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32件 - メーカー・取り扱い企業
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44件 - カタログ
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PR【超高圧ジェットでメタル＆レジスト除去】ASAP専用ノズルで、枚葉によ…
【特長】 ■最大20MPaの超高圧ジェットを噴射 ■リフトオフ時のバリの除去 ■メタルの再付着なし！ ■薄いウエーハでも割れる心配なし ■レジスト、ポリマー、 マスクの洗浄としても使用可能 ■薬液のリサイクルシステム （オプション） 超高圧ジェットリフトオフは熱やプラズマの影響で取れづらくなったレジストをきれいに除去可能！ 昔はDIPプロセスで簡単に除去できていたものがだん...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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現像速度測定・評価装置。現像中のレジストの膨潤挙動も評価できます。
レジスト現像アナライザ RDA-Qz3はQCM（クォーツマイクロバランス）法を用いた現像速度測定・評価装置。現像中のレジストの膨潤挙動も評価できます。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...
メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社
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2連式蛍光灯でも取付可能
【特徴】 ○ゴールドシールド ・白色蛍光灯に装着するだけで530nmまでの波長をカット ・通常のフォトレジスト工程に最適 ・蛍光灯のガラスの飛散防止にも最適 ・寿命は8年以上のため、従来の黄色蛍光灯と比べてコストダウンを 実現できます。(保証期間５年) ●その他機能や詳細については、カタログ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヒロテック 東京営業所
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レジスト対応型直管『P-TUY-40152050-IN-G』
虫が好む紫外線領域も大幅にカットするため、防虫効果も絶大なLEDライト…
『P-TUY-40152050-IN-G』は、通常の15W2,000lmのLED管に収縮性のあるイエローフィルムを装着させた、低コストで高性能なレジスト対応型製品です。 半導体工場やクリーンルームに適しています。 また、防虫効果もあるので食品工場や倉庫などの出入口やトラックヤードにも適しています。 現場ごとの要求にお応えし、ご要望のス...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ペンタクト
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EQ-10 EUV光源を搭載、極端紫外光対応解析露光装置
レジスト解析用EUV露光装置EUVES-7000は、米国Energetiq Technology社製EQ-10 EUV光源を搭載し、波長13.5nmの極端紫外光露光に対応したオープンフレーム露光が行えます。...
メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社
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最大25箇所、露光条件を変えてオープン・フレーム露光が可能。
フォトプロセス解析露光装置 UVESシリーズはフォトレジストの研究開発用露光ツールです。ステップ露光することで最大25箇所、露光条件を変えてオープン・フレーム露光が可能です。露光されたサンプルをレジスト現像アナライザを用いて現像解析することにより、フォトレ...
メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社
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【無料進呈・全48ページ】産業空調の概論や原理、性能比較に用いる数値の…
設置できるモデル、制御盤の天井に設置できるモデルなどをラインアップ ＜精密空調機「PAUシリーズ」＞ ・局所空間における温湿度、清浄度を高精度で管理可能 ・半導体へスピンコーターを用いたレジスト塗布を行う際の粘性変化・揮発抑制で活用可能 ・露光装置、スクリーン印刷機、精密加工機、打錠機などの製造条件管理にも好適 ※製品について詳しくはお気軽にお問い合わせください。...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社アピステ
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アピステのチラーはノンフロン・高耐久・超ワイドレンジの3シリーズ展開！…
ンク】 保管液体の品質を安定させることで、製品の高品質化や、生産性の向上を実現します。 食品業界：原料の温調、攪拌工程、醸造工程 化学・樹脂業界：原料の温調、反応熱の除去 電気・電子業界：レジスト液の粘度安定化など ーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーー 【選べる3シリーズのチラー】 1.PCU-NEシリーズ：ノンフロン冷媒を使用し、フロン排出抑制法の対象外 ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社アピステ
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アピステのチラーはノンフロン・高耐久・超ワイドレンジの3シリーズ展開！…
CUシリーズで液体の温度を安定させることで、製品の高品質化や、生産性の向上を実現します。 食品業界：原料の温調、攪拌工程、醸造工程 化学・樹脂業界：原料の温調、反応熱の除去 電気・電子業界：レジスト液の粘度安定化など ーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーー 【選べる3シリーズのチラー】 1.PCU-NEシリーズ：ノンフロン冷媒を使用し、フロン排出抑制法の対象外 ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社アピステ
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UV-LED向け放熱対策、紫外線対策、あなたの悩みを解決する基板をご提…
体型の基板。 【UV-LED向けUV対策基板】 ■ハイブリッド基板 紫外線によるコネクターの劣化を防ぐために開発した、銅ベース基板とガラエポ基板を組み合わせたハイブリッド基板。 ■無機レジストコート基板 UV-C 領域の仕様でも高反射率を保持、長期信頼性を要する無機レジストコート基板。 ※詳しい基板の特長に関しては資料をダウンロード頂くか、 お気軽にお問い合わせください。 ...
