レジスト | イプロスものづくり

PR【超高圧ジェットでメタル＆レジスト除去】ASAP専用ノズルで、枚葉によ…

【特長】 ■最大20MPaの超高圧ジェットを噴射 ■リフトオフ時のバリの除去 ■メタルの再付着なし！ ■薄いウエーハでも割れる心配なし ■レジスト、ポリマー、マスクの洗浄としても使用可能 ■薬液のリサイクルシステム（オプション）超高圧ジェットリフトオフは熱やプラズマの影響で取れづらくなったレジストをきれいに除去可能！昔はDIPプロセスで簡単に除去できていたものがだん...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

FOUP洗浄装置

PR特殊な高圧ノズルを使用し、ケミカル未使用で洗浄及び乾燥が可能な装置です

【環境負荷低減】・洗浄液は純水のみ使用・他社製品に比べ純水の使用量が少ない【高い洗浄能力】・独自の洗浄処理で残渣とパーティクルの洗浄が可能・温風を瞬時に発生可能（常温→65℃まで3秒）　・FOUP BOXと蓋を別々に洗浄することが可能・瞬間加熱式の採用で頑固な接着剤や粒子を迅速に洗浄可能・高圧洗浄によりレジストなどの高い付着力を持つ汚染物の除去が可能 *Max 約10MPa（15...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ダルトン

フォトリソ工程洗浄剤　NDシリーズ

フォトリソ工程装置内（ノズル、搬送ローラー、槽壁等）に固着したレジ…

ドライフィルムレジスト(DFR)現像槽、剥離装置、ソルダーレジスト(SR)現像装置に付着したスカムをスプレイ処理により擦らず、簡単に除去可能なフォトリソ工程洗浄剤です。消泡剤不要であり、溶解許容量まで繰り返し使用する事...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ADEKA

枚葉式プラズマアッシング装置（ＳＷＰシリーズ）

ダメージレス・ハイスループット・多用途対応　ハイエンドデバイス・化合物…

ズマによるダメージレスアッシングを実現。表面波プラズマ（ＳＷＰ）によるハイレートアッシングと２室装備されたアッシング室によりハイスループットを実現。アッシングだけでなくＲＩＥ室の装備により特殊レジスト・有機膜野除去にもまたイオン注入後の硬化レジスト除去に対応。表面部の硬化レジストの除去とレジスト下層のダメージレスアッシングの両立を実現。コンパクトな枚葉式ロードロック室とツインハンドロボット...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店

【加工技術】エッチングの工程

パターンフィルム作成から検査・出荷まで！問題のないものをお客様のもとへ…

当社で行っている、エッチングの工程についてご紹介いたします。最初に、お客様からいただいた図面やデータをもとにCADにてパターンフィルムを作成。油分や被膜などの除去、レジストラミネートなどを実施。製品には非常に高い精度が要望されます。寸法検査、外観検査など万全の品質管理を実施し、製品として問題のないものをお客様のもとへお届けいたします。【工程内...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ケミカルプリント

半導体関連装置「ウェット式エッチング装置」

ドラフト構造でクリーンルーム仕様！エッチング処理やレジスト除去する装置

「ウェット式エッチング装置」は、半導体関連で使用される各ウェハーをバスケットに入れ、X-Y-Zロボットにて、エッチング処理やレジスト除去の作業を行います。発生ガス、及び空気は、薬品系、有機溶剤系に出来るだけ分けた状況での排気が可能。使用不可となった薬液（フッ酸、塩化鉄）と、有機溶剤（アセトン）は付設の専用タンクへ一括...

メーカー・取り扱い企業：オーエヌ総合電機株式会社

銅表面処理剤　アデカテックCA-1、テックCL-8

銅の表面処理を施し、様々な機能を付与することで各種レジスト材料との密着…

化水素が主成分である銅箔化研処理剤です。硫酸との混合比を変えることで削り量と粗さを変えることができるため、複数の工程用途に対し柔軟に対応することができます。また、低化研量域においてもドライフィルムレジスト(DFR)との高い密着性を維持することができます。＜テックCL-8＞水との希釈倍率を変更することで、任意のエッチング速度を得ることができる１液タイプの銅表面処理剤です。また耐塩素性の...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ADEKA

FPCエッチング装置

当社独自の搬送ロール配列及びスプレー配置！回収部分は作業者がアクセスし…

『FPCエッチング装置』は、FPC（Flexible Printed Circuits）をRtoR方式で連続エッチングする製品です。 レジスト種類に問わず剥離カスを連続回収。回収部分は作業者がアクセスしやすい構造にしていますので、メンテナンスが容易です。当社独自の搬送ロール配列及びスプレー配置により、製品の配線パターンに ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社トーア電子

