどを掲…
当資料は、高機能化製品におけるフラックス洗浄ついて解説しております。 実際に洗浄プロセスを構築しようとした場合、どのような点が 問題となっているのか、歴史的な背景も踏まえてご紹介。 難溶性物質への対応力やソルダリングの洗浄...
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【資料】先端電子部品の洗浄技術 メカニズムと残存汚れの評価法
コンタミネーション洗浄に着目！先端電子部品の性能を担保しうる「洗浄」の…
当資料は、先端電子部品の洗浄や洗浄後の分析方法について解説しております。 フラックス洗浄工程を筆頭とする接合後のコンタミネーション洗浄に 着目し、様々な技術の集合体である先端電子部品の性能を担保しうる 「洗浄」の在り方と、今後の展望に関して掲載。 是非、ご一読ください。...
メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社
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デジタル社会は新たな境地へ！5G下に求められるパワー半導体の姿などを掲…
当資料は、5Gにおけるフラックス洗浄の課題について解説しております。 注目を浴びる5Gの展望と、未来世界には欠かせない1つである 「パワー半導体」にスポットをあてご紹介。 5G下に求められるパワー半導体の姿や「洗浄...
メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社
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困難さが増しているイオン残留課題について！洗浄ノウハウをご紹介
エレクトロニクス市場はEV車やロボット・通信技術の研究開発がますます 進んでおり、新たな接合技術であるシンターも本格的に量産稼働の動きが 見えてくるなど、パワー半導体デバイスの勢いは衰えません。 今回のテーマであるイオンはドーピング工程やはんだペースト中の 活性剤などとして広く使用されており、電子デバイスにとっては不可欠な 存在となります。 また、最近の研究ではドーピング剤としてナトリウム・カ...
メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社
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見えないイオン残渣の有無の調べ方について！洗浄ノウハウをご紹介
フラックス洗浄を行っていて、洗浄後に残渣は見当たらないが、信頼性評価を 行うと局部的なマイグレーションや金属部分の腐食がみられる。 その不良の原因、見えない残渣(イオン残渣)の可能性が高いです。 放っておくと、様々な不具合が生じ、最悪の場合火災の原因にもなります。 当ページでは、見えないイオン残渣の有無の調べ方についてご紹介いたします。 ※詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます...
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洗浄用はんだペースト・フラックスを選択することでより確実な洗浄性の確保…
今回のテーマであるイオンは電子デバイスに不可欠ではありますが、 意図しないイオンがデバイス表面や電極間・低スタンドオフに 残留することで「イオン残渣」となります。 また、原料要因だけでなく環境要因も含め多岐に渡る混入経路から 供給されるため、残留量を0にすることは技術的に大変困難です。 今回は、実装部品ごとのイオン残留量を見極めるために、はんだメーカー様に ご協力をいただきました。 ※詳細内...
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