メーカー・取り扱い企業： アロー産業株式会社
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500μm厚までの厚膜レジストやポリイミドを非接触で高精度測定。
自動レジスト膜厚測定装置 KV-300/KF-10は従来安定した膜厚測定が困難とされていた超厚膜レジストを非接触で高精度な測定ができます。標準搭載の自動マッピング機能は、高精度自動ステージにより基板の面内膜厚...
メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社
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接着剤や界面活性剤を一切使用しない為、溶出が極めて低いメンブレンフィル…
』は、ろ材にろ過精度の高いPTFE膜、構成部材に HDPEを使用しており、有機溶剤に優れた耐薬品性を持つフィルターです。 接着剤や界面活性剤を一切使用しない為、溶出が極めて低く、 フォトレジスト・レジスト原料・現像液・エッチング液など、 高純度薬液のろ過に適しています。 特にレジスト中のゲル状異物を効果的にろ過できます。 【特長】 ■ろ材にろ過精度の高いPTFE膜、構成部...
メーカー・取り扱い企業： 日本コベッタ株式会社
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フォトレジスト現像速度解析評価装置
レジスト現像アナライザRDAシリーズは、フォトレジストの現像速度測定、コントラストカーブ、感度の算出などの現像特性解析が迅速に行えます。また、リソグラフィシミュレータに必要なレジストモデリングパラメータを正確に決定することができます。...
メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社
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レジスト膜の乾燥などに好適！製品や材料の寸法、種類に応じて様々なご要望…
半導体工業におけるウエハーの焼鈍やレジスト膜の乾燥、 光学分野での 洗浄後のレンズ乾燥および医療器材の無菌乾燥等は高温・高清浄度環境で 制御された「クリーンオーブン」が好適です。 当社では、庫内温度60～200℃の”標準”や、蒸...
メーカー・取り扱い企業： 日本エアーテック株式会社 本社
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ハイパワーモジュール、UV-LED向け放熱対策、UV-LED向け紫外線…
板とガラエポ基板を組み合わせたハイブリッド基板。 部分的にスルーホール形成する事で、メタルベース基板で有りながら裏面にコネクター等、部品実装が可能となり紫外線より部品の劣化を防止。 ・無機レジストコート基板 UV-C 領域の仕様でも高反射率を保持、長期信頼性を要する無機レジストコート基板。 UV光での劣化対策・高反射材として基板に塗布して使用。...
メーカー・取り扱い企業： アロー産業株式会社
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フォトレジストの高度な評価を行う、さまざまな装置を提供します。
T-IR室内にベークプレートを配置し、加熱しながら官能基の変化を観察できます。 ○紫外線(248nm)照射装置も搭載されており、露光中における酸発生のメカニズムなどの解析にも利用できます。 ○レジスト膜厚75nmでの測定を可能。 ○EUVリソのような超薄膜レジストプロセスの解析に最適。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...
メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社
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