薬液供給装置（連続式）　P112

PRプロセス装置に連続で薬液を供給

本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である 【仕様】 ○外形寸法：W1720*D810*H2010 ○重量：約800kg 本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である。最大、2種類2系統の薬液を供給することが出来ます。希釈濃度や供給量など動作に関する詳細はご希望内容に対応させていただきます。...●その他機能や詳細については、カタログダウ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノメイト

フレキシブル半導体製造装置『SHUTTLELINEシリーズ』

PR薄膜堆積用PECVD・ドライエッチング・故障解析用プロセス対応。多機能…

『SHUTTLELINE(R)シリーズ』は、RIE/ICP-RIE、PECVD/ICP-CVDに対応し コンパクトながら高性能かつ多機能な半導体製造装置です。 成膜とエッチングプロセスを一台で実現し、様々なウエハサイズと形状に対応可能。 シャトルシステムにより、異なるサンプルサイズでもハードウェアの変更が不要です。 世界で広く採用されており、Plasma-Therm LLCの グ...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

流体システムの本当の脅威を除去するマグネットフィルター

流体システムの真の脅威とは？「摩耗の連鎖反応」とは？システム信頼性向上…

じでしたか？ 世界中で製造される製品の80-90%は炭素鋼製です。これが稼働による摩耗で超硬度・超鋭利な炭素鋼微粉となり流体システム循環により自由に動き回ると「摩耗の連鎖反応」と呼ばれる破壊的なプロセスが発生します。従来のろ過システム（フィルタ－エレメント式・マグネット式）では補足できなかったこれらの脅威の鉄微粒子をマグナムは確実にキャッチします。しかも一度捕まえた汚染物質は逃れることができませ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノサポート