5種類の六角レンチとドライバーが１つに！六角レンチ マルチツール

PR【六角レンチ専門メーカーが作るこだわりの逸品】6種の工具が1つになって…

このマルチツールは2mm～6mmの六角レンチと、No.2のプラスドライバーを１つにした株式会社エイトのオリジナル製品です。 六角はエイト特製のテーパーヘッドとなっており、斜めから差し込んでもきっちりと噛み合い、スリップしません。 また、独自に開発した特殊合金鋼で出来ており、耐摩耗性・ねじり強度が抜群に優れています。 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。...※詳...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイト

ピコ秒（ps）分解能で長い時間差を作る／測る

PRT560 ディレイ／パルス発生器で時間差を作り、MCS8A マルチスト…

◆T560 ディレイ／パルス発生器 　・ディレイ時間とパルス幅が4チャンネル個別に指定でき、10ps刻みで最大10 秒まで設定可能 　・入出力遅延（インサーション・ディレイ）：21ns 　・最大トリガ・レート：16MHz ◆MCS8A マルチストップTDC/TOF 　・複数のイベントタイムを記録できる8入力のデジタイザ 　・STARTとSTOPの間の時間差を、80psの分解能で最大8....

メーカー・取り扱い企業： 大栄無線電機株式会社

Aera Transformer　デジタルマスフローコントローラ

コスト削減に寄与する汎用性に優れたMFC

らびに高速デジタル回路を搭載して、精密なガスフロー制御を実現します。優れた信頼性と卓越した応答性、正確性、再現性を誇り、汎用性に富んだ、お客様が重点を置く価値や機能に合ったシングルガス対応ならびにマルチガス・マルチレンジ対応MFCを取り揃えています。...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社

Aera FC-DR980　デジタルマスフローコントローラ

優れた汎用性を備え、多くのシステムに対応する先進のデジタルMFC/MF…

既存の主な制御方式および通信方式に合わせて使用するため、様々な出力形態に応じてアナログまたはデジタル制御を行います。本製品には、お客様のご要望に応じて、シングルガスモデル、マルチガス・マルチレンジモデルをご用意しています。 マルチガス・マルチレンジモデルは、スペアMFCの在庫の大幅削減に寄与する事でコストダウンを図っています。また、流量のモニタリングと制御を総合的に行う...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社

酸化膜／窒化膜プラズマCVD装置

広範な膜特性の制御可能！大幅なパーティクル低減および生産性を向上します

プラズマCVD装置』は、2周波独立印可方式により、 低応力、高硬度、高絶縁性を実現します。 ラジカルプラズマクリーニングシステムによる大幅なパーティクル低減 および生産性を向上。 マルチチャンバ仕様や各種オーダーメイドも製作可能ですので、 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■2周波独立印可方式により、低応力、高硬度、高絶縁性を実現 ■優れた膜厚分布...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

CVD、PECVD横型炉装置『EVADシリーズ』

フロー管理システムが搭載！粉体へも高温でのCVD/PECVDによる処理…

『EVADシリーズ』は、ガス、蒸気、液体や固体原料から合成・成膜可能な、 CVD、PECVD横型炉装置です。 シングルゾーン、マルチゾーンによる温度分布を制御し、 回転機構付き高品質ステンレス製チャンバーにより粉体へも 高温でのCVD/PECVDによる処理が可能。 PLASMICON制御システムにより全自動プロセス、...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

立体物用プラズマCVD装置

高い汎用性を備えたシンプルな構造！独自のプラズマ制御方式を採用していま…

ズマCVD装置』は、豊富な蓄積データを有し、 独自のプラズマ制御方式を採用しています。 チャンバー容積は1m3。 多段式大量一括処理可能で、高い汎用性を備えたシンプルな構造です。 マルチチャンバ仕様や各種オーダーメイドも製作可能ですので、 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■チャンバー容積：1m3 ■独自のプラズマ制御方式 ■多段式大量一括処理可...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

Aera PI-980　プレッシャーインセンシティブＭＦＣ

明日のプロセスニーズに応える次世代PI技術

のサーマル式の構造に、圧力センサ、温度センサならびに当社独自のNeuralStep制御技術を一体化することによって、従来型の製品に使われていたハイコストなガスパネル部品の必要性を減少します。また、マルチガス・マルチレンジ機能により、予備在庫の必要性が劇的に減り、コスト効率の改善にいっそう貢献します。 この次世代MFC技術は、統合診断機能に加え、フィールドですでに実績のある当社のD980シリーズ...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社

多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF300W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

CVD装置『ナノカーボン堆積装置』

3種類の堆積装置をラインアップ！用途に合わせてお選びください

■チャンバー：SUS304、架台 ■基板ステージ：800℃、2インチ基板×1枚、上下ベローズ ＜大面積ナノカーボン堆積装置(LCND-200)＞ ■プラズマ源：RF13.56MHz・5kW・マルチホローCCPシャワーヘッド ■チャンバー：SUS304、架台 ■基板ステージ：800℃、8インチ基板×1枚 ＜PNナノカーボン堆積装置(NCD-050W)＞ ■プラズマ源 　・水素ラジカ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社片桐エンジニアリング

【オーダーメイド製作実績】CVD装置

「金属容器用プラズマCVD装置」「ICP型MOCVD装置」などの実績を…

【その他の製作実績】 ■ガラス基板対応量産型マルチチャンバ仕様プラズマCVD装置 ■ICP型MOCVD装置 ■基礎研究開発用φ12インチ対応ALD装置 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング プラズマエッチングステージRF300W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社