剥離装置　剥離・アルカリエッチングライン

高精度なアルカリエッチングが可能な、高精度処理タイプです。

ンは、高精度なアルカリエッチングが可能な、剥離装置です。ファイン用ノズル配列とオシレーションシステムにより均一な面精度が出せます。上エッチングは個別圧調でさらに高精度です。スプレー除去中に発生するレジストの微細片を処理するカス取り機構が付いています。詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社二宮システム

レジスト剥離洗浄装置　※テスト可能機種あり

循環方式が多彩なウェットプロセス洗浄装置

・多彩な揺動機構を準備しています。手動タイプから全自動タイプまで、仕様やご予算に合わせてご提案します。【オプション機能】 ○漏洩センサー ○排気圧センサー ○非常停止スイッチ ○一時停止スイッチ（自動メカ付） ○扉センサー（自動メカ付） ○圧力スイッチ ○温度センサー（恒温度仕様） ○自動消火システム ○パトライト ○網入りガラス又は強化ガラス ○爆圧ハッチ ○各種...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ダルトン

アルマイトエッチング銘板 [レジストエッチング]

装飾性と耐久性を兼ね備えた銘板！！シャープな表現が可能！！

アルマイトエッチング銘板とは、ネーミングの通りアルマイトとエッチングの技法を合わせた銘板です。エッチング部分（凹部）や素地部分（凸部）にアルマイト処理を施し、文字や図柄を表現する製品です。詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをダウンロードして下さい。...【特長】 ○特殊な液でエッチングするため輪郭がシャープに表現できる ○表面処理の特性を活かした透明度のある独特な高輝度染色法は、 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社トーホー本社

イオンビームミリング・エッチング装置-伯東/エヌエス

Au, Pt, 磁性材料等の難エッチング材料の加工に最適なドライエッチ…

（２）金属多層膜をワンステッププロセスで加工可能（３）自公転ステージにより、複数ウエハを均一に同時処理可能（４）基板冷却ステージ(水冷 or 水冷/ガス冷)により基板温度上昇を抑制し、レジスト焼け防止（５）ステージ角度可変のため、テーパー加工が容易（異方性エッチング）...

メーカー・取り扱い企業：伯東株式会社本社

蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab】

2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ、…

/DC基板バイアスステージ」による基板表面のプラズマクリーニング、又、同社独自の『ソフトエッチング』技術による<30W 低出力・ダメージレスプラズマエッチングステージも搭載可能。2D（PMMA等のレジスト除去など）、グラフェン剥離、又、テフロン基板などのダメージを受けやすい繊細なエッチングプロセスも可能。（*メインチャンバーステージへも搭載可能です）...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

プラズマエッチング装置「ＥＸＡＭ」サンプルテスト受付中

コンパクトなバッチタイプでサブミクロンのエッチングに対応、サンプルテス…

バッチタイプでサブミクロンのＳｉ酸化膜のエッチングに対応。ＳｉＮ、Ｓｉ系薄膜だけでなく高融点金属や難エッチング材にも対応石英の垂直性エッチング、厚膜レジストの微細加工等ニッチデバイスの加工に最適。プラズマモード切替によるマルチステッププロセスでアッシングやクリーニングまで幅広い用途に積極対応...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店

【資料】Cu/Moエッチング液 SDM ver.69

Cu/Mo膜をエッチングすることが可能な薬液をご紹介します！

の断面図や、CD上/CD下/T角の結果を表でご紹介しております。【掲載内容】 ■薬液開発による課題解決提案 ■PESENG製品使用部位 ■TFT製造工程～金属配線加工用薬液＋樹脂レジスト剥離液～ ■金属配線加工用薬液 ■PESENG基板実験条件概要 ■SDMver.69評価試験～Cu0-15kppm～ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：パナソニック環境エンジニアリング株式会社本社

【資料】Cu/Moエッチング液 SDM ver.70

Cu/Mo膜をエッチングすることが可能な薬液をご紹介します！

。 Cu15kppmまでの全7パターンの結果をご紹介しております。【掲載内容】 ■薬液開発による課題解決提案 ■PESENG製品使用部位 ■TFT製造工程～金属配線加工用薬液＋樹脂レジスト剥離液～ ■金属配線加工用薬液 ■PESENG基板実験条件概要 ■SDMver.70評価試験～Cu0-15kppm～ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：パナソニック環境エンジニアリング株式会社本社

ソフトエッチング装置【nanoETCH】＜30W低出力

＜30W（制御精度10mW）低出力RFエッチングによる、精細でダメー…

【特徴・主なアプリケーション】 • 2D（遷移金属カルゴゲナイド, 材料転写後のグラフェン剥離）：表面改質クリーニング • PMMA, PPA等のポリマーレジスト除去 • テフロン基板などのダメージを受けやすい基板での表面改質、エッチング • h-BNサイドウオールエッチング（*『フッ化ガス供給モジュール』オプション, SF6ガス系統要） • SiO...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社