シース外径Φ1.8mmのシーズヒーター『細径シーズヒーター』

PRシース外径φ1.8mmにより自由で複雑な曲げ、巻き加工が容易に。様々な…

一般的にΦ1.8mmなどのシース外径の細いヒーターは”マイクロヒーター”と 呼ばれます。”マイクロヒーター”は直線状の発熱線が使われているのが特徴 です。 弊社の『細径シーズヒーター』は、マイクロヒーターとほぼ同じシース外径 でありながら、コイル状に巻かれた発熱線を使用しています。そのため、 発熱線の仕様によってさまざまな抵抗値を選べるので、ご希望に合わせた ヒーター長、容量の細径...

メーカー・取り扱い企業： 新熱工業株式会社 本社

独自技術を採用したガラス加工用レーザー装置

PR高速かつ正確なガラス微細加工が可能。加工時の応力を抑えて、マイクロクラ…

『LPKF Vitrion M 5000 Gen2』は、独自に開発した「LIDEプロセス」を採用し、±5μm以下の高精度でガラス微細加工が可能なレーザーシステムです。 加工時の応力を最小限に抑え、チッピングやマイクロクラックの発生を防止。 アドバンストパッケージングで標準使用される150×150mmから 510×515mmまでの大型パネルに対応し、基板のサイズや 形状に合わせて柔軟に対...

メーカー・取り扱い企業： LPKF Laser&Electronics株式会社

高精度真空蒸着装置

360度回転／傾斜可能な試料ホルダ搭載で生産性が4倍に

基板状の試料表面に各種金属薄膜を成膜し、膜厚が正確に制御でき真空蒸着装置です。 膜厚依存性や蒸発レート依存性を調べるのに非常に便利な機能 ...特　徴： ・当社独自開発の360℃回転キュービック試料ホルダーを搭載、真空破らずに、4面蒸着可能で、蒸着効率が4倍向上 ・水晶振動型膜厚モニターを搭載、上記ホルダーとの相乗効果で、 より精密な膜厚が制御可能 ・上記ホルダーにより、斜め蒸着、...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マイクロフェーズ

バイオマス炭化賦活試験装置 　

省スペースで活性炭素を作る！バイオマス炭化賦活試験装置

木質バイオマスや廃紙類、廃プラスチックを利用度の高い活性炭に合成します ◆特徴◆ ・バイオマスの急速分解や真空での分解が可能 ・炭化と水蒸気賦活を連続的に行います ・高比表面積活性炭と高カロリーガスも同時生成されますので、 　オプションにて分解ガスの採取が可能 ◆オプション 　（放射温度計・分解ガス回収機構、SUSチャンバー、ガス回収ポート） ...木質バイオマスや廃紙類、廃プラ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マイクロフェーズ

ロータリーキルン式連続CVD装置

粉体の連続熱／CVD処理、連続CNT合成などに

反応管の傾斜と回転機構により、粉末試料の連続フィード／回収機構を有する連続CVD処理装置です。　粉末試料表面へのカーボコート、熱処理、CVD処理、ドープ処理などの大量生産が可能。 大面積の配向CNT基板や、多収量の粉末タイプCNTの大量生成に適します。...【特　徴： ・炉心管の傾斜角度および回転速度の調整により、粉末試料の素性に合わせた導入速度の調整が可能 ・試料導入用回転機構と、CVD処...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マイクロフェーズ

グローブボックスー真空蒸着装置　真空搬送試料ホルダー

水分や酸素を嫌う試料に金属を真空蒸着するための、試料準備・真空搬送ホル…

グローブボックスと真空蒸着装置の間に試料を大気に晒さずに真空搬送することができます。 特　徴： ・真空チャンバー構造を有する試料ホルダー ・コンパクトサイズで、グローブボックスの中に搬送可能 ・グローブボックス中での真空排気が可能 ・真空蒸着装置ではチャンバーの蓋が自動解放 ・オプションで、試料ホルダー回転機構を追加可能 ...【特徴】 ○300mmφウェハーやA4サ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マイクロフェーズ

グラフェンCVD成膜装置

炉のスライド移動による急冷機構を搭載

グラェン膜を合成するための管状炉熱CVD装置です 炉のスライド移動機構を搭載、サンプルの急加熱／急冷が可能　　　 オプションで、モータ駆動による自動スライド機能も追加可能　　 オプションで、ターボ排気ポンプの追加により、さらに高品質のグラフェンが成膜可能 ...・熱電対センサーを炉内に導入、試料温度を直接モニター可能 ・3系統のマスフローガス流量制御系、正確なガス制御が可能 ・コ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マイクロフェーズ

