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PR新型デジコンと高精度湿度センサー採用!ドライユニット内の特殊乾燥剤は半…
『ドライ・キャビ HYP2シリーズ』は、新型デジコンにより庫内の湿度を 正確にコントロールできる超低湿度用防湿庫です。 高精度湿度センサーの採用により正確に表示することが難しかった5%RH以下の 湿度を正確に表示。超高速除湿のHYP・DUSに湿度設定と自動省エネの機能が 付いて高性能化しました。 使い易い全面ワイドドア(マグネットパッキン式)で、中央支柱がないので、 横長のもの...
メーカー・取り扱い企業: トーリ・ハン株式会社
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PR低抵抗・高放熱を実現する銅ペースト。200℃以上の加熱で焼結し、大気硬…
当社の『熱硬化型焼結銅ペースト』は、半導体パッケージに対し 低抵抗・高放熱といった優れた性能を付与できる樹脂含有型ペーストです。 さらに200℃以上の加熱で焼結するほか、大気硬化も可能です。 半導体パッケージの高集積化などへの対応に必要な特性を備えています。 【特徴】 ■銀ペーストと同等の電気的特性を保持しながら、イオンマイグレーションを低減 ■独自の特殊処方で硬化中の酸化を防ぎ、大気硬化によ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ADEKA
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PILLAR社 大気圧プラズマ表面処理装置『Protean1』
プラスチックフィルムの濡れ性・接着性改善など多用途で活躍。コロナ処理よ…
『Protean1』は、食品包装フィルム、光学フィルム、不織布、 金属コイルなど多用途で活躍する大気圧プラズマ表面処理装置です。 窒素ベースの混合ガスにより、基材の表面に反応性の高い官能基を形成。 フィルムの濡れ性・接着性向上、不織布の親水性・通気性効果改善などが可能です。 国内にテスト機がございます。 お客様のワークに応じて適した条件・ガスをご提案致します。 【特長】 ...
メーカー・取り扱い企業: 伊藤忠マシンテクノス株式会社
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IonPOWDERによる粉体の革新的な表面処理。 粉体へのイオン注入…
2, SiH4, 混合ガス) ・装置はレシピで動作可能 ・PVD(physical vapor deposition)機構も、増設できます。 プロセスの利点 低温表面処理:元の材料特性が保持されます。 コーティング不要:イオンが深部までで注入されるため、表面は剥がれません。 部品の形状を尊重:追加の加工が不要です。 精密で局所的な表面処理:プロセスの最適化が可能です。 サンプル...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社マツボー
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小型電子部品(面実装タイプ)の側面電極形成をドライ化。PVD(イオンプ…
電極の形成も密着層・接合電極も同一真空槽で一括形成。成膜前に効果的なプラズマクリーニングも同一バッチで実施。シンプルな装置構成で多層・マルチステップ処理を実現。 部品寸法・形状に合わせ治具や基板保持方法の細かく対応。信頼性の高い基本ハードとカスタマイズで多様な基板と生産ラインに対応。 ...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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あらゆる用途に対応可能な高性能装置。調整後はボタンひとつでOK!
防ぐバイパス排気管自動切換えシステム搭載。 ○調整操作もラクラク!黄色SWを右から順に押していくだけです。 ○繰り返し処理を行う時は緑SWを押すだけで全自動処理します。 ○試料チャンバーは真空保持が可能。真空保管装置としてもご利用いただけます。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社真空デバイス
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マニュアル操作により化合物半導体ウエハ(GaAs,InP,GaP)を非…
ウエハとの距離に応じてその内部をエゼクタ効果およびベルヌーイ効果により負圧にし、また圧力室型エアクッション効果および気体流のクッション効果により正圧にすることにより、InPウエハを非接触状態にて懸垂保持する機能を有しております。 ...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社ソーラーリサーチ研究所 大阪事業所
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低温域の処理において、窒素拡散だけではなく、炭素拡散も有効な表面硬化法…
【試験仕様】 ■固溶化熱処理条件(真空炉):1030℃×80分保持後、窒素ガス冷却(130Kp) ■DCI処理条件:420℃×25時間 / ガス比(CH4:H2)=1:20 / 真空度(Pa)=665 ■TP形状:50×50×1.2t ※詳しくはPDF資...
メーカー・取り扱い企業: 朝日熱処理工業株式会社
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