FPD・半導体用 ガラス基板搬送ケース※1個から生産可能

PRG１～G６ｈの様々なサイズにも対応。精密・高品質なガラス搬送ケースの製…

当社の『ケース事業』では、お客様のニーズに合わせて、ケースの製作・ 修理・洗浄・保管から輸送までトータルシステムをご提案します。 精密・高品質なガラス搬送ケースの製造・クリーンルーム洗浄から物流 支援まで幅広く手掛けています。 また、長年培ってきたガラス精密加工技術をベースに、フラットパネル ディスプレイ用（LCD・OLED）フォトマスク用・メタルマスクのケースなどの 先端分野...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ディー・アール・エス（DRS)

【高効率量産向け】微細高密度混載実装印刷用メタルマスク

PR【展示会にてサンプル展示予定】プリント基板との版離れ性が向上！有機溶剤…

『ecoface』は、SUSのプリント面、開口壁面に、ディンプルを形成したメタルマスクです。 スムーズな版離れを実現することで、面内におけるはんだ体積のバラツキを抑制することが期待できます。 【特長】 ■特殊な表面によりプリント基板との版離れ性が向上 ■有機溶剤、アルカリ耐性がある ■納期は従来のメタルマスクと同等 また、2024年6月12日(水)～14日(金)に東京ビッグサイトにて 開催され...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社プロセス・ラボ・ミクロン

SUSS MicroTec 手動マスクアライナMJB4

最大4インチ角基板対応 手動露光機

ズースマイクロテックMJB4は最大4インチ角基板まで対応可能な手動式マスクアライナ(露光装置)です。 シンプルな操作性、高精度アライメント、高い露光解像性が特徴です。 研究開発用途以外に少量生産用途でもご使用頂けます。...

メーカー・取り扱い企業： 兼松ＰＷＳ株式会社

半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』シリーズ

高速半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』

『ULTRA』は、半導体用マスク作成に適した、高速高解像度レーザー描画装置です。 『ULTRA』高生産性、高精度性、高均一性、超高精度位置合わせ精度を備えるコスト性の良いマスク描画装置です。...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

レチクルケース(フォトマスクケース)「クリーンな環境での使用可」

露光装置及び、周辺装置用のレチクルケース。主要露光装置メーカーの露光装…

レチクルケース(フォトマスクケース)は、半導体の製造工程で使用されるレチクルを保管するケース。主要露光装置メーカーでの露光装置に使用可能。 【特徴】 ■高帯電防止性能 　高帯電防止性能により、静電気等も安心 ■低...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

オート式露光装置

190WPHの高スループットを実現したマスクアライナ

サーチを行うオートアライメントを採用しました｡また､安定した視認性を実現するために､顕微鏡のハロゲン照明は画像処理により､照度減衰もフィードバックする新機構も搭載しています｡ オペレータはフォトマスクとウエハをセットし､あらかじめ記憶されている露光レシピを選択するだけで､ウエハ搬送からフォトマスクとの位置合わせ､露光までをオートで行うことから､オペレータや使用経験に依存しない､安定した精度での...

メーカー・取り扱い企業： ウシオライティング株式会社

両面マスクアライナー

両面アライメントと、プロキシミティおよびソフトコンタクト露光が可能

ウェハ、ガラス基板などのフォトリソ工程において、ガラスマスクとワークをアライメントし、板上にコーティングされたフォトレジストに、微細なマスクパターンを転写するマスクアライナーです。...

メーカー・取り扱い企業： ウシオライティング株式会社

マニュアル露光装置

顕微鏡オート移動など､生産性､使い勝手に優れたアライナ

2インチウエハ対応のマニュアル露光装置です｡ オペレータがマニュアルでウエハをセットする露光装置です｡4インチのガラスマスクを使用し､フォトマスクとウエハのアライメントマークを顕微鏡で撮像､モニタに写しだされた画像を見ながらの位置合わせと､露光ギャップ設定を行うことで､露光が可能です｡ なお､露光スイッチを押すと自動...

メーカー・取り扱い企業： ウシオライティング株式会社

自動搬送露光装置

搬送系はローラコンベア方式でインラインとして利用可能！

ガラス基板などのフォトリソ工程において、ガラスマスクとワークをアライメントし、ソフトコンタクト露光で微細なマスクパターンを転写する露光機です。...

メーカー・取り扱い企業： ウシオライティング株式会社

レーザー直接描画装置『DWL 66＋』

研究開発向け高性能レーザーリソグラフィ装置

『DWL 66＋』は、研究開発用途および小ロット生産やマスク作成やマスクレス露光に適した、高解像度のレーザー直接描画装置です。 マイクロストラクチャの製作と分析に必要な機能を、標準システムとして 装備。 処理能力が高く、また、対応範囲も広いた...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

高速レーザー描画装置『VPG⁺ シリーズ』

高速パターン・ジェネレータ

『VPG＋シリーズ』は、高速な露光速度により、大型マスク製造、レジストマスター作成、さらには様々な平面基板にも直接描画に対応できる高速露光システムです。 半導体、ディスプレー、センサー、MEMS、先端パッケージング、LED生産、ライフサイエンス、...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

レーザー描画装置『DWL 2000 GS』シリーズ

高速高解像度レーザー露光装置

400mm²あり、MEMS、BioMEMS、Micro-Optics、ASIC、Micro Fluidics、センサー、ホログラム、および微細構造を必要とするその他すべてのアプリケーション用途でのマスクやウェーハへの高速高精度パターニングが可能です。 グレイスケールリソグラフィー用途において表面粗さ精度を高めるために、1000階調のグレイスレベルをサポートしています。 【特長】 ■...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

マスクレスアライナー『MLA150』

0.6umの微細描画が可能な高速マスクレスアライナー

マスクレスアライナー MLA150は、マスク不要の非接触レーザー露光装置です。卓越した使いやすさ、および高速性により、ラピッドプロトタイピング、少量から中量生産、および研究開発環境における理想的なレーザー直接描画方式の、マスクレス露光装置です。 2015年に初めてマスクレスアライナーシリーズが発表されて以来、革新的で最先端のマスクレステクノロジーが確立されました。MLA150は従来のマスクアライナーに代...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社