卓上CNT／グラフェン成膜装置

長尺粉体CNTや垂直配向CNTやグラフェン膜を簡単に合成できる卓上型C…

有機液体原料はもちろん、アセチレンガスや メタンガスなどの炭化水素原料ガスと、H2還元ガスの導入ポートも標準装備し、各種CNTの合成を簡単に実現できます。また、基板ヒーターの急冷が可能で、グラフェン膜も簡単に成膜できます。...【特徴】 ○触媒前駆体のフィラメント加熱機構を追加 ○配向CNTだけでなく、 粉末タイプCNTの大量合成も可能 〇基板や粉体表面へのグラフェンの成膜が可能 ●そ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マイクロフェーズ

粉体表面への真空蒸着装置

粒状や粉末タイプの試料表面に各種金属薄膜をコートするための真空蒸着装置…

蒸発源を上方から下向きに蒸発させることを可能にすることにより、固定できない粒子状試料への蒸着を可能にしました。...【特徴】 ○当社発案のバイブレーション試料台を搭載し、試料を振動・回転させながら蒸着が可能。 ○粒子の回転により、粒子各面に均一な蒸着が可能で、蒸着斑が大幅に改善が可能。 ○お客様の既存の真空蒸着装置に、当社バイブレーション試料台と逆さま蒸発坩堝を組み込んで搭載させることも可能...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マイクロフェーズ

管状炉CVD装置

長尺粉体CNTの生成、基板への垂直配向CNTの成長、粉体試料表面へのカ…

オプションで、アンモニアガスや、その他のCVDガスの導入ユニット、CVD反応用の固体や液体前駆体の導入ユニットを追加することにより、窒化処理、カルコゲナイド層状物質の成膜も可能です。...【特徴】 ○ 真空CVDモードおよび大気圧CVDモードを実施できます。 ○ マスフローガス導入システム標準装備 ○ ナノカーボン生成向けCVDプロセスレシピを開示 ●その他機能や詳細はお問い合わせくだ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マイクロフェーズ

卓上ナノ粒子作製装置

不活性ガス中で金属などの原料を蒸発させ、ナノ粒子をガス中で生成する装置…

材料種類やプロセス条件にもよりますが、一般的には、10－20nmのナノ粒子が生成されます。...【特徴】 ○生成したナノ粒子を基板に堆積させ、ナノ粒子膜を形成することが可能。 ○ナノサイズに由来する量子効果や発光特性などの新規物性の開発に適した実験装置 ○高周波（RF)加熱方式や、規模の拡張、高真空仕様など、ご要望の仕様にフレキシブルにご対応 ●その他機能や詳細はお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マイクロフェーズ

回転CVD炉

リチウムイオン電池用Si系や黒鉛系負極材表面への均一なCVDカーボンコ…

炉心管を回転させ、粉体試料を攪拌させながら、CVDプロセスを可能にした装置。攪拌作用により、均一なCVD処理が可能になる。...【特徴】 ○　炉心管をモータ駆動で可変の速度で回転可能 ○　真空CVDモードにおいても回転可能 ○ 　粉体試料の各種CVD処理に最適。 ●その他機能や詳細はお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マイクロフェーズ

ホットフィラメントCVD成膜装置 MPHF

ホットフィラメント（ホットワイヤー）を搭載したコンパクトな卓上型CVD…

試料近くに設けたWフィラメントを最大2000℃に加熱でき、各種反応ガスの分解を促進します。 ガス分解により生成された活性種（ラジカル）が試料表面に堆積して膜を形成します。...【特徴】 ○メタンなどの炭化水素ガスの高温フィラメント分解により、 導電性と耐食性が両立するダイヤモンドライクカーボン（DLC）膜が作製可能。 ○窒素前駆体をフィラメント加熱機構により加熱分解させることによって、アンモニ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マイクロフェーズ

酸化亜鉛ナノロッド生成装置 MPZNO

基板上にZnOナノロッドを形成する装置です。

Znを酸素含有雰囲気中で蒸発させながら、基板上に垂直配向ZnOナノロッドを成長させる仕組みです。...【特徴】 ○ Au触媒膜なしのシリコンや石英などの基板にも垂直配向ZnOナノロッドが生成可能。 ○テトラヘドラ状ZnOウイスカー粉末も生成可能。 ○サファイア基板にも垂直配向ZnOナノロッドが生成可能。 ●その他機能や詳細はお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マイクロフェーズ